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公开(公告)号：CN106132689B
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201580018002.6
申请日：2015-04-06
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: B32B7/02 , B32B2307/584
Abstract: 一种叠层膜，其特征在于，在支持基材的至少一个面上形成了包含A层和B层的表面层，从支持基材侧开始，按照B层、A层的顺序相接，由微小硬度计测得的A层的25℃的储存弹性模量(以下称为EA25)、B层的25℃的储存弹性模量(以下称为EB25)、支持基材的25℃的储存弹性模量(以下称为EC25)、A层的120℃的储存弹性模量(以下称为EA120)、B层的120℃的储存弹性模量(以下称为EB120)、支持基材的120℃的储存弹性模量(以下称为EC120)满足以下条件。条件1EA25＜EB25≤EC25条件2EB120≤EA120＜EC120条件3EA25≤100MPa本发明提供兼顾了耐擦伤性，特别是耐反复擦拭性和成型性的叠层膜。
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公开(公告)号：CN107000400A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201580068091.5
申请日：2015-12-09
Applicant: 东丽株式会社
IPC: B32B27/00
CPC classification number: B32B27/00
Abstract: 本发明提供兼具高表面硬度和挠性的叠层体。一种叠层体，其特征在于，是在支持基材上叠层有表面层的叠层体，在上述表面层的厚度方向的弹性模量分布中，存在弹性模量高于支持基材的弹性模量的极大值和弹性模量低于支持基材的弹性模量的极小值，上述表面层中的与支持基材的界面侧的弹性模量和最表面侧的弹性模量都高于支持基材的弹性模量。
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公开(公告)号：CN118020207A
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202280064213.3
申请日：2022-08-30
Applicant: 东丽株式会社
IPC: H01M50/451 , H01M50/414 , H01M50/417 , H01M50/42 , H01M50/423 , H01M50/434 , H01M50/443 , H01M50/489
Abstract: 一种多孔性膜，其具有多孔质基材、和位于该多孔质基材的至少一个面的包含无机粒子和有机树脂A的多孔质层，所述多孔性膜在条件a(70℃/5MPa/7秒)下测得的干粘接性γ(N/m)与在条件b(条件a+电解液注液工序+60℃/17小时静置)下测得的湿粘接性δ(N/m)满足0.1≤δ/γ≤0.8。以低成本提供使电池制作时和初始充放电时的成品率性与电解液注液性提高的多孔性膜。
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公开(公告)号：CN105555522A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480051102.4
申请日：2014-09-19
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: C08J7/042 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2475/14
Abstract: 本发明提供一种叠层膜，在支持基材的至少一侧具有表面层，满足以下条件1～条件3，条件1：使用微小硬度计的施加载荷－卸除载荷试验法中，所述表面层的厚度方向的最大变位量为1.50μm以上、并且所述表面层的厚度方向的残存变位量为1.30μm以下，所述施加载荷－卸除载荷试验法中的条件为最大载荷0.5mN、保持时间10秒；条件2：在刚体摆试验法中，所述表面层的100℃下的相对储能模量比所述表面层的25℃下的相对储能模量高；条件3：拉伸试验法中所述表面层的150℃下的破裂伸长率为50％以上。本发明的叠层膜具有满意的成型性、自修复性、外观设计性和耐高速变形性。
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公开(公告)号：CN101683022A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880015297.1
申请日：2008-05-08
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H05K9/0096 , H01J11/44 , H01J2211/446 , Y10T156/1092 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明提供叠层了金属层的基板，是由在基板(2)的至少一面上以无规网状叠层的金属微粒层(3)、在金属微粒层(3)的网眼开口部分与金属微粒层(3)相接那样地叠层的树脂层(4)和在该金属微粒层(3)上与树脂层(4)相接那样地叠层的电镀金属层(5)构成的，且形成树脂层(4)的树脂是具有阴离子型离子性基团的树脂。本发明提供可以在大面积内均匀获得高水平的透明性、导电性，不易发生莫尔条纹现象，并且电磁波屏蔽性、各层的粘结性优异的导电性基板和等离子显示器用电磁波屏蔽基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105555522B
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201480051102.4
