光學濾波器
    6.
    发明专利
    光學濾波器 审中-公开
    光学滤波器

    公开(公告)号:TW202004137A

    公开(公告)日:2020-01-16

    申请号:TW108116949

    申请日:2014-01-28

    Abstract: 本發明揭示一種可變光學濾波器,其包含一帶通濾波器及一阻斷濾波器。該帶通濾波器包含交替第一層及第二層之一堆疊,且該阻斷濾波器包含交替第三層及第四層之一堆疊。第一材料、第二材料及第四材料各包括不同材料,使得該第一材料之一折射率小於該第二材料之一折射率,該第二材料之該折射率小於該第四材料之一折射率;同時該第二材料之一吸收係數小於該第四材料之一吸收係數。該等材料可經選擇以確保該阻斷濾波器中之高折射率對比及該帶通濾波器中之低光學損耗。可將該等第一層至第四層直接沈積於一光偵測器陣列上。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种可变光学滤波器,其包含一带通滤波器及一阻断滤波器。该带通滤波器包含交替第一层及第二层之一堆栈,且该阻断滤波器包含交替第三层及第四层之一堆栈。第一材料、第二材料及第四材料各包括不同材料,使得该第一材料之一折射率小于该第二材料之一折射率,该第二材料之该折射率小于该第四材料之一折射率;同时该第二材料之一吸收系数小于该第四材料之一吸收系数。该等材料可经选择以确保该阻断滤波器中之高折射率对比及该带通滤波器中之低光学损耗。可将该等第一层至第四层直接沉积于一光侦测器数组上。

    光學濾波器及光譜儀及用於獲得沿著一光學路徑傳播之一光束之一光譜之方法
    7.
    发明专利
    光學濾波器及光譜儀及用於獲得沿著一光學路徑傳播之一光束之一光譜之方法 审中-公开
    光学滤波器及光谱仪及用于获得沿着一光学路径传播之一光束之一光谱之方法

    公开(公告)号:TW201903368A

    公开(公告)日:2019-01-16

    申请号:TW107135212

    申请日:2015-01-30

    Abstract: 本發明揭示一種包含兩個橫向可變帶通濾波器之光學濾波器,該兩個橫向可變帶通濾波器經堆疊於距彼此一固定距離處,使得上游濾波器充當用於下游濾波器之一空間濾波器。此發生係因為當藉由該上游濾波器傳輸之一傾斜光束照射於該下游濾波器上時該傾斜光束經橫向移位。當該傾斜光束至該上游濾波器及該下游濾波器上之照射位置處之傳輸通帶不重疊時該橫向位移導致該傾斜光束之一抑制。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种包含两个横向可变带通滤波器之光学滤波器,该两个横向可变带通滤波器经堆栈于距彼此一固定距离处,使得上游滤波器充当用于下游滤波器之一空间滤波器。此发生系因为当借由该上游滤波器传输之一倾斜光束照射于该下游滤波器上时该倾斜光束经横向移位。当该倾斜光束至该上游滤波器及该下游滤波器上之照射位置处之传输通带不重叠时该横向位移导致该倾斜光束之一抑制。

    應用於磁控濺鍍裝置之環狀陰極
    8.
    发明专利
    應用於磁控濺鍍裝置之環狀陰極 审中-公开
    应用于磁控溅镀设备之环状阴极

    公开(公告)号:TW201833359A

    公开(公告)日:2018-09-16

    申请号:TW107106301

    申请日:2011-04-15

    Abstract: 本發明係關於一種磁控濺鍍裝置,該磁控濺鍍裝置包含具有一界定的內半徑之一大環狀陰極。該環狀陰極之位置相對於一行星式驅動器系統之一中心點偏移。一陽極或反應氣源可位於該環狀陰極之該內半徑內。經由抑制電弧效應之該陰極處的較低功率密度獲得較低缺陷率,同時在並未使用一遮罩之情況下藉由該陰極將至行星托盤幾何形狀之逕流最小化。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种磁控溅镀设备,该磁控溅镀设备包含具有一界定的内半径之一大环状阴极。该环状阴极之位置相对于一行星式驱动器系统之一中心点偏移。一阳极或反应气源可位于该环状阴极之该内半径内。经由抑制电弧效应之该阴极处的较低功率密度获得较低缺陷率,同时在并未使用一遮罩之情况下借由该阴极将至行星托盘几何形状之迳流最小化。

    磁控濺鍍裝置
    9.
    发明专利
    磁控濺鍍裝置 审中-公开
    磁控溅镀设备

    公开(公告)号:TW202026446A

    公开(公告)日:2020-07-16

    申请号:TW108143550

    申请日:2011-04-15

    Abstract: 本發明揭示一種磁控濺鍍裝置,其包含一塗佈腔,一或多個陰極,一陽極,其包括與該塗佈腔通信之該一開口,及一氣源,其在該一或多個陰極之一環狀陰極之一中心處。

    Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种磁控溅镀设备,其包含一涂布腔,一或多个阴极,一阳极,其包括与该涂布腔通信之该一开口,及一气源,其在该一或多个阴极之一环状阴极之一中心处。

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