公开(公告)号：WO2011046244A1

公开(公告)日：2011-04-21

申请号：PCT/KR2009/005996

申请日：2009-10-16

Applicant: 서울대학교산학협력단 ,  전헌수 ,  이준희 ,  안성모 ,  장호준

Inventor： 전헌수 ,  이준희 ,  안성모 ,  장호준

IPC: H01S5/343 ,  H01S5/323

CPC classification number: G02B5/1861

Abstract: Ⅲ족 질화물 표면 격자 반사체가 개시된다. 일 실시예로서, 기판 및 상기 기판의 일면 위에 배치되며 1차원 회절 격자 패턴의 구조가 표면에 형성된 Ⅲ족 질화물 층을 포함하되, 상기 격자 패턴 구조는 마루 부분과 골 부분이 주기적으로 배치된 요철 형상의 단면을 가지며, 상기 Ⅲ족 질화물 내부로부터 입사한 입사광 중 상기 마루 부분을 투과하는 제 1 광과 상기 골 부분을 투과하는 제 2 광이 서로 상쇄간섭을 일으킴으로써 상기 입사광이 상기 격자 패턴 구조의 표면에서 반사되는 Ⅲ족 질화물 표면 격자 반사체가 개시된다.

Abstract translation: 公开了III族氮化物表面光栅反射器。 作为一个实施例，III族氮化物表面光栅反射器包括：衬底; 以及设置在基板的一侧上的III族氮化物层，并且在表面上形成有一维衍射光栅图案的结构，其中光栅图案的结构具有不均匀的横截面，峰顶 并且槽周期性地布置，并且在从III族氮化物层的内部入射的光中，穿过波峰的第一光和通过槽的第二光相互造成相互干扰，由此入射光在 光栅图案的结构表面。

公开(公告)号：WO2009145571A2

公开(公告)日：2009-12-03

申请号：PCT/KR2009/002830

申请日：2009-05-28

Applicant: 서울대학교산학협력단 ,  전헌수 ,  차국헌 ,  최윤경 ,  김호섭

Inventor： 전헌수 ,  차국헌 ,  최윤경 ,  김호섭

IPC: H01L33/00

CPC classification number: H01L33/508 ,  H01L2933/0083

Abstract: 여기원에 의해 여기되어 상기 여기원의 펌프 광자보다 장파장의 발광을 할 수 있는 형광체를 내부에 포함하고 있는 나노구체들이 3차원적으로 밀집하여 배열된 결정구조를 갖는 광자결정 구조체를 포함하되, 상기 결정구조는 적어도 특정 결정 방향에 대해 광밴드갭을 가지고 상기 펌프 광자의 파장이 상기 광밴드갭에 속하는 발광소자가 개시된다.

Abstract translation: 公开了一种包括光子晶体结构的发光器件，其中纳米球含有荧光体以三维方式密集地排列并被激发源激发以发射比激发源的泵浦光子更长的波长的光。 晶体结构相对于特定的晶体取向具有至少一个光带隙，并且泵浦光子的波长在光带隙内。

公开(公告)号：KR100383150B1

公开(公告)日：2003-05-12

申请号：KR1020010037198

申请日：2001-06-27

Applicant: 엘지전자 주식회사 ,  전헌수

Inventor： 전헌수 ,  이재숭 ,  노영근 ,  박연상 ,  조치오 ,  최영호

IPC: G02B6/02

Abstract: PURPOSE: An optical circuit using a photonic crystal and a method for fabricating the same are provided to reduce a radiation loss due to a bending phenomenon of an optical path and fabricate a small-sized optical device by using a colloidal crystal. CONSTITUTION: Two materials having different refractive indexes are deposited on an upper surface of a substrate(21), alternately. An under barrier crystal layer(22) is formed on the upper surface of the substrate(21) by using SiO2/TiO2 or SiO2/Si. A guide core layer(23) is deposited on an upper surface of the under barrier crystal layer(22). An upper barrier crystal layer(24) is deposited on an upper surface of the guide core layer(23). A P/R layer is coated on an upper surface of the upper barrier crystal layer(24). The P/R layer is patterned by using a photo-lithography method or an electron beam lithography method. The substrate(21) is dipped into colloidal crystal(25). A photonic crystal is formed by hardening the colloidal crystal(25).

Abstract translation: 目的：提供一种使用光子晶体的光路及其制造方法，以减少由光路的弯曲现象引起的辐射损失，并通过使用胶体晶体制造小尺寸光学器件。 构成：具有不同折射率的两种材料交替地沉积在基板（21）的上表面上。 通过使用SiO2 / TiO2或SiO2 / Si在衬底（21）的上表面上形成下阻挡晶体层（22）。 引导芯层（23）沉积在下阻挡晶体层（22）的上表面上。 上阻挡晶体层（24）沉积在引导芯层（23）的上表面上。 P / R层被涂覆在上阻挡晶体层（24）的上表面上。 通过使用光刻法或电子束光刻法对P / R层进行图案化。 将衬底（21）浸入胶体晶体（25）中。 光子晶体通过硬化胶体晶体（25）而形成。

公开(公告)号：KR1020030000929A

公开(公告)日：2003-01-06

申请号：KR1020010037198

申请日：2001-06-27

Applicant: 엘지전자 주식회사 ,  전헌수

Inventor： 전헌수 ,  이재숭 ,  노영근 ,  박연상 ,  조치오 ,  최영호

IPC: G02B6/02

Abstract: PURPOSE: An optical circuit using a photonic crystal and a method for fabricating the same are provided to reduce a radiation loss due to a bending phenomenon of an optical path and fabricate a small-sized optical device by using a colloidal crystal. CONSTITUTION: Two materials having different refractive indexes are deposited on an upper surface of a substrate(21), alternately. An under barrier crystal layer(22) is formed on the upper surface of the substrate(21) by using SiO2/TiO2 or SiO2/Si. A guide core layer(23) is deposited on an upper surface of the under barrier crystal layer(22). An upper barrier crystal layer(24) is deposited on an upper surface of the guide core layer(23). A P/R layer is coated on an upper surface of the upper barrier crystal layer(24). The P/R layer is patterned by using a photo-lithography method or an electron beam lithography method. The substrate(21) is dipped into colloidal crystal(25). A photonic crystal is formed by hardening the colloidal crystal(25).

