아미노실리콘으로 손상 모발 트리트먼트 방법
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    发明公开
    아미노실리콘으로 손상 모발 트리트먼트 방법 审中-公开
    用氨基硅氧烷处理受损头发的方法

    公开(公告)号:KR20180031779A

    公开(公告)日:2018-03-28

    申请号:KR20187006400

    申请日:2010-05-03

    CPC classification number: A61K8/898 A61K2800/24 A61Q5/002 A61Q5/06 A61Q5/12

    Abstract: 본발명은열적및/또는화학적손상모발을하기일반화학식 (I)의아미노실리콘을포함하여구성되는모발트리트먼트조성물과접촉시키는단계를포함하는, 열적및/또는화학적손상모발의트리트먼트방법을제공하고: MDD'M (I) 상기식에서: M = RRSiO이며, D = RSiO이고, D' = RRSiO이며, 여기서, R은 12 내지 50의탄소원자들을가지는알킬기이고, R는 1 내지약 6의탄소원자들을가지는치환된또는치환되지않은탄화수소기이며, R은 3-아미노프로필기 및/또는 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필기이고, x는 1 내지약 2,000의값을가지며, y는 1 내지약 50의값을가진다.

    Abstract translation: 本文提供了一种处理热和/或化学损伤的方法,包括以下步骤:使热损伤和/或化学损伤的毛发与包含通式(I)的氨基硅氧烷的头发处理组合物接触:MDxD'yM(I)其中 :M = R1R22SiO1 / 2D = R22SiO2 / 2,和D'= R2R3SiO2 / 2,其中R1是具有12-50个碳原子的烷基,R2是具有1至约6个碳的取代或未取代的烃基 原子,R3是3-氨基丙基和/或N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基,x的值为1至约2,000,y的值为1至约50。

    열 관리를 위해 서멀 열분해 흑연을 사용하는 발광 다이오드 어셈블리
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    열 관리를 위해 서멀 열분해 흑연을 사용하는 발광 다이오드 어셈블리 审中-公开
    采用热裂解石墨进行热管理的发光二极管组件

    公开(公告)号:KR20180008522A

    公开(公告)日:2018-01-24

    申请号:KR20177034703

    申请日:2016-05-13

    CPC classification number: F21V29/87 F21Y2101/00 H01L33/641 H01L33/642

    Abstract: 열관리어셈블리를포함하여구성되는하나의발광다이오드어셈블리가도시되고설명된다. 발광다이오드어셈블리는하나의히트스프레더와열 연통하는하나의발광다이오드를포함하여구성될수 있다. 히트스프레더는하나의코어및/또는핀(fins)을포함하여구성될수 있다. 코어와핀은하나의서멀열분해흑연물질을포함하여구성된다. 코어와핀을포함하여구성되는열 관리어셈블리는발광다이오드로부터의열을방출할수 있다.

    Abstract translation: 示出并描述了包括热管理组件的一个发光二极管组件。 发光二极管组件可以包括与一个散热器热连通的一个发光二极管。 散热器可以包括一个芯和/或翅片。 芯部和散热片包括单个热裂石墨材料。 包括核心和鳍片的热管理组件可以从发光二极管发射热量。

    OPTICAL SUBSTRATE COMPRISING BORON NITRIDE PARTICLES
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    发明公开
    OPTICAL SUBSTRATE COMPRISING BORON NITRIDE PARTICLES 审中-公开
    包含硼砂颗粒的光学基板

    公开(公告)号:KR20070090113A

    公开(公告)日:2007-09-05

    申请号:KR20070020632

    申请日:2007-02-28

    Abstract: An optical substrate comprising boron nitride particles is provided to minimize defects related to heat generated from an LCD(Liquid Crystal Display) by using the boron nitride particles. An optical substrate includes at least a layer having a polymeric matrix or a glass matrix and a plurality of boron nitride particles. The boron nitride particles correspond to 0.1 to 10 weight percent or 0.2 to 10 weight percent or 0.2 to 8 weight percent on the basis of the total weight of the layer. The boron nitride particles have an average primary particle size of 5 to 500 micrometers or 0.10 to 0.8 micrometers or 5 to 50 nanometers. The boron nitride particles include spherical agglomerates of hBN platelets having an average agglomerate size distribution within a range of 30 to 125 micrometers.

