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公开(公告)号：JP2017084436A
公开(公告)日：2017-05-18
申请号：JP2016213142
申请日：2016-10-31
Applicant: シーゲイト テクノロジー エルエルシーSeagate Technology LLC , Seagate Technology Llc , シーゲイト テクノロジー エルエルシーSeagate Technology LLC
CPC classification number: G11C16/26 , G06F11/0727 , G06F11/076 , G06F11/079 , G06F11/0793 , G11C11/5642 , G11C16/0483
Abstract: 【課題】装置、有形のマシン読取可能な記録可能な記憶媒体、および方法を提供する。【解決手段】メモリの読取閾値電圧は、複数の読取閾値電圧についての復号されたデータに基づくビット誤り率に基づいて調整される。読取閾値電圧は、読取値を取得するために現在の読取閾値電圧においてメモリを読取ることと、硬判定デコーダを読取値に適用することと、硬判定デコーダが読取値を収束語に収束させるか否かを判断することと、収束語に対応するビットを参照ビットとして記憶することと、硬判定デコーダが収束すると、閾値が満たされるまで、(i)参照ビットに基づいて現在の読取閾値電圧についてのビット誤り率を計算し、(ii)現在の読取基準電圧を新たな読取閾値電圧に調整し、(iii)新たな読取値を取得するために新たな読取閾値電圧においてメモリを読取ることと、閾値が満たされると、ビット誤り率に基づいて読取閾値電圧を選択することと、によって調整され得る。【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2016516295A
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：JP2015561438
申请日：2014-02-28
Inventor： チョン，リジュアン , ゲイジ，エドワード・チャールズ
CPC classification number: H01S5/02252 , G11B5/105 , G11B2005/0021 , H01S5/02272 , H01S5/02276
Abstract: 一実施形態によれば、開示された装置は、レーザと一体化し、レーザサブマウント組立体を形成するように動作可能なサブマウントと、レーザと連結するように構成されたサブマウントの所定部分と、レーザをサブマウントに連結するためのサブマウントの所定部分の上面に位置する接合パッドとを含む。
Abstract translation: 根据一个实施方案，所公开的装置中，与激光集成，并且可操作基台，以形成激光辅助座组件，所述配置基座的成与所述激光的预定部分 和位于所述基座的预定部分的顶表面上用于将激光耦合到所述基座上的键合焊盘。
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公开(公告)号：JP6121876B2
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：JP2013225355
申请日：2013-10-30
Inventor： マーク・ウィリアム・コビントン
IPC: G11B5/39
CPC classification number: G11B5/11 , G11B5/3929 , G11B5/398
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公开(公告)号：JP2016536734A
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：JP2016540412
申请日：2014-09-05
Inventor： ダイクス，ジェイムズ・エドワード
CPC classification number: G05B19/406 , G05B2219/37431 , G05D23/1393 , G06F1/20 , G06F1/203 , G06F1/206 , G06F1/3268 , G11B5/40 , G11B19/28 , Y02D10/16
Abstract: データ記憶システム(100)は、回転するデータ記憶媒体と、コントローラ(122)とで構成される、少なくともモバイルデータ記憶デバイス(102)で構成されてもよい。コントローラ(122)は、コマンドキューにおける予測される変化に応じて、データ記憶媒体の回転速度を変化させることができる。モバイルデータ記憶デバイス(102)は、能動冷却機構なしで構成されることができる。
Abstract translation: 数据存储系统（100）包括旋转的数据存储介质，和DE的控制器（122）可以与至少一个移动数据存储设备（102）进行配置。 控制器（122）就可以了，这取决于所在命令队列预测，改变数据存储介质的旋转速度的变化。 移动数据存储装置（102）可以在没有主动冷却机构构成。
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公开(公告)号：JP6121929B2
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：JP2014046227
申请日：2014-03-10
Inventor： ドンミン・リウ , ケネス・ハアパラ , スコット・イー・リュン , リン・チョウ
CPC classification number: G11B5/581 , G11B5/607 , G11B5/6076
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2016531370A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：JP2016540411
申请日：2014-09-05
Inventor： ダイクス，ジェイムズ・エドワード
CPC classification number: G05B19/406 , G05B2219/37431 , G05D23/1393 , G06F1/20 , G06F1/203 , G06F1/206 , G06F1/3268 , G11B5/40 , G11B19/28 , Y02D10/16
