公开(公告)号：WO2010044545A2

公开(公告)日：2010-04-22

申请号：PCT/KR2009/005031

申请日：2009-09-04

Applicant: 지.텍(주) ,  김봉석 ,  한기룡 ,  김경훈 ,  윤정상

Inventor： 김봉석 ,  한기룡 ,  김경훈 ,  윤정상

IPC: C23C14/56

CPC classification number: C23C14/562

Abstract: 본 발명의 일체형 롤-투-롤 스퍼터 챔버는 기판의 필름에 부착된 이물질을 제거하는 전처리 공정을 수행하는 제1 챔버; 및 상기 필름 위에 물질을 증착하는 공정을 수행하는 제2 챔버를 구비하되, 상기 제1 챔버 및 상기 제2 챔버 각각의 상기 필름은 각각 제1 롤러 시스템 및 제2 롤러 시스템에 의해 연속적으로 상기 제1 챔버 및 상기 제2 챔버 각각의 작업 영역으로 이송되며, 상기 제1 챔버는 상기 제2 챔버에 대해서 서로 대향하여 마주보며 경계를 형성하는 격벽(partition)을 통해 상기 제2 챔버와 부착되어 있는 일체형의 스퍼터 챔버를 제공함에 기술적 특징이 있다. 본 발명의 일체형 롤-투-롤 스퍼터 챔버는 일체형 챔버를 제작, 유지, 보수하는데 종전에 비해 적은 비용이 소모될 뿐 아니라, 챔버 크기를 줄임으로써 작업 면적을 효율적으로 이용할 수 있으며, 탈부착 가능한 Rewinding Roller 와 Unwinding Roller를 바닥면에서 1m 내지 1.5 m 내외의 높이로 설치함으로써, 유지, 보수 작업을 할 때 종전의 크레인(crane)을 사용하지 않고 곧바로 작업이 가능하여 후속 공정을 신속히 처리할 수 있는 장점이 있다.

Abstract translation: 本发明提供了一种集成的卷对卷溅射室，其包括：第一室，用于执行去除附着到基板的膜上的异物的预处理过程; 以及用于在所述膜上沉积材料的第二室。 第一和第二腔室的膜分别通过第一和第二辊系统连续转移到第一和第二腔室的工作区域。 第一腔室通过面向第二腔室并形成边界的隔板连接到第二腔室。 与传统的室相比，可以以低成本制造，维护和修理本发明的一体式卷对卷溅射室。 另外，本发明能够通过减小室的大小来有效地利用工作区域。 另外，用于倒带和退绕的两个可拆卸的滚轮安装在距离地板表面1m-1.5m的高度处，因此可以在没有现有起重机的维护和维修工作期间直接进行工作，从而可以快速执行后续处理。

公开(公告)号：WO2011013939A2

公开(公告)日：2011-02-03

申请号：PCT/KR2010/004759

申请日：2010-07-21

Applicant: 지.텍(주) ,  김한기 ,  이원영 ,  박용석 ,  한기룡

Inventor： 김한기 ,  이원영 ,  박용석 ,  한기룡

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/185 ,  C23C14/086 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/562

Abstract: 본 발명의 연속 스퍼터링을 구현하는 롤투롤 스퍼터 장치는, 언와인더 롤(210a)에 감긴 플렉시블 기판(211a)을 풀어 드럼(220)의 작업영역으로 이송하고, 작업이 완료된 후 와인더 롤(210b) 방향으로 이송하는 롤투롤 스퍼터 장치에 있어서, 상기 드럼(drum, 250) 주변의 제1 측에 설치되어 상기 플렉시블 기판(211a) 위에 투명 전극(TCO) 물질을 스퍼터링 하는 제1 스퍼터(230a); 상기 드럼(drum, 250) 주변의 제2 측에 설치되어 상기 플렉시블 기판(211a) 위에 금속 물질을 스퍼터링 하여 투과층을 형성하는 제2 스퍼터(230b); 및 상기 드럼(drum, 250) 주변의 제3 측에 설치되어 상기 플렉시블 기판(211a) 위에 투명 전극(TCO) 물질을 스퍼터링 하는 제3 스퍼터(230c)를 제공함에 기술적 특징이 있다.

Abstract translation:

卷对卷溅射实现本发明的连续溅射设备，并释放所述柔性基板（211A）卷绕在开卷辊（210a），其传输到鼓220的工作区，工作 （TCO）材料被溅射在滚筒250的第一侧上的柔性基板211a上。滚筒式溅射设备210将滚筒式 第一溅射器230a; 设置在鼓250的第二侧上的第二溅射器230b，以通过在柔性基板211a上溅射金属材料来形成透明层; 以及设置在鼓250的第三侧上的第三溅射器230c，以在柔性基板211a上溅射透明电极（TCO）材料。

公开(公告)号：WO2011013937A2

公开(公告)日：2011-02-03

申请号：PCT/KR2010/004757

申请日：2010-07-21

Applicant: 지.텍(주) ,  한기룡 ,  김경훈 ,  윤정상 ,  최문하

Inventor： 한기룡 ,  김경훈 ,  윤정상 ,  최문하

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/34 ,  H01J37/36 ,  H01J2237/335

Abstract: 본 발명에 의한 스퍼터링 방식을 이용한 전처리 방법은 전극이 형성된 가이드 롤러에 RF(radio frequency) 파워를 인가하는 단계; 가스를 하우징에 주입하는 단계; 상기 주입된 가스를 상기 RF 파워에 의해 플라즈마 상태로 이온화시키는 단계; 및 상기 이온화된 가스가 상기 가이드 롤러에 감긴 플렉시블 필름에 충돌하여 상기 플렉시블 필름 표면의 이물질을 흡착하여 제거하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의한 스퍼터링 방식을 이용한 전처리 방법은 전처리 효율이 우수하고 플라즈마에 의한 필름의 표면의 손실이 적으며 전처리 단계 이후 박막 증착시 부착력을 개선시킨 효과가 있다.

Abstract translation: 根据本发明，使用溅射系统的预处理方法包括：对具有电极的引导辊施加射频（RF）功率的步骤; 将气体注入壳体的步骤; 通过RF功率将注入的气体电离成等离子体状态的步骤; 以及使离子化气体与缠绕在引导辊上的柔性膜碰撞并从柔性膜的表面吸收和去除异物的步骤。 使用根据本发明的溅射系统的预处理方法实现了优异的预处理效率，减少了由等离子体引起的膜表面的损失，并且改善了在预处理过程之后执行的薄膜沉积工艺期间薄膜的粘合性能 。