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    KR102223566B1 - Automatic fruit harvesting equipment
    1.
    发明专利
    KR102223566B1 - Automatic fruit harvesting equipment 有权

    公开(公告)号：KR102223566B1

    公开(公告)日：2021-03-05

    申请号：KR1020180137909A

    申请日：2018-11-12

    Applicant: 김동렬

    Inventor： 김동렬

    IPC: A01D46/253 ,  A01D46/22

    CPC classification number: A01D46/253 ,  A01D46/22

    Abstract: 본 발명은 자동식 열매 수확기에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 과일이나 열매를 수확할 때, 본체부의 수용홈에 수용된 과일이나 열매를 절단부가 자동화 기계장치에 의해 슬라이딩 작동되어 꼭지부분을 절단하는 방식으로 수확함으로써, 여러개의 과일이나 열매를 한번에 수확할 수 있어 작업자의 피로감을 줄일 수 있고, 절단된 수확물은 본체부의 저장부에 임시 저장한 뒤, 한꺼번에 따로 옮겨담기에 수확작업을 보다 신속하면서 효율적으로 할 수 있으며, 작업자가 간편한 스위치 조작으로 회전모터 또는 전자석 등으로 이루어진 자동화 기계장치를 작동시켜 절단부를 슬라이딩시킴으로써, 종래의 수동으로 과일이나 열매를 수확하는 방식보다 편리하면서 간편하게 수확의 생산성이 증가하고, 그로 인해 농가의 소득이 증대되는 특징이 있다.

    반도체 제조에 사용되는 분사부재 및 그것을 갖는 기판 처리 장치
    2.
    发明申请
    반도체 제조에 사용되는 분사부재 및 그것을 갖는 기판 처리 장치 审中-公开
    在半导体制造中使用的注射成员，以及具有该半导体的基板处理装置

    公开(公告)号：WO2012176996A2

    公开(公告)日：2012-12-27

    申请号：PCT/KR2012/004267

    申请日：2012-05-30

    Applicant: 국제엘렉트릭코리아 주식회사 ,  박용성 ,  이성광 ,  김동렬 ,  방홍주 ,  김민석

    Inventor： 박용성 ,  이성광 ,  김동렬 ,  방홍주 ,  김민석

    IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

    CPC classification number: H01L21/02104 ,  B05B1/005 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

    Abstract: 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 복수의 기판이 수용되어 플라즈마 처리 공정이 수행되는 공정 챔버; 공정 챔버에 설치되고 동일 평면상에 복수의 기판이 놓여지는 지지부재; 및 지지부재와 대향되게 설치되고, 적어도 하나 이상의 반응가스 및 퍼지가스를 지지부재에 놓여진 복수의 기판들 각각에 대응하는 위치에서 독립적으로 분사할 수 있도록 독립된 복수개의 배플들을 갖는 분사부재; 및 분사부재의 배플들이 지지부재에 놓여진 복수의 기판들 각각에 순차적으로 선회하도록 지지부재 또는 상기 분사부재를 회전시키는 구동부를 포함하되; 분사부재는 복수개의 배플들 중 반응가스를 분사하는 적어도 하나의 배플에 설치되어 기판으로 분사되는 반응가스를 플라즈마화하는 플라즈마 발생기를 포함한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种基板处理装置。 基板处理装置包括：处理室，其接收多个基板以进行等离子体处理工艺; 安装在处理室内的支撑件，以便将多个基板安装在同一平面上; 注射构件，其安装成与所述支撑构件相对并且包括多个独立挡板，用于独立地将至少一个反应气体和吹扫气体注入到与放置在所述支撑构件上的所述多个基板相对应的位置中; 以及用于使支撑构件或喷射构件旋转的驱动部件，使得喷射构件的挡板朝向位于支撑构件上的多个基板的上侧依次旋转。 注射构件包括等离子体发生器，其安装在至少一个挡板上，用于从多个挡板喷射反应气体，用于使待注射到基底上的反应气体均匀化。

    기판 서셉터 및 그것을 갖는 증착 장치
    5.
    发明申请
    기판 서셉터 및 그것을 갖는 증착 장치 审中-公开
    基板不锈钢和沉积装置

