公开(公告)号：CN102347188A

公开(公告)日：2012-02-08

申请号：CN201110221688.2

申请日：2011-07-28

Applicant: 通用电气公司

Inventor： A·凯亚法 ,  M·H·托多罗维克 ,  J·L·雷诺

IPC: H01J35/30

CPC classification number: H01J35/10 ,  H01J35/14 ,  H01J2235/081 ,  H01J2235/086 ,  H05G1/52

Abstract: 本发明名称是“用于电子束的磁控制的设备和方法”。用于x射线产生系统的电子束操纵线圈的设备和方法包括控制电路(68)的使用。控制电路(68)包括第一低压源(74)、第二低压源(76)和第一开关装置(90)，所述第一开关装置(90)与第一低压源(74)串联耦合并且配置成在处于闭合位置时与第一低压源(74)创建第一电流通路(92)。控制电路还包括：第二开关装置(94)，与第二低压源(76)串联耦合，并且配置成在处于闭合位置时与第二低压源(76)创建第二电流通路(96)；以及电容器(86)，与电子束操纵线圈(62)并联耦合，并且沿第一和第二电流通路(92，96)定位。

公开(公告)号：CN101779267A

公开(公告)日：2010-07-14

申请号：CN200880103249.8

申请日：2008-08-12

Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司

Inventor： A·莱瓦尔特 ,  R·皮蒂格 ,  A·朗坎普 ,  H·里希特 ,  T·贝尼施 ,  W·胡芬巴赫 ,  R·K·O·贝林 ,  C·巴特

IPC: H01J35/10

CPC classification number: H01J35/108 ,  H01J2235/081 ,  H01J2235/088 ,  H01J2235/1006

Abstract: 本发明涉及高功率X射线源，尤其涉及配备了能够比根据现有技术的常规旋转X射线阳极传递高得多的短时峰值功率的旋转X射线阳极的高功率X射线源。因此，这里提出的设计原理旨在通过允许阳极极快旋转以及在邻近焦点轨迹材料(4)的区域内引入具有高热导率的轻型材料(2)而克服峰值功率的热限制。通过提供由具有高热稳定性的各向异性高比强度材料构成的旋转阳极盘部分(1，3，6)实现所述极快旋转，其中，所述材料特别适于在阳极工作时积聚的高应力，例如，所述材料可以是纤维强化陶瓷材料。配备了根据本发明的高峰值功率阳极的X射线系统将能够以高分辨率和高覆盖率实现高速图像获取。有利地，能够将这样的高速旋转阳极盘应用到用于下述用途的X射线管中：材料检验或医学射线照相术；诸如心脏CT领域的实时获取移动对象的图像数据所需的X射线成像应用；或者任何其他需要高速图像数据获取的X射线呈现应用。根据另一示范性实施例，本发明涉及一种旋转阳极盘，所述阳极盘被划分成了分立的阳极段(10a，10b)，其中，例如，可以通过从内部阳极块体(1)延伸到阳极盘的外部框架部分(3)的内径边缘的径向直狭缝(14a)或S形狭缝(14b)使相邻的阳极段相互得到限定。本发明的其他示范性实施例涉及旋转阳极盘结构设计，其包括位于内部阳极块体(1)和使旋转阳极盘围绕其旋转轴(5)旋转所需的旋转轴杆(12)之间的液态金属导体(16a)，所述液态金属导体(16a)在旋转阳极和其旋转轴杆(12)之间提供了液态金属连接，或者，本发明的其他示范性实施例还涉及旋转阳极盘结构，其包括处于内部阳极块体(1)和旋转轴杆(12)之间的径向滑动连接(17)和柔性热导体(18)。

公开(公告)号：CN101582365A

公开(公告)日：2009-11-18

申请号：CN200910141789.1

申请日：2009-05-15

Applicant: 通用电气公司

Inventor： D·钟 ,  D·M·格雷 ,  M·赫伯特 ,  D·M·利普金 ,  T·拉伯 ,  G·A·施泰恩拉格 ,  T·C·蒂尔尼

IPC: H01J35/08

CPC classification number: H01J35/105 ,  H01J2235/081 ,  H01J2235/086 ,  H01J2235/1204 ,  H01J2235/1229 ,  H01J2235/1291

Abstract: 本发明提供一种用于增加X射线管中的辐射传热的装置及其制造方法。一种用于产生X射线(14)的靶组件(56)，包括靶基体(57)以及施加到靶基体(57)的一部分的辐射涂层(67，81，85，89，92，94，97，98)，辐射涂层(67，81，85，89，92，94，97，98)包含碳化物和碳氮化物中的一种或多种。

公开(公告)号：CN101449629A

公开(公告)日：2009-06-03

申请号：CN200780012243.5

申请日：2007-04-10

Applicant: 高砂热学工业株式会社 ,  樫尾计算机株式会社 ,  日本财团法人高知县产业振兴中心

Inventor： 稻叶仁 ,  大久保义典 ,  八木祥行 ,  佐藤俊一 ,  西村一仁

IPC: H05G1/00 ,  G21K1/00 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02 ,  H01J35/06 ,  H01J35/08 ,  H05F3/06

