-
公开(公告)号：WO2018030703A1
公开(公告)日：2018-02-15
申请号：PCT/KR2017/008349
申请日：2017-08-02
Applicant: (주)에스이피
IPC: H01L21/306 , H01L21/02 , H01L21/3213 , G03F7/20 , G03F1/80
CPC classification number: G03F1/80 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/3213
Abstract: 나노 돌기 형성 방법 및 그 방법에 의해 형성된 나노돌기 표면을 갖는 모재 에 관한 것으로, 나노 마스크(mask)를 사용하지 않고, 산용액에 의한 습식 식각 공정을 통해 수nm~수십nm 의 너비를 가지는 나노 돌기를 포함하는 반사방지층, 및/또는 수십nm~수um의 너비를 가지는 돌기를 포함하는 눈부심 방지층을 형성하는 것을 특징으로 한다.
Abstract translation:
涉及一种具有由形成在方法纳米突起和方法形成的纳米投影表面的基底材料，在不使用纳米掩模（掩模），可通过湿蚀刻工艺通过酸溶液纳米〜 形成包括宽度为数十nm的纳米突起和/或宽度为数十nm至数μm的突起的防眩光层。
-
公开(公告)号：WO2014196694A1
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：PCT/KR2013/008036
申请日：2013-09-05
Applicant: (주)에스이피
CPC classification number: C23F4/00 , C23C14/14 , C23C14/541 , C23C16/042 , C23C16/06 , C23C16/44 , C23C16/56 , H01J37/3244 , H01J37/32522
Abstract: 본 발명은 마스킹에 의한 돌기 형성 방법 및 장치에 관한 것으로 보다 상세하게는 모재 상에 마스크층을 형성하는 마스크 형성 단계, 모재 상에 마스크가 형성되지 않은 영역을 식각하는 식각 단계 및 상기 마스크층을 제거하는 마스크 제거 단계를 포함하고, 상기 마스크 형성 단계는 적어도 하나 이상의 소형 마스크를 형성하는 단계 및 적어도 하나 이상의 대형 마스크를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스킹에 의한 돌기 형성 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于通过掩模形成突起的方法和装置，更具体地涉及通过掩模形成突起的方法，包括：掩模形成步骤，用于在基材上形成掩模层; 用于蚀刻在基材上未形成掩模的区域的蚀刻步骤; 以及去除掩模层的掩模去除步骤，其中所述掩模形成步骤包括：用于形成至少一个小掩模的步骤; 以及形成至少一个大面罩的步骤。
-
公开(公告)号：WO2014171595A1
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：PCT/KR2013/008035
申请日：2013-09-05
Applicant: (주)에스이피
IPC: F21S2/00 , F21V8/00 , F21Y105/00
CPC classification number: G02B6/0036 , G02B6/0065 , G02B6/0068
Abstract: 본 발명은 면 발광 투명 기판 및 이를 이용한 면 발광 패널에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 판형의 투명 기판의 측면으로부터 유입된 빛을 투명 기판의 면 전체로 발광시키기 위하여 투명 기판 표면에 나노 구조물을 형성시킴으로써 가시광 투과도의 저하 없이 면 발광이 가능하며, 디스플레이 기능의 구현이 가능한 면 발광 투명 기판 및 이를 이용한 면 발광 패널에 관한 기술이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种表面发射透明基板和使用该表面发射透明基板的表面发射面板，更具体地说，涉及：能够进行表面发射的表面发射透明基板，而不会降低可见光的透射率并实现显示 通过在平坦型透明基板的表面上形成纳米结构，在透明基板的整个表面上发射从透明基板的侧面入射的光; 以及使用该面板的面发光面板。
-
公开(公告)号：WO2014088191A1
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：PCT/KR2013/008034
申请日：2013-09-05
Applicant: (주)에스이피
CPC classification number: B05D5/08 , G02B27/0006 , G06F3/041 , G06F2203/04103
Abstract: 본 발명은 내구성이 향상된 발수성 표면의 제조방법 및 발수성 표면이 형성된 기판에 관한 것이다. 자세하게는, 본 발명은 기판 위에 발수층을 코팅한 후 상기 발수층을 식각하여 나노 돌기를 형성함으로써, 발수층을 기판 표면의 나노 돌기 형상을 따라 코팅하지 않고도 표면에 반사방지 및 발수 특성을 함께 부여할 수 있는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면 나노 돌기가 형성된 발수층이 완전히 마모될 때까지 발수성을 유지할 수 있어 발수성 표면의 내구성을 매우 향상시킬 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种具有改善的耐久性的防水表面的制造方法和具有防水表面的基材。 特别地，本发明能够通过在基材上涂覆防水层之后，通过蚀刻防水层来形成纳米突起，从而即使不涂覆防水层，也能对表面提供抗反射和防水性能 到衬底表面上的纳米突起的形状。 根据本发明，可以保持防水性，直到具有纳米突起的防水层完全磨损，从而可以显着提高防水表面的耐久性。
-
公开(公告)号：WO2014081110A1