    公开(公告)号：WO2012015140A1

    公开(公告)日：2012-02-02

    申请号：PCT/KR2011/001819

    申请日：2011-03-16

    Applicant: 국제엘렉트릭코리아 주식회사 ,  박용성 ,  이성광 ,  김동렬

    Inventor： 박용성 ,  이성광 ,  김동렬

    IPC: H01L21/205 ,  H01L21/683

    CPC classification number: C23C16/46 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/4581 ,  C23C16/4584 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

    Abstract: 본 발명은 반도체 소자 제조에 사용되는 증착 장치에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 공정 챔버; 상기 공정 챔버에 설치되고 동심원상에 기판이 놓여지는 복수개의 스테이지를 갖는 기판 서셉터; 반응가스를 공급하는 복수개의 가스공급부재; 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스 공급부재; 상기 복수개의 가스 공급부와 상기 퍼지가스 공급부재로부터 제공받은 반응가스 및 퍼지가스를 상기 스테이지들 각각에 놓여진 기판과 대응하는 위치에서 기판의 처리면 전체에 독립적으로 분사할 수 있도록 복수개의 독립된 배플들을 갖는 분사부재; 및 상기 분사부재의 배플들이 상기 스테이지에 놓여진 복수개의 기판들 각각으로 순차 선회하도록 상기 기판 서셉터 또는 상기 분사부재를 회전시키는 구동부를 포함한다. 상기 기판 서셉터는 상기 스테이지들이 형성된 상부 서셉터; 상기 상부 서셉터 저면에 결합되고 기판을 가열하기 위한 열원을 제공하는 발열체가 설치된 하부 서셉터; 및 상기 하부 서셉터의 저면에 상기 스테이지들 각각에 대응되게 설치되고, 상기 하부 서셉터 저면으로 방사되는 열에너지를 상기 하부 서셉터 측으로 재공급하여 열효율을 높이기 위한 차폐판를 포함한다.

    Abstract translation: 本发明涉及用于制造半导体器件的沉积设备。 根据本发明的沉积设备包括：处理室; 衬底感受体，安装在所述处理室中，并且包括多个同心布置的阶段，衬底被定位在其上; 多个用于提供反应气体的构件; 供应吹扫气体的成员; 喷射构件，其包括多个挡板，用于独立地喷射反应气体和吹扫气体，所述反应气体和吹扫气体从供应反应气体的多个构件和供给吹扫气体的构件供应到基板的整个处理表面上，分别对应于 位于台架上的基板; 以及驱动单元，用于旋转基板基座或喷射构件，以便喷射构件的挡板顺序地旋转位于台上的多个基板中的每一个。 衬底基座包括：上基座，其上形成有台阶; 耦合到所述上基座的底表面的下基座，并且包括安装在其上的加热元件，用于提供用于加热所述基板的热源; 以及分别对应于下基座的底面上的台阶的阻挡板，用于通过向下基座重新供应向下基座底面辐射的热能来提高热效率。

    태양전지용 보호필름 및 이를 포함하는 태양전지
    7.
    发明申请
    태양전지용 보호필름 및 이를 포함하는 태양전지 审中-公开
    太阳能电池应用保护膜和具有相同抗体的太阳能电池

    公开(公告)号：WO2012157962A2

    公开(公告)日：2012-11-22

    申请号：PCT/KR2012/003862

    申请日：2012-05-16

    Applicant: 주식회사 엘지화학 ,  황장연 ,  마승락 ,  김동렬

    Inventor： 황장연 ,  마승락 ,  김동렬

    IPC: B32B27/08 ,  B32B27/18 ,  C08J5/18 ,  H01L31/04

    CPC classification number: H01L31/02167 ,  B32B7/12 ,  B32B27/18 ,  B32B27/304 ,  B32B27/322 ,  B32B2255/28 ,  B32B2307/71 ,  B32B2457/00 ,  H01L31/049 ,  Y02E10/50

