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公开(公告)号：WO2011027987A2
公开(公告)日：2011-03-10
申请号：PCT/KR2010/005630
申请日：2010-08-24
Applicant: 주식회사 아이피에스 , 황희 , 허필웅 , 한창희
CPC classification number: H01L21/68764 , C23C16/45551 , C23C16/45574 , H01L21/68771
Abstract: 본 발명은 가스분사장치 및 이 가스분사장치를 채용한 기판처리장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 가스분사장치는 챔버 내부에 회전가능하게 설치되어 복수의 기판을 지지하는 기판지지부의 상부에 설치되며, 기판지지부의 중심점을 기준으로 원주방향을 따라 배치되어 기판에 공정가스를 분사하는 복수의 가스분사유닛을 구비하는 것으로서, 복수의 가스분사유닛들 중 적어도 하나의 가스분사유닛은, 공정가스가 도입되는 도입구가 형성되어 있는 탑플레이트와, 탑프레이트와의 사이에서 기판지지부의 반경방향을 따라 가스확산공간을 형성하도록 탑플레이트의 하부에 배치되며, 도입구를 통해 유입되어 가스확산공간에서 확산된 공정가스가 기판을 향해 분사되도록 가스확산공간의 하측에 다수의 가스분사공이 형성되어 있는 분사플레이트 및 가스확산공간을 기판지지부의 반경방향을 따라 상호 격리된 복수의 공간으로 분할하도록 탑플레이트와 분사플레이트 사이에 설치되는 격벽을 구비하며, 격리된 공간별로 공정가스들이 독립적으로 유입되도록, 도입구는 복수 개 마련되어 격리된 공간별로 배치되는 것에 특징이 있다.
Abstract translation: 气体喷射装置和使用该气体喷射装置的基板处理装置技术领域本发明涉及气体喷射装置和使用该气体喷射装置的基板处理装置。 根据本发明的气体注入装置安装在可旋转地安装在所述腔室中支撑多个基板内的基板支撑件的上部，它被布置在周向相对于所述基板的所述处理气体注入到基板支撑部的中心点的方向 为具有多个气体喷射单元，多个气体喷射单元中的至少一个气体喷射单元，该处理气体中的顶板上形成的入口端口被引入，与货运塔架之间的衬底支撑件的半径 在气体扩散空间的下侧形成多个气体喷射孔，使得通过引入端口引入并扩散到气体扩散空间中的工艺气体朝向基板喷射 喷射板和气体扩散空间沿基板支撑件的径向被分成多个相互隔离的空间 为隔离空间提供多个入口开口，使得过程气体可以独立地流入隔离开口。
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公开(公告)号：WO2010067974A2
公开(公告)日：2010-06-17
申请号：PCT/KR2009/007004
申请日：2009-11-26
IPC: H01L21/205 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/68764 , C23C16/45565 , H01L21/68771
Abstract: 본 발명은 기판에 박막이 균일한 두께로 증학될 수 있으며, 샤워헤드를 용이하게 재구성할 수 있도록 구조가 개선된 복수기판 처리장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 복수기판 처리장치는 내부에 공정 공간이 형성되어 있는 챔버와, 챔버의 공정 공간에 설치되며, 상면의 둘레 방향을 따라 기판이 안착되는 복수의 안착부가 마련되어 있는 기판 지지대와, 기판 지지대의 상측에 방사형으로 배치되며, 기판을 향하여 원료가스를 분사하는 복수의 원료가스분사유닛을 가지는 샤워헤드를 구비하되, 원료가스분사유닛에는, 기판 지지대의 중앙으로부터 가장자리 쪽으로 갈수록 원료가스의 분사량이 증가되도록 원료가스가 분사되는 복수의 노즐이 마련되어 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于处理多个基板的设备，其具有改进的结构，以便在均匀厚度的基板上沉积薄膜，并且以简单的方式布置淋浴头。 根据本发明的用于处理多个基板的设备包括：具有内部的室，其具有用于处理的空间; 基板支撑体，其安装在所述室的空间中，并且沿着其上表面的周向具有多个安装部，以使基板能够安装在各个安装部中; 以及径向设置在基板支撑件上的喷头，并且具有多个用于将材料气体喷射到基板上的材料气体喷射单元。 材料气体喷射单元配备有多个喷嘴，用于喷射材料气体，使得被喷射的原料气体的量随着从基板支撑件的中心朝向角落而增加。
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