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公开(公告)号：WO2013176416A1
公开(公告)日：2013-11-28
申请号：PCT/KR2013/003837
申请日：2013-05-03
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: B01L3/502761 , B01L3/50273 , B01L3/502738 , B01L3/502753 , B01L2300/0816 , B01L2300/0877 , B01L2300/123 , B01L2400/0481 , B01L2400/0655 , B01L2400/086
Abstract: 미소입자 처리 장치는, 유입부와 유출부를 포함하며 미소입자를 포함하는 유체의 흐름을 위한 공간을 제공하는 챔버, 상기 챔버 내에 순차적으로 구비되며 상기 유체가 통과하는 면적을 제어하기 위한 적어도 2개의 가변형 박막 구조물들, 및 상기 가변형 박막 구조물들 각각에 압력을 인가하기 위한 적어도 2개의 박막 제어 라인들을 포함한다.
Abstract translation: 用于处理细颗粒的装置包括：包括入口部分和出口部分的室，用于为含有细颗粒的流体提供空间; 两个可变薄膜结构，其连续地设置在腔室内，用于控制流体穿过的表面积; 以及用于向每个可变薄膜结构施加压力的两个薄膜控制线。
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公开(公告)号：KR1020140107944A
公开(公告)日：2014-09-05
申请号：KR1020130022194
申请日：2013-02-28
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: A microparticle processing device comprises: a chamber including a first inlet/outlet part and a second inlet/outlet part, and supplying a space in which a fluid including a microparticle flows; at least one variable thin film structure arranged within the chamber to process the microparticle located in the fluid; at least one thin film control line to apply a pressure to the variable thin film structure; and a fixed structure corresponding to the variable thin film structure, arranged within the chamber to perform a filtering of the microparticle by pairing with the variable thin film structure.
Abstract translation: 微粒处理装置包括：包括第一入口/出口部分和第二入口/出口部分的室，并且供应包含微粒的流体流动的空间; 布置在所述腔室内的至少一个可变薄膜结构，以处理位于流体中的微粒; 至少一个薄膜控制线，以对可变薄膜结构施加压力; 以及对应于可变薄膜结构的固定结构，布置在室内，以通过与可变薄膜结构配对来进行微粒的过滤。
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公开(公告)号：KR1020110086239A
公开(公告)日：2011-07-28
申请号：KR1020100005859
申请日：2010-01-22
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/0416 , G06F3/0354
Abstract: PURPOSE: A touch screen input method, an input device, and a portable terminal including the same are provided to effectively perform a desire command only with a pattern of touching the arbitrary point of a touch screen multiple times. CONSTITUTION: A touch detection unit detects a plurality of touches on a touch screen(S110). An operation unit determines a touch pattern according to a time interval between the touch(S120). A comparison unit compares the determined touch pattern with a set touch pattern(S130). In case the determined touch pattern and the set touch pattern are the same, a CPU(Central Processing Unit) performs a command assigned to the set touch pattern(S140).
Abstract translation: 目的：提供触摸屏输入方法，输入装置和包括该触摸屏输入装置的便携式终端，以有效地执行仅仅触摸触摸屏的任意点的图案多次的欲望命令。 构成：触摸检测单元检测触摸屏上的多个触摸（S110）。 操作单元根据触摸之间的时间间隔来确定触摸图案（S120）。 比较单元将确定的触摸图案与设定的触摸图案进行比较（S130）。 在确定的触摸图案和设置的触摸模式相同的情况下，CPU（中央处理单元）执行分配给所设置的触摸模式的命令（S140）。
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公开(公告)号：KR101480753B1
公开(公告)日：2015-01-09
申请号：KR1020120138911
申请日：2012-12-03
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 미소입자 처리 장치는 제1 방향으로 연장하는 유로, 상기 유로의 일측부로부터 상기 제1 방향과 다른 제2 방향으로 돌출 형성되는 우회로, 및 상기 유로로부터 상기 우회로까지 연장하며 상기 유로와 상기 우회로의 내부로 변형 가능한 가변형 박막을 포함한다.
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公开(公告)号：KR101096572B1
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：KR1020100005859
申请日：2010-01-22
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G06F3/041
Abstract: 터치스크린 입력방법과 입력 장치, 이를 포함하는 휴대용 단말이 제공된다.