    Abstract translation: 提供了包含氮化硼颗粒的光学衬底,以通过使用氮化硼颗粒来最小化与LCD(液晶显示器)产生的热有关的缺陷。 光学基板至少包括具有聚合物基体或玻璃基体和多个氮化硼颗粒的层。 基于该层的总重量,氮化硼颗粒对应于0.1至10重量%或0.2至10重量%或0.2至8重量%。 氮化硼颗粒的平均初级粒径为5〜500微米,或0.10〜0.8微米或5〜50纳米。 氮化硼颗粒包括平均聚集体尺寸分布在30至125微米范围内的hBN血小板的球形聚集体。

    硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いたパターンの形成方法

    公开(公告)号:JP2015091576A

    公开(公告)日:2015-05-14

    申请号:JP2014204769

    申请日:2014-10-03

    Abstract: 【課題】速硬化性に優れた硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた、簡便なパターンの製造方法を提供すること。【解決手段】(A)分子中に2個以上のアルケニル基を含有するアルケニル基含有ポリオルガノシロキサン;(B)ケイ素原子に結合した水素原子を、分子中に2個以上有するポリオルガノハイドロジェンシロキサン;及び(C)白金系触媒を含み、(A)のアルケニル基の個数ViAに対する、(B)のケイ素原子に結合した水素原子の個数HBの比が0.5〜100であり、(C)が、白金系金属原子として、0.5ppm以上である、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を用いた、パターンの製造方法であって、基材を準備する工程、及び基材の上に、(B)を含む部分、(B)及び(A)を含む部分、(C)を含む部分、並びに(C)及び(A)を含む部分からなる群より選択される2以上の部分を適用して、硬化性ポリオルガノシロキサン組成物を配置することにより、パターンを形成する工程を含む、パターンの製造方法。【選択図】なし

    실리콘-기반 에멀전, 그 제조 방법 및 그 에멀전을 포함하는 코-바인더 레진 조성물
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    发明公开
    실리콘-기반 에멀전, 그 제조 방법 및 그 에멀전을 포함하는 코-바인더 레진 조성물 审中-公开
    硅酮基乳液,其制备方法和包含该乳液的共粘合剂树脂组合物

    公开(公告)号:KR20180030071A

    公开(公告)日:2018-03-21

    申请号:KR20187003318

    申请日:2016-07-07

    Abstract: 적어도하나의콜로이드실리카분산재에그라프트된적어도하나의하이드록실화폴리디오가노폴리실록산을포함하고, 상기적어도하나의콜로이드실리카분산재에그라프트된적어도하나의하이드록실화폴리디오가노폴리실록산이상기적어도하나의하이드록실화폴리디오가노폴리실록산으로부터의잔류실란올기를포함하는, 가교성실리콘-기반에멀전조성물에관한것이다. 또한, 수성코-바인더실리콘-유기레진조성물이, (A) 가교성실리콘에멀전및 (B) 유기레진에멀전을포함하고, 향상된소수성(내수성), 긁힘저항성및 광택보유성을포함하되, 그에한정되지않는, 향상된경화특성을제공하며, 또한그 에멀전및 조성물의제조방법이개시된다.

    Abstract translation: 胶态二氧化硅,分散材料以包括在胶态二氧化硅的至少一种的至少一种羟基化的聚二有机基聚硅氧烷接枝,和至少一个羟基的至少一种,分散材料接枝岩石失火聚二有机聚硅氧烷相移器,至少一个羟基 基于乳液的组合物,其包含来自苯乙烯化聚二有机聚硅氧烷的残余硅烷醇基团。 此外,水性助粘合剂,硅酮有机树脂组合物,(A)可交联的硅氧烷乳液,和(B)包含有机树脂乳液,以及包括,增强的疏水性(耐水性),耐划伤性和光泽保持性,不限于 提供改进的固化性能,以及制备乳液和组合物的方法。

    실리콘 폴리머
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    发明公开
    실리콘 폴리머 审中-公开

