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    PROCÉDÉ DE FABRICATION D'OBJETS DE GRANDE PRÉCISION PAR LITHOGRAPHIE HAUTE RÉSOLUTION ET PAR FORMAGE PAR DÉPÔT PAR VOIE SÈCHE ET OBJETS AINSI OBTENUS
    1.
    发明申请
    PROCÉDÉ DE FABRICATION D'OBJETS DE GRANDE PRÉCISION PAR LITHOGRAPHIE HAUTE RÉSOLUTION ET PAR FORMAGE PAR DÉPÔT PAR VOIE SÈCHE ET OBJETS AINSI OBTENUS 审中-公开
    通过高分辨率光刻和干燥沉积制造高精度物体的方法和获得的物体

    公开(公告)号：WO2012089934A1

    公开(公告)日：2012-07-05

    申请号：PCT/FR2011/000679

    申请日：2011-12-26

    Applicant: ONERA (OFFICE NATIONAL D'ETUDES ET DE RECHERCHES AEROSPATIALES) ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE CNRS ,  LANDAIS, Stéphane ,  BOUAMRANE, Fayçal ,  BOUVET, Thomas ,  DESSORNES, Olivier ,  JOSSO, Pierre ,  MEGTERT, Stéphan ,  VALLE, Roger

    Inventor： LANDAIS, Stéphane ,  BOUAMRANE, Fayçal ,  BOUVET, Thomas ,  DESSORNES, Olivier ,  JOSSO, Pierre ,  MEGTERT, Stéphan ,  VALLE, Roger

    IPC: G03F7/00 ,  G03F7/40

    CPC classification number: B81C1/00198 ,  B81B5/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C18/1605 ,  C23C18/1657 ,  F16C17/12 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/2976

    Abstract: L'invention concerne un procédé de fabrication d'un objet de grande précision formé d'au moins un matériau inorganique, comprenant les étapes suivantes : utiliser un procédé de photolithographie à haute résolution mettant en œuvre un rayonnement X ou UV selon le degré de précision désiré, suivant une direction choisie Z pour former un moule négatif non déformable à l'échelle micrométrique au cours des étapes du procédé, dans un matériau résistant à une étape de formage de l'objet par dépôt par voie sèche et pouvant soit être éliminé sans altération de l'objet qui aura été fabriqué, soit être séparé dudit objet; choisir, indépendamment du potentiel normal d'oxydoréduction de ses éléments constitutifs, au moins un matériau inorganique parmi l'ensemble des matériaux pouvant être déposés par voie sèche et susceptibles de permettre à l'objet à fabriquer de satisfaire à ses contraintes thermomécaniques et environnementales; et réaliser, au moyen du moule négatif non déformable, le formage de l'objet à fabriquer par dépôt par voie sèche dudit au moins un matériau inorganique, ce qui permet de fabriquer un objet de précision, meilleure que micrométrique, notamment en ce qui concerne le parallélisme entre les parois générées par dépôt par voie sèche et ladite direction Z. L'invention trouve une application préférentielle dans la fabrication d'objets micromécaniques de grande précision, en particulier dans les domaines de l'aéronautique et de l'horlogerie.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造由至少一种无机材料制成的高精度物体的方法，包括以下步骤：使用高分辨率光刻工艺，根据期望的精度采用X射线或紫外线，在 选择的方向Z，以形成在该过程的步骤期间在微尺度处不变形的负模具，能够经受用于通过干沉积形成物体的步骤的材料，并且可能在不改变所制造的物体的情况下被移除 或与所述对象分离; 选择独立于其组成元素的正常氧化还原电位的至少一种无机材料，其可以通过干沉积沉积并允许物体被制造以满足其热机械和环境规格的材料组; 以及通过所述不可变形的负模具形成通过所述至少一种无机材料的干法沉积而制造的物体，从而允许以比微观精度更好的方式制造物体，特别是相对于 通过干沉积和所述方向Z产生的壁。本发明优选地应用于制造高精度微机械物体，特别是在航空和钟表制造领域。

    SOUND ABSORPTION DEVICE
    4.
    发明申请
    SOUND ABSORPTION DEVICE 审中-公开
    声音吸收装置

    公开(公告)号：WO2011048323A3

    公开(公告)日：2012-04-05

    申请号：PCT/FR2010052224

    申请日：2010-10-19

    Applicant: ONERA (OFF NAT AEROSPATIALE) ,  AUFFRAY NICOLAS ,  BACOS MARIE-PIERRE ,  BOUCHET REGIS ,  MARCADON VINCENT ,  MERCIER SEBASTIEN ,  JOSSO PIERRE

    Inventor： AUFFRAY NICOLAS ,  BACOS MARIE-PIERRE ,  BOUCHET REGIS ,  MARCADON VINCENT ,  MERCIER SEBASTIEN ,  JOSSO PIERRE