公开(公告)日：2014-05-30
申请号：PCT/KR2013/008033
申请日：2013-09-05
Applicant: (주)에스이피
CPC classification number: G02B1/118 , G02B2207/101
Abstract: 본 발명은 광 투과성 및 내구성이 향상된 반사방지 표면의 제조방법 및 반사방지 표면이 형성된 기판에 관한 것이다. 자세하게는, 본 발명은 기판 위에 증착된 금속의 응집을 유도하고, 상기 응집된 금속 도트(dot)를 에칭 마스크로 이용하여 기판 표면에 AR(anti-reflection) 돌기를 형성하되, 상기 응집되는 금속 도트의 크기 및 분포를 제어하여 반사방지 표면의 광투과성 및 내구성을 향상시키는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 단파장과 장파장의 선택적 투과율을 조절하거나 단파장과 장파장 모두에 대한 투과율을 개선시키는 것이 가능하며, 나노 스케일과 마이크로 스케일의 AR 돌기를 혼재시켜 내구성을 향상시킬 수 있다. 또한, AR 돌기 형성 후 기판 위에 남은 금속 도트의 제거가 용이하며, 상기 AR 돌기 위에 코팅된 발수층의 내구성까지 향상시킬 수 있다. 이와 같이 광 투과성 및 내구성이 향상된 반사방지 표면이 형성된 기판은 광학장치, 영상표시패널 또는 태양전지 등 다양한 분야에 적용될 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及具有改善的透光率和耐久性的抗反射（AR）表面的制造方法和具有AR表面的基板。 具体地说，本发明通过使用附着的金属点作为蚀刻掩模，引起沉积在基板上的金属的内聚力并且在基板的表面上形成AR突起，其中控制粘附的金属点的尺寸和分布，从而改善 AR表面的透光率和耐久性。 根据本发明，可以选择性地调节短波长和长波长的透射率，或者可以提高短波长和长波长的透射率，并且可以使用纳米级和微波长的混合来提高耐久性， 尺度的AR突起。 此外，可以容易地除去在形成AR突起之后残留在基板上的金属点，并且还可以提高涂覆在AR突起上的防水层的耐久性。 因此，具有改善的透光率和耐久性的AR表面的基板可以应用于诸如光学器件，图像显示面板，太阳能电池等的各种领域。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020180016887A
公开(公告)日：2018-02-20
申请号：KR1020160100877
申请日：2016-08-08
Applicant: (주)에스이피
IPC: H01L21/306 , H01L21/02 , H01L21/3213 , G03F7/20 , G03F1/80
CPC classification number: G03F1/80 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/3213 , H01L21/30604 , G03F7/2008 , H01L21/02307 , H01L21/0242 , H01L21/32134
Abstract: 나노돌기형성방법에관한것으로, 자세하게나노마스크(mask)를사용하지않고, 산용액에의한습식식각공정을통해수nm~수십nm 의너비를가지는나노돌기를포함하는반사방지층, 또는수십nm~수um의너비를가지는돌기를포함하는눈부심방지층을형성하는방법에관한것이다. 또한수십nm~수um의너비를가지는돌기를포함하는눈부심방지층상에수nm~수십nm 의너비를가지는나노돌기를포함하는반사방지층을추가적으로형성하는단계를포함하는돌기형성방법에관한것이다. 제안된발명이해결하고자하는또 하나의과제는본 발명이아닌종래의방법으로유리기판에형성된수um~수백um 크기의돌기를포함하는눈부심방지층상에산용액에의한습식식각을통해추가적으로수nm~수십nm의너비를가지는돌기를포함하는반사방지층을형성하는방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及不使用包含具有数纳米〜数十nm通过湿蚀刻处理通过酸溶液，或几十nm〜数的宽度纳米投影，防反射层的纳米突起形成方法，特别是纳米掩模（掩模） 例如宽度和宽度。 此外，它涉及形成的突起进一步包括含具有数十nm〜嗯可以在防眩光层，其包括投影纳米的宽度〜几十nm的具有形成的宽度纳米突起的防反射层。 通过所提出的发明要解决的另一个问题进一步是通过湿蚀刻用酸溶液含有数的突起微米〜几百个大小通过常规方法，而不是本发明纳米形成在玻璃基板上嗯防眩层 〜，形成包括具有几十nm的的宽度的突出部的防反射层的方法。
-
公开(公告)号：KR101842083B1
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：KR1020160100877
申请日：2016-08-08
Applicant: (주)에스이피
IPC: H01L21/306 , H01L21/02 , H01L21/3213 , G03F7/20 , G03F1/80
CPC classification number: G03F1/80 , G03F7/20 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/3213
Abstract: 나노돌기형성방법에관한것으로, 자세하게나노마스크(mask)를사용하지않고, 산용액에의한습식식각공정을통해수nm~수십nm 의너비를가지는나노돌기를포함하는반사방지층, 또는수십nm~수um의너비를가지는돌기를포함하는눈부심방지층을형성하는방법에관한것이다. 또한수십nm~수um의너비를가지는돌기를포함하는눈부심방지층상에수nm~수십nm 의너비를가지는나노돌기를포함하는반사방지층을추가적으로형성하는단계를포함하는돌기형성방법에관한것이다. 제안된발명이해결하고자하는또 하나의과제는본 발명이아닌종래의방법으로유리기판에형성된수um~수백um 크기의돌기를포함하는눈부심방지층상에산용액에의한습식식각을통해추가적으로수nm~수십nm의너비를가지는돌기를포함하는반사방지층을형성하는방법에관한것이다.