Abstract translation: 目的：提供一种使用光子晶体的光电路及其制造方法，以减少由于光路的弯曲现象引起的辐射损耗，并通过使用胶体晶体制造小尺寸的光学器件。 构成：具有不同折射率的两种材料交替地沉积在基板（21）的上表面上。 通过使用SiO 2 / TiO 2或SiO 2 / Si，在基板（21）的上表面上形成下阻挡晶体层（22）。 引导芯层（23）沉积在下阻挡晶体层（22）的上表面上。 上导电芯层（23）的上表面上沉积有上阻挡层（24）。 在上阻挡晶体层（24）的上表面上涂覆有P / R层。 通过使用光刻法或电子束光刻法对P / R层进行图案化。 将基板（21）浸入胶体晶体（25）中。 通过硬化胶体晶体（25）形成光子晶体。

公开(公告)号：KR1020000057779A

公开(公告)日：2000-09-25

申请号：KR1020000002604

申请日：2000-01-20

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  전헌수

Inventor： 전헌수

IPC: H01L31/00 ,  H01L21/30

Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a micro lens is to provide a high-quality micro lens by a simple method using a diffusion-limited etching. CONSTITUTION: A method for manufacturing a micro lens comprises the steps of: forming an etching mask for opening a portion in which the micro lens will be formed on a substrate; preparing a chemical etching solution causing a diffusion-limited etching regarding the substrate; and soaking the substrate having the etching mask in the chemical etching solution so that the exposed part in the opening becomes a dented shape by etching.

Abstract translation: 目的：制造微透镜的方法是通过使用扩散限制蚀刻的简单方法来提供高质量的微透镜。 构成：一种制造微透镜的方法包括以下步骤：形成蚀刻掩模，用于打开其上将形成微透镜的部分在基板上; 制备对基板进行扩散限制蚀刻的化学蚀刻溶液; 并将具有蚀刻掩模的基板浸渍在化学蚀刻溶液中，使得开口中的暴露部分通过蚀刻成为凹陷形状。

公开(公告)号：KR100472822B1

公开(公告)日：2005-03-08

申请号：KR1020020027597

申请日：2002-05-18

Applicant: 전헌수

Inventor： 전헌수

IPC: H01S5/18

Abstract: 레이저빔이 생성 및 증폭되도록 공진시키는 공진기 밖으로 출력되는 레이저빔의 일부를 반사시켜 공진기 내부로 되먹임시키며 공진기에 대해 오목거울로서 기능을 하는 되먹임 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 표면 발광 레이저가 개시되어 있다.
개시된 표면 발광 레이저에 의하면, 단일 기본 횡모드가 압도적으로 발진되어 중심에서의 강도가 가장 센 광출력을 얻을 수 있다. 또한, 개시된 표면 발광 레이저는, 지금까지 제안된 방법들에 비해 제조공정이 간단하여 재현성이 우수하다.

公开(公告)号：KR1020020092186A

公开(公告)日：2002-12-11

申请号：KR1020020027597

申请日：2002-05-18

Applicant: 전헌수

Inventor： 전헌수

IPC: H01S5/18

Abstract: PURPOSE: A vertical cavity surface emitting laser is provided to oscillate overpoweringly a single transverse mode by using a feedback member for feeding back a laser beam outputted to the outside of a resonator. CONSTITUTION: A substrate(100) is formed with a chemical semiconductor material. A lower DBR(Distributed Bragg Reflector)(110) and an upper DBR(140) are used for forming a resonator for inducing and amplifying a beam from an active layer(120). The lower DBR(110) is doped by the same type dopant as the substrate(100). The upper DBR(140) is doped by the opposite type dopant to the lower DBR(110). The upper DBR(140) and the lower DBR(110) are formed by laminating the chemical semiconductor materials of different refractive indexes. The refractive index of the lower DBR(110) is higher than the refractive index of the upper DBR(140). The upper DBR(140) and the lower DBR(110) are used for inducing the flow of electrons and positive holes by the current applied from an upper and a lower electrode(160,170). A current limit layer(130) is formed on the active layer(120).

Abstract translation: 目的：提供垂直腔表面发射激光器，通过使用反馈构件来反射输出到谐振器外部的激光束，从而以单一横向模式振荡。 构成：用化学半导体材料形成衬底（100）。 下DBR（分布式布拉格反射器）（110）和上DBR（140）用于形成用于感应和放大来自有源层（120）的光束的谐振器。 下DBR（110）由与衬底（100）相同类型的掺杂剂掺杂。 上DBR（140）被相反类型的掺杂剂掺杂到下DBR（110）。 通过层叠不同折射率的化学半导体材料来形成上DBR（140）和下DBR（110）。 下DBR（110）的折射率高于上DBR（140）的折射率。 上DBR（140）和下DBR（110）用于通过从上电极和下电极（160,170）施加的电流来感应电子和正空穴的流动。 在有源层（120）上形成限流层（130）。