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公开(公告)号：KR101184671B1
公开(公告)日：2012-09-20
申请号：KR1020100039633
申请日：2010-04-28
Applicant: 한국과학기술원
IPC: B03C5/02
Abstract: 미소입자 처리 장치는 미소입자를 포함하는 유체의 흐름을 위한 공간을 제공하며 마주보는 제1 면과 제2 면을 갖는 유동 챔버 및 상기 유동 챔버의 길이 방향을 따라 배열되며 상기 제1 면과 상기 제2 면 상에 서로 마주보는 제1 전극 및 제2 전극으로 구성된 다수개의 전극쌍들을 포함한다. 상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 상기 제1 및 제2 전극들 사이에 불균일한 전기장 구배를 형성하도록 서로 다른 형상들을 가지며, 상기 미소입자는 상기 전기장 구배에 의해 상기 제1 및 제2 전극들 중 어느 하나로 이동한다.
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公开(公告)号：KR101092926B1
公开(公告)日：2011-12-12
申请号：KR1020090044352
申请日：2009-05-21
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G02F1/01
Abstract: 공진형회전이동구동기는제1 전극, 제2 전극및 전원공급부를포함한다. 상기제1 전극은경사면을갖는개구부를구비한다. 상기제2 전극은상기제1 전극의상기개구부상에서상기경사면에대하여소정의각도를갖도록탄성적으로지지되며, 상기개구부를차단하는제1 위치및 상기개구부를개방하는제2 위치사이에서회전이동할수 있다. 상기전원공급부는제1 및제2 전극들에연결되며, 상기제1 및제2 전극들사이에상기제2 전극의공진을일으킬수 있는입력주파수를갖는교류전압을인가하여상기제2 전극을상기제1 전극으로진동하면서이동시킨다. 상기공진형회전이동구동기는공진증폭을이용하여작은전압으로큰 회전변위를구현할수 있다.
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公开(公告)号：KR101075032B1
公开(公告)日：2011-10-21
申请号：KR1020100018161
申请日：2010-02-26
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본발명은세포배양장치에관한것으로, 본발명에따른세포배양장치는다수의세포배양기를구비하며, 상기세포배양기는상기세포배양기를세포가배양되는배양공간을형성하며, 상기배양공간에배양액을수용하고, 상기배양액의상부에공기층을형성하는세포배양구, 상기세포배양구에연결되어폐 배양액을상기통합배수유로로방출하는배수유로, 상기세포배양구에새로운배양액을공급하는개방형배양액저장소, 및상기세포배양구및 상기개방형배양액저장소에사이에배치되며, 상기폐 배양액의방출에따라형성되는상기공기층의음압에의하여상기개방형배양액저장소로부터상기세포배양구로배양액을공급하는액적생성기를포함한다.
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公开(公告)号：KR101067351B1
公开(公告)日：2011-09-23
申请号：KR1020090115798
申请日：2009-11-27
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 시료 처리 장치는 일련의 챔버들, 제1 유입 밸브들 및 희석 밸브들을 포함한다. 상기 챔버들은 시료 및 희석액이 유입되는 제1 유입 유로와 각각 연통하며, 인접하는 챔버들 사이에 개재된 연결 유로를 통해 서로 연통한다. 상기 제1 유입 밸브들은 상기 제1 유입 유로들에 각각 설치되어 상기 제1 유입 유로를 개폐시킨다. 상기 희석 밸브들은 상기 연결 유로들에 각각 설치되어 상기 연결 유로를 개폐시키며, 개폐 순서를 순차적으로 제어하여 상기 각각의 챔버 내의 시료의 희석비를 조절한다.
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公开(公告)号：KR1020110059151A
公开(公告)日：2011-06-02
申请号：KR1020090115798
申请日：2009-11-27
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: PURPOSE: A sample processing device and a sample processing method are provided to obtain a react rate of different kind samples by successively controlling the injection combination of sample and the switching sequence of dilution valves. CONSTITUTION: A sample processing device comprises chambers(C,CR), first inlet valves(VI,VIR) and a dilution valve(VD). The chambers are respectively connected with a first inflow path for the inflow of sample and dilution liquid. A first common path(20) is connected to the first inflow path and supplies dilution liquid. The chambers are connected with each other using a link pass inserted between adjacent chambers. The second inflow path of the chamber is connected with a second common path(22).First inflow valves are respectively installed in first inflow paths and open and close the first inflow path. Dilution valves are respectively installed in link passes and open and close the link pass.
