公开(公告)号：CN108695194A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810165050.3

申请日：2018-02-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 加藤茂 ,  佐保田勉 ,  山谷谦一 ,  升芳明

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/48

Abstract: 本发明的基板加热装置包括：腔室，在内部形成有能够容纳涂敷了溶液的基板的容纳空间；减压部，能够将所述容纳空间的气氛减压；基板加热部，配置在所述基板的一侧及另一侧中的至少一方，并且能够加热所述基板；和腔室加热部，能够加热所述腔室的内表面的至少一部分。

公开(公告)号：CN108695194B

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN201810165050.3

申请日：2018-02-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 加藤茂 ,  佐保田勉 ,  山谷谦一 ,  升芳明

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/48

Abstract: 本发明的基板加热装置包括：腔室，在内部形成有能够容纳涂敷了溶液的基板的容纳空间；减压部，能够将所述容纳空间的气氛减压；基板加热部，配置在所述基板的一侧及另一侧中的至少一方，并且能够加热所述基板；和腔室加热部，能够加热所述腔室的内表面的至少一部分。

公开(公告)号：CN107785240A

公开(公告)日：2018-03-09

申请号：CN201710573155.8

申请日：2017-07-14

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 加藤茂 ,  佐保田勉 ,  山谷谦一 ,  升芳明

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3105 ,  C08G73/10

CPC classification number: H01L21/0201 ,  C08G73/10 ,  H01L21/3105

Abstract: 本实施方式的基板加热装置，包括：减压部，对涂布了溶液的基板的容纳空间的气氛进行减压；红外线加热器，能够通过红外线加热所述基板；所述红外线加热器呈在多个部位弯折的管状，并且包括：弯曲部，以向外侧凸出的方式弯折；盖部，配置为从外侧覆盖所述弯曲部的至少一部分。

公开(公告)号：CN101661873B

公开(公告)日：2013-12-25

申请号：CN200910167447.7

申请日：2009-08-25

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 佐保田勉 ,  岛井太 ,  佐藤晶彦

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  G03F7/16 ,  B65G49/06 ,  B65G49/07

Abstract: 一种基板处理系统，具备：处理单元，其对基板进行涂敷处理；基板送入单元，其被供给收容有涂敷处理前的所述基板的送入用容器，且回收空的所述送入用容器；基板送出单元，其回收收容有所述涂敷处理后的所述基板的送出用容器，且被供给空的所述送出用容器；输送单元，其具有输送机构，该输送机构在所述处理单元内的装载位置和所述基板送入单元之间输送所述送入用容器，并在所述处理单元内的卸载位置和所述基板送出单元之间输送所述送出用容器。吸引基板并将其保持的吸引部设置为能够相对于在基部设置的臂部旋转，能够在利用保持部保持了基板的状态使其旋转的输送装置。利用喷嘴从以竖立的状态使其旋转的基板的两面喷出液状体地构成的涂敷装置。

公开(公告)号：CN102810498A

公开(公告)日：2012-12-05

申请号：CN201210175124.4

申请日：2012-05-30

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 宫本英典 ,  佐保田勉

IPC: H01L21/67 ,  H01L31/18 ,  B05C9/14

CPC classification number: H01L21/67173 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/6776 ,  H01L31/0322 ,  H01L31/0326 ,  Y02E10/541

Abstract: 本发明提供一种加热装置、涂敷装置及加热方法，该加热装置具备：第一加热部及第二加热部，它们在所述涂敷膜的膜厚方向上夹着配置具有涂敷膜的基板的基板位置；距离调整部，其对所述基板位置与所述第一加热部的第一距离及所述基板位置与所述第二加热部的第二距离中的至少一方进行调整。

公开(公告)号：CN101661873A

公开(公告)日：2010-03-03

申请号：CN200910167447.7

申请日：2009-08-25

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 佐保田勉 ,  岛井太 ,  佐藤晶彦

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  G03F7/16 ,  B65G49/06 ,  B65G49/07

Abstract: 一种基板处理系统，具备：处理单元，其对基板进行涂敷处理；基板送入单元，其被供给收容有涂敷处理前的所述基板的送入用容器，且回收空的所述送入用容器；基板送出单元，其回收收容有所述涂敷处理后的所述基板的送出用容器，且被供给空的所述送出用容器；输送单元，其具有输送机构，该输送机构在所述处理单元内的装载位置和所述基板送入单元之间输送所述送入用容器，并在所述处理单元内的卸载位置和所述基板送出单元之间输送所述送出用容器。吸引基板并将其保持的吸引部设置为能够相对于在基部设置的臂部旋转，能够在利用保持部保持了基板的状态使其旋转的输送装置。利用喷嘴从以竖立的状态使其旋转的基板的两面喷出液状体地构成的涂敷装置。

公开(公告)号：CN107799434B

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN201710573158.1

申请日：2017-07-14

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 加藤茂 ,  佐保田勉 ,  山谷谦一 ,  升芳明

IPC: H01L21/67

Abstract: 本实施方式的基板加热装置，包括：减压部，对涂布了溶液的基板的容纳空间的气氛进行减压；加热部，配置在所述基板的一侧，并且能够加热所述基板；红外线加热器，配置在所述基板的另一侧，并且通过红外线能够加热所述基板；反射面，配置在所述加热部与所述红外线加热器之间，并且反射朝向所述加热部的所述红外线。

公开(公告)号：CN107799434A

公开(公告)日：2018-03-13

申请号：CN201710573158.1

申请日：2017-07-14

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 加藤茂 ,  佐保田勉 ,  山谷谦一 ,  升芳明

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67098 ,  H01L21/67115

Abstract: 本实施方式的基板加热装置，包括：减压部，对涂布了溶液的基板的容纳空间的气氛进行减压；加热部，配置在所述基板的一侧，并且能够加热所述基板；红外线加热器，配置在所述基板的另一侧，并且通过红外线能够加热所述基板；反射面，配置在所述加热部与所述红外线加热器之间，并且反射朝向所述加热部的所述红外线。

公开(公告)号：CN107785240B

公开(公告)日：2023-06-20

申请号：CN201710573155.8

申请日：2017-07-14

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 加藤茂 ,  佐保田勉 ,  山谷谦一 ,  升芳明

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3105 ,  C08G73/10

Abstract: 本实施方式的基板加热装置，包括：减压部，对涂布了溶液的基板的容纳空间的气氛进行减压；红外线加热器，能够通过红外线加热所述基板；所述红外线加热器呈在多个部位弯折的管状，并且包括：弯曲部，以向外侧凸出的方式弯折；盖部，配置为从外侧覆盖所述弯曲部的至少一部分。

公开(公告)号：CN103077911A

公开(公告)日：2013-05-01

申请号：CN201210580019.9

申请日：2009-08-25

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 佐保田勉 ,  岛井太 ,  佐藤晶彦

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种基板处理系统，具备：处理单元，其对基板进行涂敷处理；基板送入单元，其被供给收容有涂敷处理前的所述基板的送入用容器，且回收空的所述送入用容器；基板送出单元，其回收收容有所述涂敷处理后的所述基板的送出用容器，且被供给空的所述送出用容器；输送单元，其具有输送机构，该输送机构在所述处理单元内的装载位置和所述基板送入单元之间输送所述送入用容器，并在所述处理单元内的卸载位置和所述基板送出单元之间输送所述送出用容器。吸引基板并将其保持的吸引部设置为能够相对于在基部设置的臂部旋转，能够在利用保持部保持了基板的状态使其旋转的输送装置。利用喷嘴从以竖立的状态使其旋转的基板的两面喷出液状体地构成的涂敷装置。