光刻胶组合物
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1109925C

    公开(公告)日:2003-05-28

    申请号:CN97115414.7

    申请日:1997-07-16

    CPC classification number: G03F7/008

    Abstract: 含有光固化聚合物和光敏剂的光刻胶组合物,其中所述光敏剂包含至少两种选自4,4’-二叠氮基-2,2’-二苯乙烯二磺酸钠盐、4,4’-重氮-2,2’-二亚苄基丙酮二磺酸二钠盐、2,5-二(4-叠氮基-2-磺基亚苄基)环戊酮二钠盐和4,4’-二叠氮基-2,2’-二亚肉桂基丙酮磺酸盐的化合物。用光刻胶组合物进行石印术方法,可以缩短曝光时间,藉此提高产品的产量。

    光刻胶组合物
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1173647A

    公开(公告)日:1998-02-18

    申请号:CN97115414.7

    申请日:1997-07-16

    CPC classification number: G03F7/008

    Abstract: 含有光固化聚合物和光敏剂的光刻胶组合物,其中所述光敏剂包含至少两种选自4,4’-二叠氮基-2,2’二苯乙烯二磺酸钠盐、4,4’-重氮-2,2’-二亚苄基丙酮二磺酸二钠盐、2,5-二(4-叠氮基-2-磺基亚苄基)环戊酮二钠盐和4,4’-二叠氮基-2,2’-二亚肉桂基丙酮磺酸盐的化合物。用光刻胶组合物进行石印术方法,可以缩短曝光时间,藉此提高产品的产量。

Patent Agency Ranking