-
公开(公告)号：CN112962104A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN202110145068.9
申请日：2021-02-02
Applicant: 乐普(北京)医疗器械股份有限公司
Abstract: 本发明属于金属表面加工处理技术领域，具体涉及一种去除金属表面激光加工熔渣的方法及应用。本发明提供的去除金属表面激光加工熔渣的方法，通过在超声去渣前添加熔渣分解步骤，采用包含硝酸与氢氟酸的低酸浓度的熔渣分解液在高温条件下先将待处理样品的金属表面氧化层部分溶解，形成腐蚀位点，而后采用简短的超声去渣步骤，将包含硝酸与氢氟酸高酸浓度去渣液、室温条件下迅速渗透入腐蚀位点，将表层的熔渣颗粒和被分解的氧化层完全去掉，完成去渣过程。由此可以显著减少因过长超声振动产生的腐蚀、断裂、豁口等不良，提升去渣产品质量；可避免多次更换去渣液操作劳动强度大的问题，提升生产效率。
-
公开(公告)号：CN105983144B
公开(公告)日：2019-07-19
申请号：CN201510081008.X
申请日：2015-02-13
Applicant: 乐普(北京)医疗器械股份有限公司
Abstract: 本发明涉及临床医学技术领域，公开了一种药物涂层支架的涂覆装置。该药物涂层支架的涂覆装置包括：转动轴、支架及真空舱；所述转动轴的一端设置于所述真空腔内，且与所述支架连接，所述真空舱内通有用于涂覆所述支架的药物溶液。本发明还公开了一种应用上述药物涂层支架的涂覆装置的涂覆方法，在真空腔的真空环境中进行涂覆，方法简单，容易操作，效率高；涂层稳定，在涂覆过程的各个步骤中不会改变其形态及物理化学性质，在支架植入和释放的过程中不会破裂、脱落；涂层效果不会改变支架本身支撑作用的力学性质；涂层药物的释放可符合临床较高要求。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112962104B
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202110145068.9
申请日：2021-02-02
Applicant: 乐普(北京)医疗器械股份有限公司
Abstract: 本发明属于金属表面加工处理技术领域，具体涉及一种去除金属表面激光加工熔渣的方法及应用。本发明提供的去除金属表面激光加工熔渣的方法，通过在超声去渣前添加熔渣分解步骤，采用包含硝酸与氢氟酸的低酸浓度的熔渣分解液在高温条件下先将待处理样品的金属表面氧化层部分溶解，形成腐蚀位点，而后采用简短的超声去渣步骤，将包含硝酸与氢氟酸高酸浓度去渣液、室温条件下迅速渗透入腐蚀位点，将表层的熔渣颗粒和被分解的氧化层完全去掉，完成去渣过程。由此可以显著减少因过长超声振动产生的腐蚀、断裂、豁口等不良，提升去渣产品质量；可避免多次更换去渣液操作劳动强度大的问题，提升生产效率。
-
公开(公告)号：CN105983144A
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201510081008.X
申请日：2015-02-13
Applicant: 乐普(北京)医疗器械股份有限公司
Abstract: 本发明涉及临床医学技术领域，公开了一种药物涂层支架的涂覆装置。该药物涂层支架的涂覆装置包括：转动轴、支架及真空舱；所述转动轴的一端设置于所述真空腔内，且与所述支架连接，所述真空舱内通有用于涂覆所述支架的药物溶液。本发明还公开了一种应用上述药物涂层支架的涂覆装置的涂覆方法，在真空腔的真空环境中进行涂覆，方法简单，容易操作，效率高；涂层稳定，在涂覆过程的各个步骤中不会改变其形态及物理化学性质，在支架植入和释放的过程中不会破裂、脱落；涂层效果不会改变支架本身支撑作用的力学性质；涂层药物的释放可符合临床较高要求。
-
公开(公告)号：CN105624770A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201410696654.2
申请日：2014-11-26
Applicant: 乐普(北京)医疗器械股份有限公司
IPC: C25F3/22
Abstract: 本发明涉及一种用于钴基合金的电化学抛光液，所述抛光液包含以下体积比的成分：浓磷酸：浓硫酸：乙二醇＝23～43：12～45：12～65；外加0.1-1g/L添加剂，所述添加剂为多羟基醛或多羟基酮的聚合物及其衍生物、钴的氯化物、铬的氯化物中的一种或多种。本发明提供的电化学抛光液可用于钴基合金表面的抛光，抛光效果显著，使用寿命长，安全性好。
-
公开(公告)号：CN105624770B
公开(公告)日：2018-02-02
申请号：CN201410696654.2
申请日：2014-11-26
Applicant: 乐普(北京)医疗器械股份有限公司
IPC: C25F3/22
Abstract: 本发明涉及一种用于钴基合金的电化学抛光液，所述抛光液包含以下体积比的成分：浓磷酸：浓硫酸：乙二醇＝23～43：12～45：12～65；外加0.1‑1g/L添加剂，所述添加剂为多羟基醛或多羟基酮的聚合物及其衍生物、钴的氯化物、铬的氯化物中的一种或多种。本发明提供的电化学抛光液可用于钴基合金表面的抛光，抛光效果显著，使用寿命长，安全性好。
-
公开(公告)号：CN215404631U
公开(公告)日：2022-01-04
申请号：CN202120893533.2
申请日：2021-04-27
Applicant: 乐普(北京)医疗器械股份有限公司
IPC: C25F3/16
Abstract: 本实用新型公开了一种电化学处理装置，其包括：输送单元以及依次设置的抛光单元、清洗单元以及干燥单元。其中，抛光单元具有适于容置抛光液的抛光槽；清洗单元具有适于容置清洗液的清洗槽；干燥单元具有吹风件，所述吹风件用以对待加工件吹风以干燥所述待加工件。输送单元用于带动所述待加工件沿输送方向依次传输。上述的电化学处理装置，通过输送机构驱动待加工件依次经过抛光单元、清洗单元以及干燥单元，减少了人工的介入，满足了自动化的操作需求。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.051 seconds)
