公开(公告)号：KR1019950027387A

公开(公告)日：1995-10-16

申请号：KR1019940004680

申请日：1994-03-10

Applicant: 한국광학기술개발주식회사 ,  김효진

Inventor： 김효진

IPC: G01N21/00

Abstract: 본 발명은 원자흡수법 및 원자방출법을 이용하는 분광분석 시스템에 관한 것으로, 보다 상세히는 금속시료를 플라즈마 방전시키는 노즐의 구조와, 가스의 압력 및 유량 제어특성을 효과적으로 개선하여 금속시료등의 성분을 정확하고 신속하게 측정할 수 있도록 개선된 분광분석시스템과 이에 사용되는 방전셀 및, 가스의 압력 및 유량어방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 원자흡수법 또는 원자방출법으로서 금속시편의 성분분석을 분석을 분석하는 경우, 효과적으로 가스의 압력 및 유량을 제어함으로서 보다 성분분석을 최적화할 수 있고, 원추형 방전노즐을 사용함으로서 시편깊이에 따른 정확한 성분검출이 가능한 효과가 얻어지는 것이다.

公开(公告)号：KR100131086B1

公开(公告)日：1998-04-11

申请号：KR1019940004680

申请日：1994-03-10

Applicant: 한국광학기술개발주식회사 ,  김효진

Inventor： 김효진

IPC: G01N21/00

Abstract: The gas flux controlling method is composed of (a) inputting a predetermined value of gas flux in a computer of an automatic control means; (b) supplying the previously set gas flux through a main gas supplying tube of a gas flow controlling means according to the input data; (c) detecting and adjusting the gas pressure discharged from a discharge cell of a glow discharging means. The gas pressure controlling method is composed of (a) inputting a predetermined value of gas pressure in the computer of the automatic control means; (b) supplying the previously set gas flux into an interior of the discharging cell through the main gas supplying tube of the gas flow controlling means according to the input data; (c) perceiving continuously the gas pressure of the interior of the discharging cell and adjusting gas flux through a subsidiary gas flux adjusting device of a subsidiary supplying tube.

Abstract translation: 气体流量控制方法包括：（a）在自动控制装置的计算机中输入气体通量的预定值; （b）根据输入数据，通过气体流量控制装置的主气体供给管供给预先设定的气体流量; （c）检测并调节从辉光放电装置的放电单元排出的气体压力。 气体压力控制方法包括：（a）在自动控制装置的计算机中输入气体压力的预定值; （b）根据输入数据，通过气体流量控制装置的主气体供应管将预先设定的气体通量提供到排放单元的内部; （c）连续感知放电单元内部的气体压力，并通过辅助供给管的辅助气体通量调节装置调节气体通量。