Abstract: モバイルデータ記憶デバイス(102)は、能動冷却機能を有さないモバイルコンピューティングデバイス(142)内に収容されることができる。モバイルデータ記憶デバイス(102)は、予測されるモバイルデータ記憶デバイス(102)温度に応じて、コマンドの実行を遅延させるように構成された少なくともコントローラ(122)を備えることができる。コントローラ(122)は、モバイルデータ記憶デバイス(102)が予測されるモバイルデータ記憶デバイス(102)温度に到達することを防止するために、コマンドキューに遅延を複数挿入することができる。
Abstract translation: 移动数据存储装置（102）可容纳在移动计算设备（142），在其中没有主动冷却的功能。 移动数据存储装置（102）可响应于所述移动数据存储装置来提供（102）温度待预测，至少配置所述控制器（122）以延迟命令的执行。 控制器（122），以防止所述移动数据存储设备（102）到达所述移动数据存储设备（102）的温度被预测，有可能插入在命令队列中的多个延迟。
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公开(公告)号：JP2016515749A
公开(公告)日：2016-05-30
申请号：JP2016509028
申请日：2014-04-15
Inventor： チョウ，ホア , チャオ，ヨンジュン , レア，クリストファー・ジェイ , ショルツ，ワーナー , ウェッセル，ジェイムズ・ギャリー
IPC: G11B5/31
CPC classification number: G11B5/6082 , G11B5/1272 , G11B5/187 , G11B5/31 , G11B5/3116 , G11B5/3136 , G11B5/314 , G11B5/4866 , G11B5/84 , G11B13/08 , G11B2005/0021
Abstract: 空気軸受表面に隣接する導波路と、空気軸受表面に直交する側面を有するペグを含む近接場トランスデューサと、導波路に隣接する書込磁極とを含む装置が開示される。書込磁極は、空気軸受表面に関して直交しない角度で空気軸受表面に向かって延在する第1の部分、および空気軸受表面に向かって延在し、空気軸受表面に直角に接触する側面を含む、第1の部分に接触する第2の部分を含む。第2の部分または書込磁極は、空気軸受表面に直交するペグの側面と、空気軸受表面に向かって延在し、空気軸受表面に直角に接触する書込磁極の第2の部分の側面との間に間隙を規定する。提供される装置を含む磁気記録ヘッドを作製する方法も開示される。
Abstract translation: 相邻于空气轴承表面的波导，近场换能器，其包括具有垂直于空气轴承表面的侧面上的栓钉，包括相邻于波导写入极装置被公开。 写入磁极，在不是正交相对于空气轴承表面，并朝向空气支承表面延伸的角度朝向空气支承表面延伸的第一部分包括侧表面，在垂直于空气轴承表面接触 在与所述第一部分接触的第二部分。 第二部分或写入磁极，并垂直于空气轴承表面的PEG的一个侧表面上，朝向空气支承表面，在接触写入极的第二部分在垂直于空气轴承表面的侧表面延伸的 定义之间的间隙。 一种制造磁性记录头，包括提供一个装置的方法也被公开。
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公开(公告)号：JP6155158B2
公开(公告)日：2017-06-28
申请号：JP2013213243
申请日：2013-10-10
Inventor： ジョアキム・ワルター・アーナー , デイビッド・エム・タン , サミュエル・カー・ヘアン・ウォン , ヘンリー・ルイス・ロット , スティーブン・キース・マクラウリン , マイサラス・ナシロウ , フロリン・ザバリチェ
IPC: G01N21/95
CPC classification number: G01N21/8806 , G01N21/9501 , G01N2201/0636 , H04N7/18
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公开(公告)号：JP6121779B2
公开(公告)日：2017-04-26
申请号：JP2013075863
申请日：2013-04-01
Inventor： ジェイムズ・ロナルド・クロルニク，ザ・セカンド , アダム・カール・ハイムズ
CPC classification number: G11B5/6082
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公开(公告)号：JP2017504728A
公开(公告)日：2017-02-09
申请号：JP2016546779
申请日：2014-01-17
Inventor： タナカ，サミュエル・ルイス , グリーンバーグ，トーマス・ラーソン
CPC classification number: C23C14/34 , C23C14/022 , C23C14/56 , H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/32532 , H01J37/32862 , H01J37/32889 , H01J37/34 , H01J2237/334
Abstract: プラズマエッチングソース(122)は、スパッタ蒸着装置の多数の区画(102,104,106,108,110)の少なくとも1つに設置可能である。プラズマエッチングソース(122)は、第1据え付け板(302)と、第1据え付け板(302)に接続された少なくとも1つの電極板(304)とを含んでいる。ガス入口(308)は、プラズマエッチングソース(122)の第1据え付け板(302)に含まれている。
Abstract translation: 等离子体蚀刻源（122）可以被安装在许多溅射成膜装置（102，104，106，108）的隔室中的至少一个。 等离子体蚀刻源（122）包括第一安装板（302），连接到所述第一安装板（302）和（304）的至少一个电极板。 气体入口（308）被包括在所述第一安装板等离子刻蚀源（122）（302）。
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