申请日：2014-09-19
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: C08J7/042 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2475/14
Abstract: 本发明提供一种叠层膜，在支持基材的至少一侧具有表面层，满足以下条件1～条件3，条件1：使用微小硬度计的施加载荷－卸除载荷试验法中，所述表面层的厚度方向的最大变位量为1.50μm以上、并且所述表面层的厚度方向的残存变位量为1.30μm以下，所述施加载荷－卸除载荷试验法中的条件为最大载荷0.5mN、保持时间10秒；条件2：在刚体摆试验法中，所述表面层的100℃下的相对储能模量比所述表面层的25℃下的相对储能模量高；条件3：拉伸试验法中所述表面层的150℃下的破裂伸长率为50％以上。本发明的叠层膜具有满意的成型性、自修复性、外观设计性和耐高速变形性。
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公开(公告)号：CN101683022B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200880015297.1
申请日：2008-05-08
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H05K9/0096 , H01J11/44 , H01J2211/446 , Y10T156/1092 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明提供叠层了金属层的基板，是由在基板(2)的至少一面上以无规网状叠层的金属微粒层(3)、在金属微粒层(3)的网眼开口部分与金属微粒层(3)相接那样地叠层的树脂层(4)和在该金属微粒层(3)上与树脂层(4)相接那样地叠层的电镀金属层(5)构成的，且形成树脂层(4)的树脂是具有阴离子型离子性基团的树脂。本发明提供可以在大面积内均匀获得高水平的透明性、导电性，不易发生莫尔条纹现象，并且电磁波屏蔽性、各层的粘结性优异的导电性基板和等离子显示器用电磁波屏蔽基板。
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公开(公告)号：CN102341232A
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN201080010179.9
申请日：2010-02-19
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H05K9/0096 , B05D1/00 , B05D7/04 , Y10T428/24909
Abstract: 本发明是仅通过在膜的至少一面上涂布金属微粒液就可以得到的网状金属微粒叠层膜，其特征在于，全光线透过率的平均值为70％以上，全光线透过率的不均度为5％以下，长度为2m以上。根据本发明，提供透明性高，抑制出现莫尔条纹，全光线透过率的不均度小的超长网状金属微粒叠层膜。
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公开(公告)号：CN105934339B
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201580005374.5
申请日：2015-01-19
Applicant: 东丽株式会社
IPC: B32B27/00 , B32B27/36 , B32B27/40 , C09D167/04 , C09D175/04 , C09D183/04
CPC classification number: B32B27/00 , B32B27/36 , B32B27/40 , C08G18/44 , C08G18/672 , C09D175/04 , C09D183/04
Abstract: 本发明涉及一种叠层膜，是在支持基材的至少一侧具有表面层的叠层膜，其特征在于，满足以下的条件1及条件2。条件1：通过刚体摆试验法测得的、所述表面层的25℃时的对数衰减率为0.1以上。条件2：上述表面层中含有的树脂包含以下的(1)～(4)。(1)聚己内酯链段 (2)氨基甲酸酯键 (3)聚硅氧烷链段及/或聚二甲基硅氧烷链段 (4)三环癸基链段。本发明提供一种不仅同时实现成型材料所要求的成型性和由自修复性带来的耐擦伤性、而且满足密合耐久性、防污性的叠层膜。
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公开(公告)号：CN105934339A
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201580005374.5
申请日：2015-01-19
Applicant: 东丽株式会社
IPC: B32B27/00 , B32B27/36 , B32B27/40 , C09D167/04 , C09D175/04 , C09D183/04
CPC classification number: B32B27/00 , B32B27/36 , B32B27/40 , C08G18/44 , C08G18/672 , C09D175/04 , C09D183/04
Abstract: 本发明涉及一种叠层膜，是在支持基材的至少一侧具有表面层的叠层膜，其特征在于，满足以下的条件1及条件2。条件1：通过刚体摆试验法测得的、所述表面层的25℃时的对数衰减率为0.1以上。条件2：上述表面层中含有的树脂包含以下的(1)～(4)。(1)聚己内酯链段(2)氨基甲酸酯键(3)聚硅氧烷链段及/或聚二甲基硅氧烷链段(4)三环癸基链段。本发明提供一种不仅同时实现成型材料所要求的成型性和由自修复性带来的耐擦伤性、而且满足密合耐久性、防污性的叠层膜。
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