Abstract translation: 目的：提供样品处理装置和样品处理方法，通过连续控制样品的注射组合和稀释阀的切换顺序来获得不同种类样品的反应速率。 构成：样品处理装置包括室（C，CR），第一入口阀（VI，VIR）和稀释阀（VD）。 这些室分别与用于样品和稀释液体的流入的第一流入路径连接。 第一通道（20）连接到第一流入路径并供给稀释液。 这些室通过插入相邻室之间的连接通道相互连接。 室的第二流入路径与第二公共路径（22）连接。第一流入阀分别安装在第一流入路径中并打开和关闭第一流入路径。 稀释阀分别安装在连接通道中，打开和关闭连杆通道。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020100112780A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：KR1020090031243
申请日：2009-04-10
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: G06F3/016 , G06F3/0354 , G06F3/041 , G06F3/0481
Abstract: PURPOSE: A tactile information input/output device and a method of inputting and outputting tactile information using thereof are provided to generate virtual tactile information by artificially creating vibration on skin due to the vibration of contact surface. CONSTITUTION: A location detecting electrode(310) locates in a base plate(100) and a relative displacement of the slider pad(200) about the base plate is measured. A driving electrode(410) locates in the base plate and the frictional force between the slider pad and the base plate are controlled static-electrically. A stimulating unit(500) is located in the bottom of the base plate, and equipped with a stimulating structure which is projected to pass through the base plate and slider pad.
Abstract translation: 目的：提供一种触觉信息输入/输出装置以及使用该触觉信息输入和输出触觉信息的方法，以通过由于接触表面的振动而人为地在皮肤上产生振动而产生虚拟触觉信息。 构成：位置检测电极（310）位于基板（100）中，并且测量滑块（200）围绕基板的相对位移。 驱动电极（410）位于基板中，滑块和基板之间的摩擦力被静电控制。 刺激单元（500）位于基板的底部，并且配备有刺激结构，其被突出穿过基板和滑块。
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公开(公告)号：KR100968130B1
公开(公告)日：2010-07-06
申请号：KR1020080078042
申请日：2008-08-08
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G01R31/02
Abstract: 본 발명은 3차원 구조물 제조방법에 관한 것으로서, 도체 기판의 선택적 양극 산화 및 식각만으로 3차원 구조물을 용이하게 제작할 수 있는 선택적 양극 산화공정을 이용한 3차원 구조물 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 선택적 양극 산화를 이용한 3차원 구조물 제조방법은 도체 기판의 일면에 보호막 패턴을 형성하는 보호막 패턴 형성단계, 양극 산화 공정을 이용하여 상기 기판의 보호막 패턴이 형성되지 않은 부분에 선택적으로 산화층을 형성하는 산화층 형성단계, 상기 보호막 패턴을 제거하는 보호막 제거단계, 상기 기판의 타면에 상기 보호막 패턴 형성단계 내지 보호막 제거단계를 반복 수행하는 타면 가공단계 및 상기 산화층 또는 상기 산화층의 일부분 또는 상기 기판의 일부분 중 어느 하나를 부식액으로 제거하는 식각단계를 포함하여 이루어져, 생산 수율이 향상되며 대량 생산에 유리하고, 도체 기판 자체의 선택적 양극 산화 및 식각 과정을 통해 3차원 구조물 제작함으로써, 전기적 접촉이 바로 가능하며 도금공정만을 이용한 3차원 구조물보다 전기적/기계적 특성이 우수한 효과가 있다.
양극 산화, 3차원 구조물, 식각, 도금, 산화층-
公开(公告)号：KR1020100019152A
公开(公告)日：2010-02-18
申请号：KR1020080078042
申请日：2008-08-08
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G01R31/02
CPC classification number: G01R31/2851 , G01R1/067 , H01L21/302 , H01L21/31 , H01L22/30
Abstract: PURPOSE: A methods for fabricating a three-dimensional structure using a selectively anodized metal substrate is provided to manufacture an excellent mechanical and electrical characteristics by using a using a conductive plate. CONSTITUTION: In a methods for fabricating a three-dimensional structure using a selectively anodized metal substrate, a protective layer pattern is formed at one side of conductive plate(S11). An oxide layer is formed on the part of the structure not covered by the protective layer by an anodic oxidation process. The protective layer pattern is removed(S12). The step of forming protective pattern and the step of removing the protective pattern are repeated. One of the oxide layer, a part of the oxide layer, and a part of a substrate are etched by an etchant(S21).
