二次电池及二次电池的电极的形成方法

    公开(公告)号:CN106099090B

    公开(公告)日:2019-02-15

    申请号:CN201610609648.8

    申请日:2011-03-07

    Abstract: 目的是提供充放电循环特性优异的二次电池。提供一种二次电池,该二次电池具有包含硅或硅化合物的电极,其中该电极在金属材料的层上设置有包含硅或硅化合物的层;在该金属材料层与该包含硅或硅化合物的层之间设置有所述金属材料和所述硅的混合层;所述金属材料的氧亲和性比该二次电池中进行电荷授受的离子的氧亲和性高;并且,所述金属材料的氧化物不具有绝缘性。进行电荷授受的离子是碱金属离子或碱土金属离子。

    蓄电装置以及电气设备
    82.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103326060B

    公开(公告)日:2018-10-02

    申请号:CN201310091003.6

    申请日:2013-03-21

    Inventor: 栗城和贵

    Abstract: 提供一种蓄电装置以及电气设备,该蓄电装置具有高放电特性,且具有透光性。该蓄电装置包括:具有平面形状是网状的第一集电体、第一集电体上的第一活性物质层、第一活性物质层上的固体电解质层、固体电解质层上的第二活性物质层、以及第二活性物质层上的第二集电体。

    SOI衬底的制造方法
    87.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101425454B

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN200810173827.7

    申请日:2008-10-29

    CPC classification number: H01L21/76254 Y10S438/977

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种即使是将氮化硅膜等用作接合层的情况,也可以降低支撑衬底和半导体衬底之间的结合不良的产生的SOI衬底的制造方法。此外,本发明还有一个目的是提供一种可以抑制工序的增加的SOI衬底的制造方法。其步骤如下:准备半导体衬底、以及支撑衬底,在半导体衬底上形成氧化膜,通过透过氧化膜对半导体衬底照射被加速的离子以在距半导体衬底的表面有预定的深度中形成剥离层,在照射离子之后在氧化膜上形成含有氮的层,使半导体衬底与支撑衬底相对并使含有氮的层的表面和支撑衬底的表面接合,加热半导体衬底使其以剥离层为界线分离以在支撑衬底上中间夹着氧化膜以及含有氮的层形成单晶半导体层。

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