公开(公告)号：KR101417998B1

公开(公告)日：2014-07-09

申请号：KR1020120137182

申请日：2012-11-29

Applicant: (주)우리정도

Inventor： 장태순 ,  박용범 ,  서정호 ,  류정한

IPC: C25D3/56 ,  C23C28/00 ,  C25D21/12

Abstract: 본 발명은 전기에 의한 도금방식을 적용하여 바이메탈을 제조하므로 제조비용을 절감하고 정밀한 만곡값을 갖으며 보다 박막화한 바이메탈을 간단한 제조공정에 의해 용이하게 제조함을 제공하도록, 전기도금방식에 의해 도금하여 전착되고 저열팽창계수 또는 고열팽창계수를 갖는 도전성의 금속재질로 형성되는 제1도금층과; 상기 제1도금층의 한쪽 면에 재차 전기도금방식을 통해 도금하여 전착되고 상기 제1도금층에 대하여 상대적으로 다른 열팽창계수를 갖는 도전성의 금속재질로 형성되는 제2도금층;을 포함하는 도금방식을 이용한 바이메탈을 제공하고, 표면 처리된 마스터의 한쪽 면에 저열팽창계수 또는 고열팽창계수를 갖는 금속재질을 전기도금방식에 의해 전착시켜 제1도금층을 형성하는 단계와; 상기 제1도금층을 상기 마스터로부터 분리한 후 상기 제1도금층의 한쪽 면을 마스킹하는 단계와; 상기 제1도금층의 마스킹된 반대쪽 면에 상기 제1도금층에 대하여 상대적으로 다른 열팽창계수를 갖는 금속재질을 전기도금방식에 의해 전착시켜 제2도금층을 형성하는 단계와; 상기 제1도금층 및 상기 제2도금층에 일정한 온도를 가해 가열한 후 냉각시키는 단계와; 상기 제1도금층 및 상기 제2도금층에 가벼운 압력을 가해 압연하는 단계;를 포함하는 도금방식을 이용한 바이메탈 제조방법을 제공한다.

公开(公告)号：KR101404962B1

公开(公告)日：2014-06-27

申请号：KR1020120137189

申请日：2012-11-29

Applicant: (주)우리정도

Inventor： 장태순 ,  박용범 ,  서정호 ,  류정한

IPC: C25D5/14 ,  C23C28/00 ,  C25D5/50

Abstract: 본 발명은 화상형성장치의 장착기에 주로 사용되는 메탈슬리브를 도금방식에 의한 3중의 도금층을 갖도록 구성하여 제조가 간단하고 고온에서 취성이 증가하는 현상을 제거하는 동시에 인성과 탄성이 우수하며 열에 대한 정착성과 함께 열전달성이 우수한 메탈슬리브를 제공하도록, 일정한 두께를 이루도록 전해 니켈도금되고 내부가 중공된 원통형의 얇은 박막층을 형성하는 제1니켈도금층과; 상기 제1니켈도금층의 외주면 상에 구리금속 재질로 전기도금하여 얇은 두께의 박막층을 형성하는 구리도금층과; 상기 구리도금층의 외주면 상에 접하여 얇은 박막층을 이루도록 니켈금속 재질을 사용하여 재차 전해 니켈도금되는 제2니켈도금층;을 포함하는 3중 도금층을 갖는 이음매 없는 메탈슬리브를 제공하고, 원통형의 마스터 상에 니켈, 구리, 니켈의 금속재료를 각각 순서에 따라 도금하여 박막형태의 3중 도금층을 형성하는 단계와; 상기 3중 도금층이 도금된 마스터를 350~600℃의 수소분위기에서 열처리하여 각 도금층 내의 황과 수소를 반응시키는 단계와; 상기 수소반응된 3중의 도금층을 향해 80~100℃로 냉각한 후 마스터를 분리하여 3중 도금층의 메탈슬리브를 취득하는 단계;를 포함하는 3중 도금층을 갖는 이음매 없는 메탈슬리브 제조방법을 제공한다.

公开(公告)号：KR101219714B1

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：KR1020100111691

申请日：2010-11-10

Applicant: (주)우리정도

Inventor： 장태순 ,  박용범 ,  서정호

IPC: C23C18/50 ,  C25D5/12 ,  C25D5/50 ,  C25D7/00

Abstract: 본 발명은 화상형성장치의 정착기에 주로 사용되는 메탈슬리브(Metal Sleeve)에 관한 것으로, 메탈슬리브 내면의 경도가 표면보다 월등히 높으며, 나노조직과 주상결정조직이 혼재된 복합결정조직(Composite crystal structure)을 갖게 하여 인성과 탄성이 우수한 물성을 갖는 새로운 메탈슬리브에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 무전해 함인니켈도금에 의해 형성된 함인니켈박막층; 및 전기도금에 의해 상기 함인니켈박막 상에 형성된 금속박막층;을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 정착기용 메탈슬리브에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1020120050267A

公开(公告)日：2012-05-18

申请号：KR1020100111691

申请日：2010-11-10

Applicant: (주)우리정도

Inventor： 장태순 ,  박용범 ,  서정호

IPC: C23C18/50 ,  C25D5/12 ,  C25D5/50 ,  C25D7/00

Abstract: PURPOSE: A seamless metal sleeve for a fixer is provided to improve the durability against frictional stress caused by the rotational motion of an inner structure of a heat source body. CONSTITUTION: A seamless metal sleeve for a fixer comprises an immersed phosphorus-nickel film layer and a thin metal film layer. The immersed phosphorus-nickel film layer is formed by electroless immersion phosphorus-nickel plating. The thin metal film layer is formed on the immersed phosphorus-nickel film layer by electroplating.

