公开(公告)号：TW202022485A

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：TW108130681

申请日：2019-08-27

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B.V. ,  美商ASML美國公司 ,  ASML US, LLC

Inventor： 李 真偉 ,  LI, JIANGWEI ,  趙 柯 ,  ZHAO,KE ,  何 元 ,  HE,YUAN

IPC: G03F1/70 ,  G06F17/50

Abstract: 一種用於最佳化一二元光罩圖案之方法包括藉由一處理器基於一設計圖案與一基板圖案之間的一比較而判定一評估值，該基板圖案係基於該二元光罩圖案而模擬。該方法亦包括基於該評估值，藉由該處理器使用一基於梯度之最佳化方法以產生一第一經調整二元光罩圖案。該方法亦包括藉由該處理器基於該設計圖案與一第一經更新基板圖案之間的一比較而判定一第一經更新評估值，該第一經更新基板圖案係基於該第一經調整二元光罩圖案而模擬。該方法亦包括基於該第一經更新評估值，藉由該處理器使用一黑塞矩陣與一任意向量之一乘積以產生一第二經調整二元光罩圖案。該方法亦包括藉由該處理器基於該第二經調整二元光罩圖案而模擬一第二經更新基板圖案。

Abstract in simplified Chinese: 一种用于最优化一二元光罩图案之方法包括借由一处理器基于一设计图案与一基板图案之间的一比较而判定一评估值，该基板图案系基于该二元光罩图案而仿真。该方法亦包括基于该评估值，借由该处理器使用一基于梯度之最优化方法以产生一第一经调整二元光罩图案。该方法亦包括借由该处理器基于该设计图案与一第一经更新基板图案之间的一比较而判定一第一经更新评估值，该第一经更新基板图案系基于该第一经调整二元光罩图案而仿真。该方法亦包括基于该第一经更新评估值，借由该处理器使用一黑塞矩阵与一任意矢量之一乘积以产生一第二经调整二元光罩图案。该方法亦包括借由该处理器基于该第二经调整二元光罩图案而仿真一第二经更新基板图案。