公开(公告)号：KR1020040044221A

公开(公告)日：2004-05-28

申请号：KR1020020071938

申请日：2002-11-19

Applicant: (주)파트론

Inventor： 이홍석 ,  이수길

IPC: H01P1/20

CPC classification number: H01P1/2136 ,  H01P1/2056 ,  H01P11/007

Abstract: PURPOSE: A dielectric filter, a duplexer dielectric filter, and a fabricating method thereof are provided to protect conductive patterns from the outside by coating a hardening resin on an open side. CONSTITUTION: A dielectric filter includes a dielectric block, a plurality of resonators, an input/output terminal, a plurality of conductive patterns, and a protective layer. The dielectric block(51) includes a first side(53), a second side, and lateral side therebetween. A conductive material is coated on the second side. The resonators include a plurality of resonant holes(55a,55b). The input/output terminal is formed at both sides of the dielectric block. The conductive patterns(65a,65b,66,69a,69b) are formed on a part of the first side in order to obtain desired resonant frequencies by changing capacitance between the resonators. The protective layer(70) is formed by using a hardening resin on the first side.

Abstract translation: 目的：提供介质滤波器，双工器介质滤波器及其制造方法，以通过在开放侧涂覆硬化树脂来保护导电图案免受外界的影响。 构成：介质滤波器包括介质块，多个谐振器，输入/输出端子，多个导电图案和保护层。 介质块（51）包括第一侧（53），第二侧和侧面。 导电材料涂覆在第二面上。 谐振器包括多个谐振孔（55a，55b）。 输入/输出端子形成在介质块的两侧。 导电图案（65a，65b，66,69a，69b）形成在第一侧的一部分上，以通过改变谐振器之间的电容来获得期望的谐振频率。 保护层（70）通过在第一面使用硬化树脂形成。

公开(公告)号：KR100573807B1

公开(公告)日：2006-04-25

申请号：KR1020020071938

申请日：2002-11-19

Applicant: (주)파트론

Inventor： 이홍석 ,  이수길

IPC: H01P1/20

CPC classification number: H01P1/2136 ,  H01P1/2056 ,  H01P11/007

Abstract: 본 발명은, 유전체 개방면에 대한 튜닝공정에서 발생되는 패턴간의 쇼트불량을 방지할 수 있는 유전체 필터, 듀플렉서 필터 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 유전체필터의 제조방법은, 서로 대향하는 제1 및 제2 면과 그 사이에 측면을 갖는 유전체 블록을 형성하는 단계와, 상기 유전체 블록의 측면과 제2 면에 도체를 도포하는 단계와, 이어 상기 유전체 블록의 상기 제1 및 제2 면 사이를 실질적으로 평행하게 관통하며 그 내부면에 도체가 도포된 공진홀로 이루어진 복수개의 공진기를 형성하는 단계와, 상기 유전체 블럭의 측면에 입출력단자를 형성하고, 상기 제1 면의 적어도 일부영역에 상기 공진기 또는 공진기 사이의 캐패시턴스를 변화시켜 소정의 공진주파수를 갖도록 도체패턴을 형성하는 단계와, 상기 도체패턴이 형성된 제1면에 경화성 수지를 도포하여 경화시키는 단계로 이루어진다.
이와 같이, 유전체 블럭의 개방면에 보호층을 형성함으로써 트리밍공정에서 발생될 수 있는 쇼트불량문제를 근원적으로 방지할 수 있다. 따라서, 상기 패턴 사이의 간격을 0.04㎜이하 수준까지 감소시킬 수 있어 유전체 필터의 소형화에 크게 기여할 수 있다.
유전체 필터, 듀플렉서 유전체 필터, 공진주파수조정