热电半导体材料及其制造方法

    公开(公告)号:CN1816919B

    公开(公告)日:2012-05-09

    申请号:CN200480019353.0

    申请日:2004-05-07

    CPC classification number: H01L35/34 B22D11/0611 H01L35/16

    Abstract: 调制对(Bi-Sb)2Te3系的组成加入了过剩的Te的金属混合物,使金属混合物熔融后,借助圆周速度为5m/秒以下的冷却辊的表面使其凝固成厚度为30μm以上,制造在复合化合物半导体相中微细地分散了富Te相且大部分的晶粒的C面的延伸方向统一的板状的热电半导体坯料(10),在将热电半导体坯料(10)沿板厚方向层叠、固化成形而形成成形体(12)后,对成形体(12)在与热电半导体坯料(10)的主要层叠方向大致平行的一轴向上作用剪切力而使其塑性变形,制造具有晶粒的六方晶结构的C面的延伸方向和C轴方向都大致统一的晶粒取向性的热电半导体材料(17)。结果,晶粒取向性提高且热电性能指数提高。

    增压机
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101008345B

    公开(公告)日:2011-10-12

    申请号:CN200710004021.0

    申请日:2007-01-19

    Abstract: 增压机(10)的油封结构具有:挡油部件(21);密封壳体(25);配置在挡油部件(21)和密封壳体(25)之间的环状密封部件(23)。挡油部件(21)在其压缩机侧前端部上具有在与轴方向相垂直的截面上形成大致圆形状的外缘的部分,挡油部件(21)具有外缘缩径部(21a),该外缘缩径部(21a)形成在挡油部件(21)的压缩机侧前端上且上述外缘的半径小于该外缘的其它部分。密封部件(23)嵌合在外缘缩径部(21a)上。在密封壳体(25)上形成有挡油部件(21)通过的开口,密封壳体(25)在形成上述开口的半径方向的内缘处与密封部件(23)相接触。

    带可变喷嘴的涡轮增压器

    公开(公告)号:CN101012772B

    公开(公告)日:2010-09-29

    申请号:CN200710006742.5

    申请日:2007-02-02

    Inventor: 小林高广

    CPC classification number: F01D17/165 F01D25/162 F05D2220/40 F05D2260/231

    Abstract: 具有:被涡轮叶轮(2)驱动旋转且压缩空气的压缩机叶轮(4)、连结涡轮叶轮(2)和压缩机叶轮(4)的轴(5)、可旋转地支承轴(5)的轴承壳体(6)、将上述涡轮叶轮(2)收纳在内部的涡轮壳体(7)、设置在涡轮叶轮(2)的半径方向外侧的压缩机叶轮(4)侧且调整朝向涡轮叶轮(2)的排气流量的可变喷嘴机构(12),轴承壳体(6)具有扩径部(6a),所述扩径部(6a)向半径方向外侧延伸,且在半径方向外侧部分处与涡轮壳体(7)结合,而在与涡轮壳体(7)之间收纳可变喷嘴机构(12),在扩径部(6a)和可变喷嘴机构(12)之间,设置防止可变喷嘴机构(12)与扩径部(6a)之间的传热的隔热板(21)。

    旋转机械
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101042145B

    公开(公告)日:2010-09-01

    申请号:CN200710088608.4

    申请日:2007-03-16

    Abstract: 本发明的旋转机械包括恒定旋转的叶轮轴和装配在该叶轮轴的轴端部上的叶轮。上述轴端部和上述叶轮的配合部具有紧密配合部和间隙配合部,通过上述紧密配合部以进行上述叶轮轴和上述叶轮之间的扭矩传递。上述间隙配合部处的上述轴端部形成为,在使包括上述叶轮的上述叶轮轴恒定旋转时,抑制包括上述叶轮的上述叶轮轴的共振。

    渗碳处理装置及渗碳处理方法

    公开(公告)号:CN1936067B

    公开(公告)日:2010-07-21

    申请号:CN200610138822.1

    申请日:2006-09-19

    Inventor: 胜俣和彦

    CPC classification number: C23C8/20 C21D1/68 C23C8/22

    Abstract: 本发明的课题在于对被处理物进行更加均匀的渗碳处理。本发明的渗碳处理装置,通过在内部为减压状态而且是渗碳性气体气氛的处理室(31)中加热被处理物(W),来进行渗碳处理,具备:温度测定机构,测定上述处理室(31)内部的多个区域的温度;温度调整机构,基于上述温度测定机构的测定结果对上述多个区域的温度分别进行调整,以便对上述被处理物(W)均匀地进行渗碳处理。

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