    公开(公告)号:KR20200135976A

    公开(公告)日:2020-12-04

    申请号:KR20207028794

    申请日:2019-03-14

    Abstract: 하기식(I)의실리콘폴리머가제공된다: M1a M2b M3cD1d D2e D3f T1g T2h T3i Qj (I) [위식에서; M1 = R1R2R3SiO1/2; M2 = R4R5R6SiO1/2; M3 = R7R8R9SiO1/2; D1 = R10R11SiO2/2; D2 = R12R13SiO2/2; D3 = R14R15SiO2/2; T1 = R16SiO3/2; T2 = R17SiO3/2; T3 = R18SiO3/2; Q = SiO4/2 이고. 여기서, R1, R2, R3, R5, R6, R8, R9, R10, R11, R13, R15, R16은독립적으로수소, C1-C60 지방족또는방향족기 또는 C1-C60 알콕시기로부터선택되고; R4, R12, R17은, C1-C10 알킬, C1-C10 알콕시또는 R19-A-R20- 으로부터선택되고, 여기서, A는방향족기, 관능화된방향족기, 헤테로원자를임의선택적로함유하는축환방향족기, 불포화지환족기, 불포화헤테로사이클릭기, 또는이들의 2 이상의조합으로이루어진군으로부터선택되는불포화사이클릭모이어티를포함하여구성되는군으로부터선택되며, R19는 -H, 임의선택적으로헤테로원자(들)을함유하는 C1-C10 알킬또는알릴또는아릴또는비닐, 아크릴레이트, 메트아크릴레이트로부터선택되고; 그리고 R20은 2가유기기로부터선택되며; R7, R14, R18은, 수소또는 OR22 또는불포화 1가라디칼또는산소, 질소, 황과같은헤테로원자를함유하는라디칼또는유기실란기를함유하는라디칼로부터독립적으로선택되고; 그리고하첨자 a, b, c, d, e, f, g, h, i, j 는, 2≤a+b+c+d+e+f+g+h+i+j≤1000, b+e+h > 0 및 c+f+i≥0을조건으로, 0 또는양(+)의수임].

    실리콘 폴리머 및 이를 포함하여 구성되는 조성물

    公开(公告)号:KR20200135450A

    公开(公告)日:2020-12-02

    申请号:KR20207030215

    申请日:2019-03-14

    Abstract: (A) 아래식(I)의실리콘폴리머: 및 B) 열전도성충전제; 를포함하여구성되는조성물이제공된다: M1a M2b M3cD1d D2e D3f T1g T2h T3i Qj (I) [위식에서; M1 = R1R2R3SiO1/2 M2 = R4R5R6SiO1/2 M3 = R7R8R9SiO1/2 D1 = R10R11SiO2/2 D2 = R12R13SiO2/2 D3 = R14R15SiO2/2 T1 = R16SiO3/2 T2 = R17SiO3/2 T3 = R18SiO3/2 Q = SiO4/2 이고, 여기서, R1, R2, R3, R5, R6, R8, R9, R10, R11, R13, R15, R16은수소, C1-C60 지방족또는방향족기 또는 C1-C60 알콕시기로부터독립적으로선택되고; R4, R12, R17은, C1-C10 알킬, C1-C10 알콕시또는 R19-A-R20- 으로부터독립적으로선택되고, 여기서, A는, 방향족기, 관능화된방향족기, 헤테로원자를임의선택적로함유하는축환방향족기, 불포화지환족기, 불포화헤테로사이클릭기, 또는이들의 2 이상의조합으로이루어진군으로부터선택되는불포화사이클릭모이어티함유기에서선택되고, R19는 -H, 임의선택적으로헤테로원자(들)을함유하는 C1-C10 알킬또는알릴또는아릴또는비닐, 아크릴레이트, (메트)아크릴레이트로부터선택되고; R20은 2가유기기로부터선택되며; R7, R14, R18은, 수소또는 OR22 또는불포화 1가라디칼또는산소, 질소, 황과같은헤테로원자를함유하는라디칼또는유기실란기를함유하는라디칼로부터독립적으로선택되고; 그리고하첨자 a, b, c, d, e, f, g, h, i, j 는, 2≤a+b+c+d+e+f+g+h+i+j≤1000, b+e+h > 0 및 c+f+i≥0을조건으로, 0 또는양(+)의수임].

    ULTRAVIOLET-CURABLE SILICONE RESIN COMPOSITION, AND IMAGE DISPLAY DEVICE USING THE SAME

    公开(公告)号:JP2013253179A

    公开(公告)日:2013-12-19

    申请号:JP2012130252

    申请日:2012-06-07

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ultraviolet-curable silicone resin composition capable of exhibiting excellent curability even when irradiated with the ultraviolet light emitted from an ultraviolet light source whose short-wavelength ultraviolet light intensity is comparatively low.SOLUTION: A ultraviolet-curable silicone resin composition contains: (A) straight-chain polyorganosiloxane containing aliphatic unsaturated groups; (B) polyorganosiloxane having a viscosity at 23°C of 10-10,000 cP and containing mercaptoalkyl groups bonded to silicon atoms; (C) an acylphosphine oxide-based photoreaction initiator; and (D) a compound which exhibits compatibility to (A), (B) and (C) and has a boiling point of ≥200°C. A ratio of the number of the mercaptoalkyl groups in (B) to the number of the aliphatic unsaturated groups in (A) is 0.1-10. (C) accounts for 0.1-0.5 wt.% and (D) accounts for 0.1-2.0 wt.% of the total weight of (A) to (D).

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