一种团簇离子束纳米加工设备及其加工方法

    公开(公告)号:CN106829855A

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201611153306.6

    申请日:2016-12-14

    Inventor: 李应高 杨光永

    CPC classification number: B82B3/0004 B82B3/0085 B82Y35/00 B82Y40/00 H01J37/252

    Abstract: 本发明提供了一种团簇离子束纳米加工设备,包括进料装置、分级负压发生器、主轴电机、压力腔、物料预处理单元、纳米团簇离子束单元、纳米团簇粒径实时检测单元、出料装置以及电气控制系统;还提供了一种团簇离子束纳米加工方法,包括对所述物料进行预处理,研磨成游离磨料;实时检测所述游离磨料粒径,当所述游离磨料达到亚微米级时,进行偏转、加速和对撞加工,分解成纳米团簇;实时检测所述纳米团簇粒径,满足设定条件时进行卸料。本发明通过实时检测纳米团簇粒径,保证了纳米团簇粒径的一致性和稳定性;采用游离磨料预处理和纳米团簇的能量束碰撞相结合的加工方式,保证纳米材料的粒径和纯度要求,最大限度地减少组份偏差和物相污染。

    图像型电子自旋分析器
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104345331A

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201310313572.0

    申请日:2013-07-24

    Abstract: 本发明提供一种图像型电子自旋分析器。所述图像型电子自旋分析器至少包括:散射靶、二维图像型电子探测器、以及电子弯转单元;其中,电子弯转单元用于使入射电子聚焦后弯转第一角度后、以最优入射角聚焦入射至散射靶以及使散射靶散射出的出射电子聚焦后弯转第二角度后、以最优出射角聚焦出射至二维图像型电子探测器,且入射电子的运动轨道与出射电子的运动轨道分离,第一角度及第二角度中至少一者不为00;从而可以分别实现电子自旋分析器初始平面处电子图像到靶平面的第一次二维成像及从靶平面到二维图像型电子探测器平面的第二次二维成像,进而实现电子自旋的多通道测量;而且电子弯转单元的引进可以增加自旋分析器各个组件的几何配置的自由度。

    一种团簇离子束纳米加工设备控制装置及其控制方法

    公开(公告)号:CN106829856A

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201611155530.9

    申请日:2016-12-14

    Inventor: 李应高 杨光永

    Abstract: 本发明提供了一种团簇离子束纳米加工设备控制装置及其控制方法,包括系统控制板、人机交互模块、过程控制模块、数据采集模块、纳米加工控制模块以及物料输送模块,所述人机交互模块、过程控制模块、数据采集模块、纳米加工控制模块以及物料输送模块分别与所述系统控制板电连接;还提供了一种团簇离子束纳米加工设备的控制方法,包括对纳米材料的参数进行设置;实时管理并以并行处理方式执行加工工序;实时检测纳米团簇粒径,满足设定条件时进行卸料。本发明提供的团簇离子束纳米加工设备控制装置及控制方法实现了纳米团簇粒径的一致性和稳定性,最大限度地减少组份偏差和物相污染,大幅度地提高了系统的动态响应性能。

    获取EBSP图样的方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105388173A

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:CN201510644709.X

    申请日:2015-08-25

    Applicant: FEI公司

    Abstract: 本发明涉及获取EBSP图样的方法。本发明涉及一种获取带电粒子设备中的样品(126)的能量背散射图样(EBSP)图像的方法,所述样品显示出一个平坦表面,所述带电粒子设备被装配有用于产生精细聚焦的电子束的电子镜筒(110)、用于检测EBSP图样的位敏检测器(128)以及用于保持并定位所述样品的样品支架(124),所述方法包括步骤:相对于所述电子束定位所述样品,将所述电子束引导至所述样品上的撞击点,从而导致背散射电子辐照所述检测器,并且当所述电子束保持静止时从所述检测器获取信号,其特征在于:所述检测器被装配成选择性地检测具有高于预定阈值的能量的电子,并且具有高于所述阈值的能量的电子的信号被用于形成EBSP图像。

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