公开(公告)号：CN102317075A

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN201080007877.3

申请日：2010-01-28

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： B·施特勒梅尔 ,  H·鲍曼 ,  D·卢梅尔

IPC: B41C1/10 ,  C09D11/10 ,  G03F7/105

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/10 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  G03F7/092 ,  G03F7/105 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/145

Abstract: 阴图制版可成像元件可用于制备平版印刷印版。这些元件包含水溶性对比染料，所述染料的λmax在450至750nm范围内且在用于曝光的波长下的吸光率比所述元件中对辐射敏感的化合物的吸光率低10％。所述对比染料以足够的H-聚集存在，使得低于所述对比染料的整个吸收光谱的40％由非H-聚集形式的对比染料贡献。

公开(公告)号：CN102317075B

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201080007877.3

申请日：2010-01-28

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： B·施特勒梅尔 ,  H·鲍曼 ,  D·卢梅尔

IPC: B41C1/10 ,  C09D11/10 ,  G03F7/105

CPC classification number: B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/08 ,  B41C2210/10 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  G03F7/092 ,  G03F7/105 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/145

Abstract: 阴图制版可成像元件可用于制备平版印刷印版。这些元件包含水溶性对比染料，所述染料的λmax在450至750nm范围内且在用于曝光的波长下的吸光率比所述元件中对辐射敏感的化合物的吸光率低10％。所述对比染料以足够的H-聚集存在，使得低于所述对比染料的整个吸收光谱的40％由非H-聚集形式的对比染料贡献。