公开(公告)号：CN101687389A

公开(公告)日：2010-03-31

申请号：CN200880022450.3

申请日：2008-06-27

Applicant: 株式会社爱发科 ,  宇部兴宇株式会社

Inventor： 藤长彻志 ,  高木牧子 ,  桥本征典 ,  浅利伸 ,  大山隆治

IPC: B32B9/00 ,  C23C16/42

CPC classification number: C23C16/345 ,  Y10T428/269

Abstract: 本发明的树脂基底具有树脂层和形成在所述树脂层的表面上的表面层，其中所述表面层是包含作为主要组分的氮化硅并且是通过化学气相沉积法而沉积的层，并且在所述树脂层和所述表面层之间的界面上，其上百分比从80％改变为20％的界面区域具有不大于25nm的厚度，其中在所述表面层中的最大氮浓度和在树脂层中的稳态氮浓度之间的差被当作100％。表面层的平均表面粗糙度(Ra)为不大于1nm。树脂基底具有水蒸汽阻隔和表面平坦性的性质。