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公开(公告)号：CN114654394B
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202210274103.1
申请日：2022-03-20
Applicant: 上海图双精密装备有限公司
Inventor： 钟敏
IPC: B25B11/00
Abstract: 本发明公开了晶圆检测技术领域的一种晶圆检测移动载台机构，一种晶圆检测移动载台机构，包括驱动臂，所述驱动臂的顶端传动连接有旋转臂，所述旋转臂的顶面固定安装有固定轴，所述固定轴的顶端固定安装有固定杆，所述固定杆内腔活动连接有伸缩杆。本发明通过气泵将空气送入固定轴内，通过分气管二进入进气管内，然后进入延伸盒内吹动扇叶，从而带动扇叶进行旋转，使扇叶通过旋转轴带动橡胶轮旋转，由于橡胶轮上开设的卡槽与晶圆的侧壁接触，从而可以带动晶圆旋转，使晶圆上的检测位置以旋转的方式进入检测区域内，在检测时，驱动臂和旋转臂不需要进行移动，从而减少了损耗，增加了装置的使用寿命。
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公开(公告)号：CN114566455A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210197125.2
申请日：2022-03-01
Applicant: 上海图双精密装备有限公司
Inventor： 钟敏
IPC: H01L21/68 , G03F7/20 , H01L21/683
Abstract: 本发明属于光刻机技术领域，且公开了一种光刻机用晶圆寻边机构，包括机架，所述机架的内部设有上储气管，所述上储气管的顶端固定连通有输气口，所述上储气管的下方设有下储气管，所述上储气管和下储气管的内部均活动安装有固定机构。本发明通过直接控制晶圆片的旋转速度，使得晶圆片的旋转速度易控，同时利用改变固定机构的磁性来实现晶圆片的上下固定，使得晶圆片在旋转过程中存在上下多个对称的支点，通过多个对称的支点来对晶圆片旋转时的力量进行支撑，使得晶圆片在旋转时不会发生晃动，使其更加稳定，利用气体的流动和装置的磁力不仅实现了晶圆片的自旋转同时还可增加旋转时的稳定性，提高定位寻边效果，降低晶圆片碎裂的可能。
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公开(公告)号：CN112809729A
公开(公告)日：2021-05-18
申请号：CN202110144325.7
申请日：2021-02-02
Applicant: 上海图双精密装备有限公司
Inventor： 钟敏
Abstract: 本发明公开了一种晶圆的手臂夹持机构，涉及到半导体技术领域，包括底盘、安装座、驱动机构、夹持臂、晶圆缓冲模块和第一滑动块，其中，底盘的一侧对称地设有两夹持臂，两夹持臂之间形成一晶圆夹持槽，底盘的一侧还设有第一滑动块，每一夹持臂的一端分别开设有一第一滑槽，第一滑动块设于第一滑槽内，底盘的一侧还设有安装座，且安装座位于两夹持臂的上端，安装座内设有两驱动机构，每一驱动机构可分别驱动一夹持臂沿第一滑动块的长度方向移动，每一夹持臂的内部分别设有一晶圆缓冲模块。本发明中，可以在夹持晶圆的过程中实现对晶圆水平方向上的作用力进行缓冲，可以防止夹持臂作用在晶圆上的作用力过大而导致晶圆出现碎裂现象。
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公开(公告)号：CN112180693A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202011169808.4
申请日：2020-10-28
Applicant: 上海图双精密装备有限公司
Inventor： 钟敏
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了光刻机硅片台移动装置，包括支撑平台，所述支撑平台的下表面固定安装有辅助支撑腿，所述支撑平台的上表面固定安装有第一支撑板，所述第一支撑板的上表面开设有第一条形槽，所述第一条形槽的内壁转动连接有第一滚轴，所述第一滚轴的表面搭接有硅片台，所述硅片台的上表面开设有放置槽。该光刻机硅片台移动装置，通过设置第一支撑板、压板、第一滚轴和第二滚轴，利用第一支撑板上的第一滚轴和压板上的第二滚轴夹紧硅片台，当硅片台在丝杠的带动下移动时，由于硅片台的上下两表面分别与第一滚轴和第二滚轴滚动连接，与滑动连接相比较，减少了第一滚轴、第二滚轴和硅片台之间的磨损，提高了硅片的加工精度。
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公开(公告)号：CN112180692A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202011169800.8
申请日：2020-10-28
Applicant: 上海图双精密装备有限公司
Inventor： 钟敏
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了光刻机运动台反力抵消装置，包括底座，所述底座的上表面固定连接有光刻机主体，所述光刻机主体的正面设置有控制主机，所述光刻机主体的正面通过合页活动连接有开合门，所述开合门的正面设置有观察窗，所述光刻机主体的内底壁固定连接有减震器，所述减震器的表面设置有运行平台，所述运行平台的上表面设置有硅片台，所述硅片台的上表面设置有硅片。该光刻机运动台反力抵消装置，通过设置减震器，便于硅片台在运行平台上运行时产生的作用力能够通过减震器进行减震，通过设置压力弹簧和减力凸起，便于运行平台在运作时产生的作用力能够通过减力凸起和压力弹簧进行抵消，从而达到有效抵消运动台运作时产生反力的效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112180692B