    Abstract: 본 발명은 기재층, 유기-무기 하이브리드층 및 무기차단층이 순차적으로 적층된 다층구조의 베리어 필름 및 불소계 폴리머층을 포함하며, 상기 기재층, 유기-무기 하이브리드층, 무기차단층 및 불소계 폴리머층 중 하나 이상은 자외선 안정제 및 자외선 흡수제 중 하나 이상을 포함하는 태양전지용 보호필름 및 이를 포함하는 태양전지에 관한 것이다. 상기 태양전지용 보호필름은 산소 및 수증기 침투에 의한 태양전지 모듈의 효율저하를 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 자외선에 의한 보호필름의 성능저하를 방지하여 태양전지 모듈의 효율 및 수명을 현저하게 개선시킬 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于太阳能电池应用的保护膜和具有该保护膜的太阳能电池，包括：基材层; 具有有机 - 无机混合层和无机阻挡层依次层叠的多层结构的阻挡膜; 以及含氟聚合物层，其中所述基材层，有机 - 无机混合层，无机阻挡层和所述含氟聚合物层中的一层或多层包含紫外线稳定剂和紫外线吸收剂中的一种或多种。 用于太阳能电池应用的保护膜可以通过氧气和蒸汽的渗透来防止太阳能电池模块的低效率，并且可以通过防止紫外线在保护膜中的低性能来提高太阳能电池模块的效率和寿命。

    반도체 제조에 사용되는 분사부재 및 그것을 갖는 플라즈마 처리 장치
    9.
    发明申请
    반도체 제조에 사용되는 분사부재 및 그것을 갖는 플라즈마 처리 장치 审中-公开
    用于半导体制造的喷涂部件，以及具有相同等离子体处理装置

    公开(公告)号：WO2012096529A2

    公开(公告)日：2012-07-19

    申请号：PCT/KR2012/000297

    申请日：2012-01-12

    Applicant: 국제엘렉트릭코리아 주식회사 ,  가부시키가이샤 히타치코쿠사이덴끼 ,  박용성 ,  이성광 ,  김동렬 ,  토요다카즈유키 ,  카사하라오사무 ,  이나다테츠아키

    Inventor： 박용성 ,  이성광 ,  김동렬 ,  토요다카즈유키 ,  카사하라오사무 ,  이나다테츠아키

    IPC: H05H1/34 ,  H01L21/205

    CPC classification number: H01L21/203 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/45591 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4585 ,  C23C16/50 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32733 ,  H01L21/3065

    Abstract: 본 발명은 플라즈마 처리 장치에 관한 것으로, 복수의 기판이 수용되어 플라즈마 처리 공정이 수행되는 공정 챔버; 공정 챔버에 설치되고 동일 평면상에 복수의 기판이 놓여지는 지지부재; 및 지지부재와 대향되게 설치되고, 적어도 하나 이상의 반응가스 및 퍼지가스를 지지부재에 놓여진 복수의 기판들 각각에 대응하는 위치에서 독립적으로 분사할 수 있도록 독립된 복수개의 배플들을 갖는 분사부재; 및 분사부재의 배플들이 지지부재에 놓여진 복수의 기판들 각각에 순차적으로 선회하도록 지지부재 또는 상기 분사부재를 회전시키는 구동부를 포함하되; 분사부재는 복수개의 배플들 중 반응가스를 분사하는 적어도 하나의 배플에 설치되어 기판으로 분사되는 반응가스를 플라즈마화하는 플라즈마 발생기를 포함한다.

    Abstract translation: 等离子体处理装置技术领域本发明涉及一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：处理室，容纳多个基板，进行等离子体处理工序; 安装在所述处理室中的支撑构件，使得所述多个基板被放置在所述支撑构件的同一平面上; 喷射构件，其布置成与支撑构件相对，并且具有多个独立的挡板，用于独立地从与放置在支撑构件上的多个基板中的每一个对应的位置喷射至少一个反应气体和吹扫气体; 以及驱动单元，其使支撑构件或喷射构件旋转，使得喷射构件的挡板可以顺序地围绕放置在支撑构件上的多个基板中的每一个上方环绕。 喷射构件包括安装在至少一个挡板中的等离子体发生器，其在多个挡板之间喷射反应气体，以便从被喷射到基板上的反应气体产生等离子体。

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