公开(公告)号：CN1330091A

公开(公告)日：2002-01-09

申请号：CN01118894.4

申请日：2001-06-29

Applicant: 井上株式会社 ,  井上技术研究所株式会社

Inventor： 佐藤幸男

IPC: C08G18/00

CPC classification number: C08G18/10 ,  C08G2101/0008 ,  C08G18/302

Abstract: 本发明通过简单控制孔直径和使用聚氨酯发泡材料制成具有充分的沉积物擦拭性能和保水率的真空室用擦拭材料及其制备方法,其中的聚氨酯发泡材料的发泡中不使用硅氧烷基表面活性剂。本发明还描述了由聚氨酯发泡材料制成的擦拭材料,该擦拭材料用于硅片制造过程中使用的真空室中,其中的聚氨酯发泡材料不含硅氧烷基并具有其孔直径控制为500－3,000μm的开孔结构。

公开(公告)号：CN1231512C

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN01118894.4

申请日：2001-06-29

Applicant: 井上株式会社 ,  井上技术研究所株式会社

Inventor： 佐藤幸男

IPC: C08G18/00

CPC classification number: C08G18/10 ,  C08G2101/0008 ,  C08G18/302

Abstract: 本发明通过简单控制孔直径和使用聚氨酯发泡材料制成具有充分的沉积物擦拭性能和保水率的真空室用擦拭材料及其制备方法，其中的聚氨酯发泡材料的发泡中不使用硅氧烷基表面活性剂。本发明还描述了由聚氨酯发泡材料制成的擦拭材料，该擦拭材料用于硅片制造过程中使用的真空室中，其中的聚氨酯发泡材料不含硅氧烷基并具有其孔直径控制为500-3,000μm的开孔结构。