    IPC: G10K11/172

    CPC classification number: G10K11/168

    Abstract: The invention relates to a sound absorption device which comprises a multilayer structure (10) crossed by a plurality of channels (1) forming a porous network and making the device pervious through the body thereof (e). Said channels (1) have changing sections and are the result of stacking conduits (2) formed in the respective layers. The multilayer structure includes at least two stacked layers having a similar thickness, the thicknesses of the two layers being defined by the distance measured between two successive discontinuities (3) of said porous network. The section shifts or transitions in the stack of elementary layers (11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19) offer channel geometry having improved sound absorption compared with a homogenous stack (in-phase stack) of elementary layers. Said arrangement enables better scattering of obliquely incident sound fields.

    Abstract translation: 本发明涉及一种吸声装置，其包括由形成多孔网络的多个通道（1）交叉并使装置通过其主体（e）透过的多层结构（10）。 所述通道（1）具有变化部分，并且是形成在各层中的层叠导管（2）的结果。 所述多层结构包括具有相似厚度的至少两层叠层，两层的厚度由在所述多孔网络的两个连续不连续点（3）之间测得的距离限定。 基本层（11,12,13,14,15,16,17,18,19）的堆叠中的部分移动或转变提供了与基本层的均匀堆叠（同相堆叠）相比具有改善的吸声的沟道几何形状 层。 所述布置使得倾斜入射的声场更好地散射。

    PROCESS FOR FABRICATING HIGH-PRECISION OBJECTS BY HIGH-RESOLUTION LITHOGRAPHY AND DRY DEPOSITION AND OBJECTS THUS OBTAINED
    9.
    发明申请
    PROCESS FOR FABRICATING HIGH-PRECISION OBJECTS BY HIGH-RESOLUTION LITHOGRAPHY AND DRY DEPOSITION AND OBJECTS THUS OBTAINED 审中-公开
    通过高分辨率光刻和干燥沉积制造高精度物体的方法和获得的物体

    公开(公告)号：WO2012089934A4

    公开(公告)日：2013-03-28

    申请号：PCT/FR2011000679

    申请日：2011-12-26

    Applicant: ONERA (OFF NAT AEROSPATIALE) ,  CENTRE NAT RECH SCIENT ,  LANDAIS STEPHANE ,  BOUAMRANE FAYCAL ,  BOUVET THOMAS ,  DESSORNES OLIVIER ,  JOSSO PIERRE ,  MEGTERT STEPHAN ,  VALLE ROGER

    Inventor： LANDAIS STEPHANE ,  BOUAMRANE FAYCAL ,  BOUVET THOMAS ,  DESSORNES OLIVIER ,  JOSSO PIERRE ,  MEGTERT STEPHAN ,  VALLE ROGER

    IPC: G03F7/00 ,  G03F7/40

    CPC classification number: B81C1/00198 ,  B81B5/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C23C18/1605 ,  C23C18/1657 ,  F16C17/12 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40 ,  Y10T428/2976

    Abstract: The invention relates to a process for fabricating a high-precision object made of at least one inorganic material, comprising the following steps: using a high-resolution photolithography process, employing X-rays or UV rays depending on the desired degree of precision, in a chosen direction Z, to form a negative mould, which does not deform at the microscale during the steps of the process, in a material able to withstand a step for forming the object by dry deposition and possibly either being removed without altering the object fabricated or being separated from said object; choosing, independently of the normal redox potential of its constituent elements, at least one inorganic material from the set of materials that can be deposited by dry deposition and that allow the object to be fabricated to meet its thermomechanical and environmental specifications; and forming, by means of the non-deformable negative mould, the object to be fabricated by dry deposition of said at least one inorganic material, thereby allowing an object to be fabricated with better than microscale precision, especially with respect to the angle between the walls generated by the dry deposition and said direction Z. The invention is preferably applied to the fabrication of high-precision micromechanical objects, in particular in the aeronautical and clock/watch-making fields.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于制造由至少一种无机材料制成的高精度物体的方法，包括以下步骤：使用高分辨率光刻工艺，根据期望的精度采用X射线或紫外线，在 选择的方向Z，以形成在该过程的步骤期间在微尺度处不变形的负模具，能够经受用于通过干沉积形成物体的步骤的材料，并且可能在不改变所制造的物体的情况下被移除 或与所述对象分离; 选择独立于其组成元素的正常氧化还原电位的至少一种无机材料，其可以通过干沉积沉积并允许物体被制造以满足其热机械和环境规格的材料组; 以及通过所述不可变形的负模具形成通过所述至少一种无机材料的干法沉积而制造的物体，从而允许以比微观精度更好的方式制造物体，特别是相对于 通过干沉积和所述方向Z产生的壁。本发明优选地应用于制造高精度微机械物体，特别是在航空和钟表制造领域。

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