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公开(公告)号:CN105261570B
公开(公告)日:2019-04-02
申请号:CN201510404234.7
申请日:2015-07-10
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/50 , H01L21/56 , H01L21/78 , H01L23/48 , H01L23/485
Abstract: 本发明构思的实施方式提供了半导体封装及其制造方法。该方法包括形成凹槽以使第一半导体芯片彼此分离。形成凹槽包括:在半导体基板的底表面上进行第一切片工艺以在相对于该底表面倾斜的方向上切割半导体基板以及模层的一部分,以及进行第二切片工艺以在基本上垂直于半导体基板的底表面的方向上切割模层。通过第一切片工艺形成在半导体基板中的凹槽的最小宽度可以大于通过第二切片工艺形成在模层中的凹槽的宽度。
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公开(公告)号:CN105261570A
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201510404234.7
申请日:2015-07-10
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/50 , H01L21/56 , H01L21/78 , H01L23/48 , H01L23/485
CPC classification number: H01L25/50 , H01L21/561 , H01L21/568 , H01L21/82 , H01L23/3128 , H01L2224/16145 , H01L2224/32145 , H01L2224/73204 , H01L2224/97 , H01L2924/15311 , H01L2924/00 , H01L21/50 , H01L21/56 , H01L21/78 , H01L23/481 , H01L23/485
Abstract: 本发明构思的实施方式提供了半导体封装及其制造方法。该方法包括形成凹槽以使第一半导体芯片彼此分离。形成凹槽包括:在半导体基板的底表面上进行第一切片工艺以在相对于该底表面倾斜的方向上切割半导体基板以及模层的一部分,以及进行第二切片工艺以在基本上垂直于半导体基板的底表面的方向上切割模层。通过第一切片工艺形成在半导体基板中的凹槽的最小宽度可以大于通过第二切片工艺形成在模层中的凹槽的宽度。
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