CPC classification number: H05F3/06 ,  H01J35/06 ,  H01J2235/062 ,  H01J2235/081

Abstract: 本发明目的在发生软X线的装置中抑制发热量，从而延长寿命。在本发明中，包括电子释放部即发射器和靶的除电装置中，由粒径为2nm～100nm的钻石颗粒构成的薄膜形成在发射器的表面上。其特征在于：该薄膜在XRD测定过程中具有钻石的XRD图案，且进行了拉曼分光测定时，膜中的sp3结分量和sp2结分量之比为2.5～2.7∶1。当直流电源施加到发射器时，阈值电场强度在1V/μm以下，从发射器释放出比以往更多的电子，并且发射器的温度也几乎不上升，可实现长寿命化。

公开(公告)号：CN1981361A

公开(公告)日：2007-06-13

申请号：CN200580016935.8

申请日：2005-05-04

Applicant: 科美特有限公司

Inventor： 阿尔弗雷德·赖因霍尔德

IPC: H01J35/08 ,  H01J37/06

CPC classification number: H01J35/08 ,  G03F7/70008 ,  H01J2235/081 ,  H01J2235/088

Abstract: 一种XUV射线发射和发生装置(2)设有一个目标物(4)，该目标物(4)在聚集荷电粒子时发射XUV射线，其中目标物(4)设有一个基体(18)，该基体(18)至少部分设有第一层(20)，第一层(20)包含一种在聚集荷电粒子时发射XUV射线的材料。按照本发明，附加于第一层(20)上的至少设有第二层(22)，第二层(22)包含一种较高导电性能的材料。

公开(公告)号：CN1971834A

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200610148430.3

申请日：2006-11-07

Applicant: 科美特有限公司

Inventor： A·莱哈德

IPC: H01J35/00 ,  H05G1/00

CPC classification number: H01J35/08 ,  H01J2235/081 ,  H01J2235/087

Abstract: 本发明涉及一种毫微聚焦型X射线管20，它设有一个目标物4和用于校准目标物4上电子射线28的装置。按照本发明，目标物4设有至少一个由一种目标物材料组成的用于发射X射线的目标物元件22、24、26，它是通过一个藉微结构化方法并在一个由一种承载体材料组成的承载体元件4上而组成的毫微结构构成的，其直径约为≤1000nm，其中目标物元件6、22、24、26仅仅部分覆盖了承载体元件4。当X射线管20运行时，选择电子射线的横截面要大于目标物元件6或22或24或26的横截面，这样电子射线28始终全面地射到目标物元件6或22或24或26上。按照本发明，承载体材料是金刚石或含有金刚石，添加金刚石用于提高导电性能。

公开(公告)号：CN1777971A

公开(公告)日：2006-05-24

申请号：CN200480010933.3

申请日：2004-04-15

Applicant: H.C.施塔克公司

Inventor： J·戴利 ,  B·莱蒙 ,  J·希尔特 ,  P·库马 ,  G·吉勒

IPC: H01J35/08 ,  B22F3/16

CPC classification number: C22B34/34 ,  B21C23/001 ,  B21C23/01 ,  B21J1/025 ,  B21J5/00 ,  B22F3/16 ,  B22F3/162 ,  B22F3/24 ,  B22F2003/248 ,  B22F2998/00 ,  B22F2998/10 ,  C22C1/02 ,  C22C1/1094 ,  C22C27/04 ,  C22C32/0031 ,  C22F1/18 ,  C23C14/3414 ,  H01J2235/081 ,  H05H6/00 ,  B22F9/24 ,  B22F3/20 ,  B22F3/17

Abstract: 本发明涉及一种制造横向加工钼板的方法，包括：(a)还原钼酸铵并形成钼金属粉末；(b)将钼金属粉末和一种合金元素构成的钼部件压实成第一工件，该合金元素选自钛、锆、铪、碳、氧化镧及其组合；(c)对第一工件进行热处理，在第一方向对其施加热机械力，从而形成第二工件；(d)对第二工件进行热处理，在不同于第一方向的第二方向对其施加热机械力；(e)对经过热机械处理的第二工件进行再结晶热处理步骤，从而形成热处理横向加工工件；(f)对所述热处理横向加工工件进行切割或机加工步骤，从而形成横向加工钼板。本发明还涉及由该方法制成的X射线靶。

公开(公告)号：KR100974119B1

公开(公告)日：2010-08-04

申请号：KR1020097001747

申请日：2007-02-01

Applicant: 도시바 덴시칸 디바이스 가부시키가이샤

Inventor： 아오키노부타다 ,  가쿠타니아키코

IPC: G01N23/223 ,  H01J35/10 ,  H01J35/26

CPC classification number: G01N23/223 ,  G01N2223/076 ,  G21K1/10 ,  H01J35/08 ,  H01J35/24 ,  H01J35/32 ,  H01J2235/081 ,  H01J2235/086 ,  H01J2235/088 ,  H01J2235/186