公开(公告)日：2024-10-18
申请号：CN202011169800.8
申请日：2020-10-28
Applicant: 上海图双精密装备有限公司
Inventor： 钟敏
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了光刻机运动台反力抵消装置，包括底座，所述底座的上表面固定连接有光刻机主体，所述光刻机主体的正面设置有控制主机，所述光刻机主体的正面通过合页活动连接有开合门，所述开合门的正面设置有观察窗，所述光刻机主体的内底壁固定连接有减震器，所述减震器的表面设置有运行平台，所述运行平台的上表面设置有硅片台，所述硅片台的上表面设置有硅片。该光刻机运动台反力抵消装置，通过设置减震器，便于硅片台在运行平台上运行时产生的作用力能够通过减震器进行减震，通过设置压力弹簧和减力凸起，便于运行平台在运作时产生的作用力能够通过减力凸起和压力弹簧进行抵消，从而达到有效抵消运动台运作时产生反力的效果。
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公开(公告)号：CN112809729B
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202110144325.7
申请日：2021-02-02
Applicant: 上海图双精密装备有限公司
Inventor： 钟敏
Abstract: 本发明公开了一种晶圆的手臂夹持机构，涉及到半导体技术领域，包括底盘、安装座、驱动机构、夹持臂、晶圆缓冲模块和第一滑动块，其中，底盘的一侧对称地设有两夹持臂，两夹持臂之间形成一晶圆夹持槽，底盘的一侧还设有第一滑动块，每一夹持臂的一端分别开设有一第一滑槽，第一滑动块设于第一滑槽内，底盘的一侧还设有安装座，且安装座位于两夹持臂的上端，安装座内设有两驱动机构，每一驱动机构可分别驱动一夹持臂沿第一滑动块的长度方向移动，每一夹持臂的内部分别设有一晶圆缓冲模块。本发明中，可以在夹持晶圆的过程中实现对晶圆水平方向上的作用力进行缓冲，可以防止夹持臂作用在晶圆上的作用力过大而导致晶圆出现碎裂现象。
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公开(公告)号：CN115729058A
公开(公告)日：2023-03-03
申请号：CN202211420447.5
申请日：2022-11-14
Applicant: 上海图双精密装备有限公司
Inventor： 钟敏
IPC: G03F7/30
Abstract: 本发明公开了一种用于涂胶显影设备的全自动供液系统，包括涂胶显影设备和螺栓在涂胶显影设备前端左顶侧的控制面板，通过第一贮留罐和气泡罐以及泄放罐等部件为涂胶显影药液提供存储，缓冲和回收作用，并通过第一气动阀和控制阀门等部件为涂胶显影药液提供导流和输出等作用，然后通过过滤器和溢流阀为药液提供回收过滤利用效果，通过电路控制系统和单片机的智能化控制从而能实时监测各单元、传感器的状态，从当前停止位置判断出问题所在并快速解决问题，进而可通过下载新的程序，添加连接需求硬件，从而可满足各种工作需要，通过压力表和调节阀以及流量表的实时监测显影用药液或者气体的各种数据，从而能实时得到供液系统的运行状态数据。
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公开(公告)号：CN114713465A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202210637859.8
申请日：2022-06-08
Applicant: 上海图双精密装备有限公司
Inventor： 钟敏
Abstract: 本发明公开一种自动涂胶机构，包括：平面座、旋转机构、调节机构和吸盘组件；所述旋转机构包括：第一驱动件和旋转圆盘，所述第一驱动件驱动所述旋转圆盘旋转，所述旋转圆盘转动设于所述平面座上；所述调节机构设于所述旋转圆盘上，所述调节机构包括：至少三调节组件，三所述调节组件分别沿所述旋转圆盘的圆周方向呈等间距设置，所述吸盘组件设于三所述调节组件上，所述吸盘组件与所述旋转圆盘同轴设置，三所述调节组件分别用于调节所述吸盘组件的水平度。本发明能够保证吸盘处于水平状态，保证晶片上的胶层的厚度一致。
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公开(公告)号：CN112296018A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202011169794.6
申请日：2020-10-28
Applicant: 上海图双精密装备有限公司
Inventor： 钟敏
Abstract: 本发明公开了光刻机载片台清扫装置，包括清洁箱，所述清洁箱的下表面为开口结构，所述清洁箱的右、右侧壁分别开设有螺纹孔，所述螺纹孔的内壁分别螺纹连接有螺纹顶丝，两个所述螺纹顶丝的相对端的延伸至清洁箱的内腔，所述螺纹顶丝的外表面螺纹连接有固定螺母。该光刻机载片台清扫装置，通过设置清洁箱和功能箱内部的吹风机构、吸尘机构和清洗机构组成的一套清扫装置，可以对光刻机载片台进行吹尘、吸尘和酒精清洗消毒的组合操作，通过设置清洁箱的下表面为开口结构，可以方便将清洁箱通过滑轮移动到载片台的上方位置，使得载片台位于清洁箱的内腔中，使得清洗环境处于半封闭的状态，提高了清扫的效果。
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