-
公开(公告)号：KR1020140142487A
公开(公告)日：2014-12-12
申请号：KR1020130063913
申请日：2013-06-04
Applicant: (주)에스이피
CPC classification number: C23F4/00 , C23C14/14 , C23C14/541 , C23C16/042 , C23C16/06 , C23C16/44 , C23C16/56 , H01J37/3244 , H01J37/32522
Abstract: 본 발명은 마스킹에 의한 돌기 형성 방법 및 장치에 관한 것으로 보다 상세하게는 모재 상에 마스크층을 형성하는 마스크 형성 단계, 모재 상에 마스크가 형성되지 않은 영역을 식각하는 식각 단계 및 상기 마스크층을 제거하는 마스크 제거 단계를 포함하고, 상기 마스크 형성 단계는 적어도 하나 이상의 소형 마스크를 형성하는 단계 및 적어도 하나 이상의 대형 마스크를 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스킹에 의한 돌기 형성 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及通过掩模的突起形成方法及其装置。 更具体地，通过掩模的突起形成方法包括在母体金属上形成掩模层的步骤; 在母金属上蚀刻未形成掩模的区域; 并去除掩模层。 形成掩模层的步骤包括形成至少一个小掩模的步骤; 并形成至少一个大掩模。
-
公开(公告)号：KR1020140073903A
公开(公告)日：2014-06-17
申请号：KR1020120141919
申请日：2012-12-07
Applicant: (주)에스이피
CPC classification number: B05D5/08 , G02B27/0006 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , G09F9/00
Abstract: The present invention relates to a method for manufacturing a water-repellent surface with improved durability and a substrate having the water-repellent surface. Particularly, the present invention enables a nano-protrusion to be formed by etching a water-repellent layer after coating a substrate with the water-repellent layer so as to provide both anti-reflection and water-repellent properties to a surface even without coating the surface of the substrate along the shape of the nano-protrusion with the water-repellent layer. According to the present invention, water repellency can be maintained until the water-repellent layer having the nano-protrusion is completely worn out, and thus, durability of a water-repellent surface can be remarkably improved.
Abstract translation: 本发明涉及一种具有改善的耐久性的防水表面的制造方法和具有防水表面的基材。 特别地，本发明能够通过在用拒水层涂覆基材之后蚀刻防水层而形成纳米突起，以便即使不涂覆防水层也能对表面提供抗反射和防水性能 沿着具有防水层的纳米突起的形状的基板的表面。 根据本发明，可以保持防水性，直到具有纳米突起的防水层完全磨损，从而可以显着提高防水表面的耐久性。
-
公开(公告)号：KR101321533B1
公开(公告)日：2013-10-28
申请号：KR1020130098248
申请日：2013-08-20
Applicant: (주)에스이피
Abstract: PURPOSE: An in-line nano patterning apparatus and an anti-reflective substrate manufactured by the same are provided to realize a nano mask in a sputtering mode and to sequentially implement an etching process in an in-line mode. CONSTITUTION: An in-line nano patterning apparatus includes a load lock chamber (10), a sputter chamber (20), an etch chamber (30), and an unload lock chamber (40). In the process, a substrate is put into the load lock chamber as a workpiece. The substrate ejected from the load lock chamber is put into the sputter chamber in order to form a nano mask on the surface of the substrate in a sputtering mode. The substrate with the nano mask on the surface is put into the etch chamber in order to etching the surface of the substrate, thereby forming a nano pattern. The unload lock chamber ejects the substrate with the nano pattern to the outside. The substrate which is put into the load lock chamber is ejected from the unload lock chamber. [Reference numerals] (AA) Progress direction of process
Abstract translation: 目的：提供一种在线纳米图案形成装置和由其制造的抗反射基板，以在溅射模式下实现纳米掩模，并且以在线模式顺序实施蚀刻工艺。 构成：在线纳米图案形成装置包括负载锁定室（10），溅射室（20），蚀刻室（30）和卸载锁定室（40）。 在该过程中，将基板作为工件放入负载锁定室。 将从负载锁定室喷出的基板放入溅射室中，以便以溅射模式在基板的表面上形成纳米掩模。 将具有表面上的纳米掩模的衬底放入蚀刻室中，以蚀刻衬底的表面，从而形成纳米图案。 卸载锁定室将具有纳米图案的基板喷射到外部。 放入负载锁定室的基板从卸载锁定室喷出。 （附图标记）（AA）过程的进度方向
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
20
records
(took 0.019 seconds)
