Abstract:
본 발명은 극저온/고전압 알루미늄 양극산화장치 및 양극산화방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 극저온/고전압(LTHV) 상태에서 알루미늄 양극산화반응을 하도록 하기 때문에, 장치의 구성이 간단하고, 빠른 시간 내에 나노패턴이 형성되도록 하고, 전체 장치의 구성이 간단하고 처리 과정도 단순하게 되며, 양극산화시의 조건인 극저온의 온도와, 고전압의 전압을 원하는 정도로 알맞게 조절하게 되면, 원하는 형태의 나노패턴의 두께와 나노패턴의 인터포어 간격을 형성할 수 있어, 다양하고도 최적의 나노패턴을 손쉽게 생산할 수 있는 탁월한 장점이 있는 극저온/고전압 알루미늄 양극산화장치, 극저온/고전압 알루미늄 양극산화장치에 의한 양극산화방법 및 극저온/고전압 알루미늄 양극산화장치에 의한 양극산화방법에 의하여 구비된 나노마스터에 관한 것이다.