본 발명에 따른 터치스크린 입력방법은 상기 터치스크린의 복수회 터치를 검출하는 단계; 상기 복수회 터치 각각 사이의 시간 간격에 따라 터치 패턴을 결정하는 단계; 상기 결정된 터치 패턴을 기설정된 터치 패턴과 비교하는 단계; 및 상기 결정된 터치 패턴이 기설정된 터치 패턴과 동일한 경우, 상기 기설정된 터치 패턴에 할당된 명령을 수행하는 단계를 포함하며, 터치스크린 입력방법과 입력 장치, 이를 포함하는 휴대용 단말에 관한 것으로, 보다 상세하게는 터치스크린의 임의 지점에 대한 복수회 터치의 패턴만으로 사용자가 원하는 명령을 효과적으로 수행할 수 있고, 따라서, 사용자는 어두운 환경이나, 운전하는 환경 등에서와 같이 터치스크린을 시각적으로 집중할 수 없는 환경에서, 단순히 터치스크린을 일정한 패턴으로 두드림으로써 원하는 명령을 효과적으로 수행할 수 있다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101440333B1
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：KR1020130022194
申请日：2013-02-28
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 미소입자 처리 장치는 제1 유출입부와 제2 유출입부를 포함하며 미소입자를 포함하는 유체의 흐름을 위한 공간을 제공하는 챔버, 상기 챔버 내에 구비되며 상기 유체 내의 미소입자를 처리하기 위한 적어도 하나의 가변형 박막 구조물, 상기 가변형 박막 구조물에 압력을 인가하기 위한 적어도 하나의 박막 제어 라인, 및 상기 챔버 내에 상기 가변형 박막 구조물에 대응하도록 구비되며 상기 가변형 박막 구조물과 짝을 이루어 상기 미소입자를 필터링하기 위한 고정 구조물을 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020130129832A
公开(公告)日：2013-11-29
申请号：KR1020130021072
申请日：2013-02-27
Applicant: 한국과학기술원
CPC classification number: B01L3/50273 , B01L3/502753 , B01L3/502761 , B01L2200/0631 , B01L2200/0652 , B01L2200/0668 , B01L2300/0645 , B01L2300/0816 , B01L2300/0851 , B01L2300/0864 , B01L2400/0481 , B01L2400/0655 , B01L2400/086
Abstract: A particle processing device using membrane structures comprises a flow chamber with an inlet and an outlet to provide a space for the flow of fluids including nanoparticles; two or more variable membrane structures gradually formed inside the flow chamber to control an area to pass the fluids; and two or more membrane control lines to separately apply pressure to the variable membrane structures.
Abstract translation: 使用膜结构的颗粒处理装置包括具有入口和出口的流动室，以为包括纳米颗粒的流体流提供空间; 在流动室内逐渐形成两个或更多个可变膜结构，以控制流体通过的区域; 和两个或更多个膜控制管线以分别向可变膜结构施加压力。
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公开(公告)号：KR100998183B1
公开(公告)日：2010-12-03
申请号：KR1020080108765
申请日：2008-11-04
Applicant: 한국과학기술원
Abstract: 본 발명은 쉐도우 댄스 슈즈, 쉐도우 댄스 장치 및 그 구동방법, 쉐도우 댄스 시스템에 관한 것이다.
본 발명에 따른 쉐도우 댄스 슈즈는, 탭댄스 슈즈 하부의 표면인 바닥의 앞 측 및 뒷 측에 각각 형성된 금속 탭, 바닥과 각각의 금속 탭 사이에 형성되어, 사용자의 동작을 감지하는 압력센서, 압력센서로부터 감지된 사용자의 동작으로부터 전자적인 동작신호를 생성하는 동작신호 생성부, 동작신호를 수신하여 무선통신을 통하여 외부로 전송하여주는 마이크로 프로세서를 포함한다.
탭댄스 슈즈,버츄얼 아바타 인터렉션, 압력센서, 클립데이터, 쉐도우 댄싱 시스템-
公开(公告)号：KR100968130B1
公开(公告)日：2010-07-06
申请号：KR1020080078042
申请日：2008-08-08
Applicant: 한국과학기술원
IPC: G01R31/02
Abstract: 본 발명은 3차원 구조물 제조방법에 관한 것으로서, 도체 기판의 선택적 양극 산화 및 식각만으로 3차원 구조물을 용이하게 제작할 수 있는 선택적 양극 산화공정을 이용한 3차원 구조물 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 선택적 양극 산화를 이용한 3차원 구조물 제조방법은 도체 기판의 일면에 보호막 패턴을 형성하는 보호막 패턴 형성단계, 양극 산화 공정을 이용하여 상기 기판의 보호막 패턴이 형성되지 않은 부분에 선택적으로 산화층을 형성하는 산화층 형성단계, 상기 보호막 패턴을 제거하는 보호막 제거단계, 상기 기판의 타면에 상기 보호막 패턴 형성단계 내지 보호막 제거단계를 반복 수행하는 타면 가공단계 및 상기 산화층 또는 상기 산화층의 일부분 또는 상기 기판의 일부분 중 어느 하나를 부식액으로 제거하는 식각단계를 포함하여 이루어져, 생산 수율이 향상되며 대량 생산에 유리하고, 도체 기판 자체의 선택적 양극 산화 및 식각 과정을 통해 3차원 구조물 제작함으로써, 전기적 접촉이 바로 가능하며 도금공정만을 이용한 3차원 구조물보다 전기적/기계적 특성이 우수한 효과가 있다.
양극 산화, 3차원 구조물, 식각, 도금, 산화층
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