Abstract translation: 目的：提供使用选择性阳极氧化金属基板制造三维结构的方法，以通过使用导电板制造出优异的机械和电学特性。 构成：在使用选择性阳极氧化金属基板制造三维结构的方法中，在导电板的一侧形成保护层图案（S11）。 通过阳极氧化处理，在未被保护层覆盖的结构部分上形成氧化物层。 去除保护层图案（S12）。 重复形成保护图案的步骤和去除保护图案的步骤。 通过蚀刻剂蚀刻氧化物层，氧化物层的一部分和基板的一部分（S21）。
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公开(公告)号：KR100931302B1
公开(公告)日：2009-12-11
申请号：KR1020080011773
申请日：2008-02-05
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 서로 다른 임계압력을 가지는 밸브를 이용한 마이크로 유체분배기에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 적은수의 제어 유로를 이용하여 다수개의 유체 유로를 선택적으로 제어할 수 있어, uTAS(Micro Total Analysis System)와 같은 집적화된 시스템에서 집적도를 높일 수 있는 마이크로 유체분배기에 대한 것이다.
그 기술적 구성은 미세유체가 유입되어 이동하는 다수개의 유로로 이루어진 유로부; 상기 유로로 유입된 미세유체의 이동여부를 제어하기 위한 압력이 인가되는 2 이상의 제어 유로; 상기 각 제어 유로 상에 마련되어 상기 압력에 의해 상기 유로내의 미세 유체의 흐름을 제어하는 서로 다른 임계압력을 가지는 3개 이상의 밸브;를 포함하되 상기 각 제어 유로상의 밸브는 상기 다수개의 유로 중 특정 유로를 선택할 수 있도록 배열되는 것을 특징으로 한다.
위와 같은 기술적 구성을 통해 본 발명의 마이크로 유체분배기는 집적도를 높일 수 있으며 외부 장비의 단순화를 이룰 수 있어 성능 및 가격면에서 경쟁력을 가질 수 있는 효과가 있다.
유체 밸브, 유체분배기Abstract translation: 提供高基数微流控多路复用器，用于提高集成系统的集成度，简化设备并确保性能和价格的竞争力。 高基微流控多路复用器包括：通道部分，其由流入微流体的多个流动路径组成; 两个或更多个控制通道（31），其中施加用于控制微流体移动的压力; 和具有不同临界压力的三个或更多个阀（11,13），所述临界压力通过压力控制所述流路内的所述微流体的流动。
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公开(公告)号：KR1020090006966A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：KR1020070070471
申请日：2007-07-13
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: B01L3/502738 , B01L2400/06 , B01L2400/0622 , B01L2400/0633
Abstract: A digital valve using a control fluid, and a method for operating the digital valve are provided to reduce the outer port on a lap-on-a-chip and to increase the integration of a lap-on-a-chip, thereby decreasing the size of a lap-on-a-chip. A digital valve using a control fluid(1) comprises a fluid channel(30) which is a microchannel where the fluid injected from a lap-on-a-chip moves from a fluid inlet(31) to a fluid outlet(32) so as to be discharged; a control fluid receiving part(20) which is formed so as to allow it to be the control fluid capable of controlling the movement of the fluid between the fluid channel to be accommodated, thereby opening or closing the fluid channel; and a control fluid channel where the control fluid moves from a control fluid injection part(21) to a control fluid outlet(23) so as to be discharged.
Abstract translation: 提供一种使用控制流体的数字阀和用于操作数字阀的方法，以减少芯片上的外部端口并增加芯片上的整合，从而减少 芯片上的大小。 使用控制流体（1）的数字阀包括流体通道（30），其是从芯片上注入的流体从流体入口（31）移动到流体出口（32）的微通道，因此 要出院 控制流体接收部分（20），其形成为允许其成为能够控制待容纳的流体通道之间的流体的运动的控制流体，从而打开或关闭流体通道; 以及控制流体通道，其中控制流体从控制流体注入部分（21）移动到控制流体出口（23）以便排出。
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