Abstract:
Verfahren zur Herstellung schlecht leitender, insbesondere isolierender Schichten auf zumindest einem Werkstück mittels Vakuumbeschichtung, wobei eine elektrische Bogenentladung zwischen mindestens einer Anode und einer Kathode einer Arcquelle, in reaktivgashaltiger Atmosphäre betrieben wird und an der Oberfläche eines mit der Kathode elektrisch verbundenen Targets kein oder nur ein kleines, im Wesentlichen zur Targetoberfläche senkrechtes, äusseres Magnetfeld zur Unterstützung des Verdampfungsprozesses erzeugt wird, wobei der Wiederbeschichtungsgrad der Oberfläche durch andere Beschichtungsquellen kleiner 10 % ist, bzw. das Magnetfeld mit einem Magnetsystem, das zumindest eine axial gepolten Spule mit einer dem Targetumfang ähnlichen Geometrie umfasst, erzeugt wird.
Abstract:
Bei der Erfindung handelt es sich um ein Verfahren und Anlage zum Ablösen eines Hartstoffschichtsystems von Werkzeugen bzw. Bauteilen, wobei unmittelbar auf dem Werkstück zur Verbesserung des Ablöseverhaltens zumindest eine chrom- und aluminiumhaltige Schicht aufgebracht, und das Werkstück mit einer alkalischen Lösung, die ein starkes Oxidationsmittel enthält, entschichtet wird.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein beschichtetes Werkstück mit einer mikrostrukturierten Oberfläche, sowie ein Verfahren zu seiner Herstellung. Dabei ist die Strukturtiefe (s) der Mikrostrukturen grösser als bzw. in einem bestimmten Verhältnis zur Schichtdicke (d) eingestellt.
Abstract:
A clamping device comprises a gripping portion having first and second elements, each provided with at least one jaw. The jaws are configured to remain substantially parallel relative to each other as the first element is moved towards or away from the second element by an adjustment mechanism. The device may comprise a sliding mechanism 6,8, moved by a bar 3 fixed in between handles 1, 2. The device may be used to clamp bones during orthopaedic surgery. The jaws may be angled, for example, at 90 degrees to the handles, in order to keep the handles out of the way of the surgeon. A locking means may be provided, such as a bar 4 provided with teeth 7, which engage with teeth on one of the handles.
Abstract:
The invention provides a single or a multilayer PVD coated sharp edged cutting tool, which can at the same time exhibit satisfactory wear and thermochemical resistance as well as resistance to edge chipping. The cutting tool comprises a sintered body made of a cemented carbide, a CBN, a cermet or a ceramic material having a cutting edge with an edge radius Re, a flank and a rake face and a multilayer coating consisting of a PVD coating comprising at least one oxidic PVD layer covering at least parts of the surface of the sintered body. In one embodiment the edge radius Re is smaller than 40 µm, preferably smaller than or equal to 30 µm. The covered parts of the surface preferably comprise at least some parts of the sharp edge of the sintered body.
Abstract:
The invention relates to a vacuum arc source and to a method for operating the same, said source comprising a target with a surface for operating an arc discharge. The target is arranged in the range of influence of a device for generating a magnetic field, said device comprising at least two magnetic systems of opposite polarity and being embodied in such a way that the component B⊥ which is perpendicular to the surface and pertains to the resulting magnetic field has essentially constantly low values over a large part of the surface or has a value equal to zero.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben einer Arcquelle, wobei eine elektrische Funkenentladung auf einer Oberfläche eines Targets (5) gezündet bzw. betrieben wird, und die Funkenentladung gleichzeitig mit einem Gleichstrom, dem eine Gleichspannung DV zugeordnet ist, als auch mit einem durch ein periodisch angelegtes Spannungs Signal erzeugten Pulsstrom gespeist wird. Dabei wird die Spannung an der Arcquelle über mehrere MikroSekunden erhöht bzw. die Signalform des Spannungsignals im Wesentlichen frei einstellbar.
Abstract:
Eine Vakuumbeschichtungsanlage enthält einen Reaktivgaseinlass (12), mindestens eine PVD - Beschichtungsquelle (8, 21) mit einer flächigen Kathode (11) und einen Substratträger (6) mit enthaltend mehrere Substrate (7), wobei der Substratträger (6) eine zweidimensionale horizontale Ausdehnung ausbildet und dieser zwischen mindestens zwei PVD - Beschichtungsquellen positioniert ist und dass die mehreren Substrate (7) Schneidwerkzeuge sind mit mindestens einer Schneidkante (E), im peripheren Randbereich des flächigen Substrates (7), die in einer Ebene der zweidimensionalen Ausdehnung des Substratträgers (6) verteilt abgelegt sind, wobei der Substratträger (6) in einer horizontalen Ebene (3) in der Vakuumprozesskammer (1) beabstandet, zwischen den flächigen Kathoden (11) der mindestens zwei PVD - Beschichtungsquellen (8, 21) positioniert angeordnet ist derart, dass mindestens ein Teil jeder der mindestens einen Schneidkante (E) eine aktive Schneidkante (E') enthält und diese gegenüber mindestens einer der Kathoden (11) der PVD - Beschichtungsquellen (8, 21) jederzeit in Sichtverbindung exponiert ausgerichtet ist.