Abstract: 본 발명은 특성 X선을 방출하는 X선원과 상기 X선원을 사용한 형광 Ｘ선 분석 장치에 관한 것으로, 1차 타겟(118)에 중첩하여 2차 타겟(119)을 설치하고, 전자총(114)이 발생시킨 전자빔(115)이 1차 타겟(118)에 입사하고, 1차 타겟(118)은 연속 X선을 투과시켜 방출하고, 2차 타겟(119)은 1차 타겟(118)으로부터 방출되는 연속 X선에서 여기한 특성 X선(121)을 투과시켜 방출하고, 1차 타겟(118)과 2차 타겟(119)을 중첩하고 1차 타겟(118)으로부터 방출하는 연속 X선을 2차 타겟(119)의 여기에 효율 좋게 하고, 특성 X선(121)을 효율 좋게 발생시키는 것을 특징으로 한다.
X선

Abstract translation: 本发明涉及发射特征X射线的X射线源和使用该X射线源的荧光X射线分析装置，第二靶119叠加在第一靶118上， 所产生的目标电子束115入射到主目标118上并且主目标118透射并发射连续的X射线。次目标119是连续的 通过在X射线和初级靶118和第二发送激励特性X射线121的目标119和用于从主靶118发射的连续X射线的二次目标（重叠释放 119，并且特征X射线121被有效地生成。

公开(公告)号：KR100958225B1

公开(公告)日：2010-05-17

申请号：KR1020077022240

申请日：2007-02-01

Applicant: 도시바 덴시칸 디바이스 가부시키가이샤

Inventor： 아오키노부타다 ,  가쿠타니아키코

IPC: G01N23/223 ,  H01J35/10 ,  H01J35/26

CPC classification number: G01N23/223 ,  G01N2223/076 ,  G21K1/10 ,  H01J35/08 ,  H01J35/24 ,  H01J35/32 ,  H01J2235/081 ,  H01J2235/086 ,  H01J2235/088 ,  H01J2235/186

Abstract: 본 발명은 특성 X선을 방출하는 X선원, 및 상기 X선원을 사용한 형광 X선 분석 장치에 관한 것으로, 1차 타겟(118)에 중첩하여 2차 타겟(119)을 설치하고, 전자총(114)이 발생시킨 전자빔(115)이 1차 타겟(118)에 입사하고, 1차 타겟(118)은 연속 X선을 투과시켜 방출하고, 2차 타겟(119)은 1차 타겟(118)으로부터 방출되는 연속 X선에서 여기한 특성 X선(121)을 투과시켜 방출하고, 1차 타겟(118)과 2차 타겟(119)을 중첩하고 1차 타겟(118)으로부터 방출하는 연속 X선을 2차 타겟(119)의 여기에 효율 좋게 하고, 특성 X선(121)을 효율 좋게 발생시키는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1020080014736A

公开(公告)日：2008-02-14

申请号：KR1020077022240

申请日：2007-02-01

Applicant: 도시바 덴시칸 디바이스 가부시키가이샤

Inventor： 아오키노부타다 ,  가쿠타니아키코

IPC: G01N23/223 ,  H01J35/10 ,  H01J35/26

CPC classification number: G01N23/223 ,  G01N2223/076 ,  G21K1/10 ,  H01J35/08 ,  H01J35/24 ,  H01J35/32 ,  H01J2235/081 ,  H01J2235/086 ,  H01J2235/088 ,  H01J2235/186

Abstract: Provided are an X-ray source for emitting a characteristic X-ray, and a fluorescent X-ray analyzing device using the X-ray source. A secondary target (119) is superimposed on a primary target (118). An electron beam (115) generated by an electron gun (114) is incident on the primary target (118), and this primary target (118) transmits and emits a continuous X-ray. The second target (119) transmits and emits a characteristic X-ray (121), which is excited with the continuous X-ray emitted from the primary target (118). The primary target (118) and the secondary target (119) are superimposed to make the continuous X-ray emitted from the primary target (118), efficient for the excitation of the secondary target (119) thereby to generate the characteristic X-ray (121) efficiently.

Abstract translation: 提供了用于发射特征X射线的X射线源和使用该X射线源的荧光X射线分析装置。 辅助目标（119）叠加在主要目标（118）上。 由电子枪（114）产生的电子束（115）入射到主要靶（118）上，该主要靶（118）透射并发射连续的X射线。 第二目标（119）发射和发射由从主要目标（118）发射的连续X射线激发的特征X射线（121）。 主要目标（118）和次要目标（119）被叠加以使从主要目标（118）发射的连续X射线对于次要靶（119）的激发有效，从而产生特征X射线 （121）。