Abstract translation: 目的：提供一种用于固定器的无缝金属套筒，以提高由热源体的内部结构的旋转运动引起的摩擦应力的耐久性。 构成：用于固定器的无缝金属套筒包括浸没的磷 - 镍膜层和薄金属膜层。 浸渍的磷 - 镍膜层通过无电浸渍磷 - 镍镀层形成。 通过电镀在浸渍的磷 - 镍膜层上形成薄金属膜层。

公开(公告)号：KR1020140069653A

公开(公告)日：2014-06-10

申请号：KR1020120137189

申请日：2012-11-29

Applicant: (주)우리정도

Inventor： 장태순 ,  박용범 ,  서정호 ,  류정한

IPC: C25D5/14 ,  C23C28/00 ,  C25D5/50

CPC classification number: C23C28/023 ,  C23C18/32 ,  C25D5/50

Abstract: Provided is a metal sleeve mainly used for a mounting device of an image forming apparatus; a metal sleeve having a triple plated layer plated by a plating method simple to manufacture the metal sleeve; eliminating the phenomenon of brittleness at high temperatures; and having excellent toughness, elasticity, and excellent thermal fixation property along with excellent heat transfer property. The seamless metal sleeve having a triple plated layer includes: a first nickel plated layer plated by electrolytic nickel plating to have uniform thickness and form a cylindrical membrane layer which is hollow inside; a copper plated layer plated by with copper on the outer peripheral surface of the first nickel plated layer using electroplating to form a membrane layer which is thin in thickness; and a second nickel plated layer plated again with nickel on the outer peripheral surface of the copper plated layer using electrolysis nickel electroplating to form a thin membrane layer. The method to manufacture the seamless metal sleeve includes: a step of forming a triple plated layer consisting of membranes by plating the cylindrical master with metallic materials such as nickel, copper, and nickel in a sequential order; a step of reacting sulfur and hydrogen in each plated layer by heat-treating the cylindrical master plated with the triple plated layer in a hydrogen environment at a temperature ranging from 350-600°C; and a step of obtaining the seamless metal sleeve having a triple plated layer by separating the cylindrical master after the triple plated layer being cooled to a temperature ranging from 80-100°C.

Abstract translation: 提供了主要用于图像形成装置的安装装置的金属套筒; 具有通过简单制造金属套筒的电镀方法电镀的三层镀层的金属套管; 消除高温脆性现象; 并且具有优异的韧性，弹性和优异的热固定性以及优异的传热性能。 具有三层镀层的无缝金属套筒包括：通过电解镀镍电镀以均匀厚度的第一镀镍层，并形成内部为中空的圆柱形膜层; 使用电镀在所述第一镀镍层的外周面上用铜电镀铜镀层，以形成厚度薄的膜层; 以及使用电解镍电镀在镍镀层的外周面上再次镀镍的第二镀镍层，以形成薄膜层。 制造无缝金属套筒的方法包括：依次顺序通过用金属材料如镍，铜和镍电镀圆柱形母版来形成由膜构成的三重镀层的步骤; 在氢气环境中，在350-600℃的温度下热处理镀有三层镀层的圆柱形母材，在每个镀层中反应硫和氢的步骤; 以及在将三层镀层冷却至80-100℃的温度之后，通过分离圆柱形母版来获得具有三重镀层的无缝金属套筒的步骤。

公开(公告)号：KR1020140069646A

公开(公告)日：2014-06-10

申请号：KR1020120137182

申请日：2012-11-29

Applicant: (주)우리정도

Inventor： 장태순 ,  박용범 ,  서정호 ,  류정한

IPC: C25D3/56 ,  C23C28/00 ,  C25D21/12

CPC classification number: C25D5/12 ,  C25D3/562 ,  H01H2037/526

Abstract: Provided in the present invention is a method to manufacture a bimetal by applying a plating method utilizing electricity to manufacture bimetal products at a reduced production cost, and to easily make a thinner bimetal have a more accurate curvature value with a simpler manufacturing process. The method to manufacture a bimetal by applying a plating method utilizing electricity includes: a first plated layer being formed by a high conductive metallic material produced by plating and electrodepositing having high or low thermal expansion coefficient; a second plated layer being formed by a conductive metallic material being produced by plating and electrodepositing on one surface of the first plated layer by applying the electroplating method again; and having a thermal expansion coefficient relatively different from the thermal expansion coefficient of the first plating layer. The plating method includes a step of forming a first plated layer on one side of the surface-treated master with a metallic material having low or high thermal expansion coefficient by applying the plating method utilizing electricity to plate and to electrodeposit; a step of masking one side of the first plated layer after the side of the first plated layer is separated from the surface-treated master; a step of cooling the first and second plated layers after the layers are heated at a certain temperature; and a step of rolling the first plated layer and the second plated layer by applying a light pressure.

Abstract translation: 本发明提供了一种制造双金属的方法，其通过利用电力的电镀方法以降低的生产成本制造双金属产品，并且通过更简单的制造工艺容易地使较薄的双金属具有更精确的曲率值。 通过应用电镀方法制造双金属的方法包括：由具有高或低热膨胀系数的电镀和电沉积产生的高导电金属材料形成的第一镀层; 由导电金属材料形成的第二镀层通过再次施加电镀方法通过电镀和电沉积在第一镀层的一个表面上而制成; 并且具有与第一镀层的热膨胀系数相对不同的热膨胀系数。 电镀方法包括以下步骤：通过使用电镀板和电沉积法，利用具有低或高热膨胀系数的金属材料在表面处理的母版的一侧上形成第一镀层; 在第一镀层的侧面与表面处理的母料分离之后，掩蔽第一镀层的一侧的步骤; 在所述层在一定温度下加热之后冷却所述第一和第二镀层的步骤; 以及通过施加轻压轧制第一镀层和第二镀层的步骤。