-
公开(公告)号：CN103403609A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201180046382.6
申请日：2011-07-21
Applicant: 伊英克公司
IPC: G02F1/01 , G02B5/22 , G02F1/1335 , G02F1/167
CPC classification number: G02F1/133516 , G02B5/201 , G02B5/22 , G02F1/1303 , H01L27/322 , H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种用于使用数字成像系统在多个显示器基板上形成滤光元件的方法和系统，所述数字成像系统可操作地在多个沉积位置处选择性地沉积滤光材料。所述方法包括接收取向信息，所述取向信息限定与至少一个显示器基板相关的多个像素的设置；在多个像素中识别将接收滤光材料的像素以在所述像素上形成滤光元件；根据取向信息在每个被识别的像素内选择沉积位置，从而满足与滤光元件在所述像素内的布置相关的对准标准；以及控制所述数字成像系统以使滤光材料沉积在被选择的所述沉积位置处。本发明还公开了一种用于在基板上形成滤光元件的方法和系统，其中包括在所述基板上选择接收滤光材料以形成滤光元件的位置；在所述滤光元件的布置中引入随机变量；以及在被选择的所述位置处形成滤光元件，所述基板随后被与显示器基板对准以形成显示器。本发明还公开了一种在显示器基板上形成滤光元件的方法和系统，其中包括在与所述显示器基板相关的多个像素上选择性地沉积滤光材料以形成滤光元件；以及将被沉积的滤光材料选择性地暴露于激光热辐射以调节所述被沉积的滤光材料。
-
公开(公告)号：CN103403609B
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201180046382.6
申请日：2011-07-21
Applicant: 伊英克公司
IPC: G02F1/01 , G02B5/22 , G02F1/1335 , G02F1/167
Abstract: 本发明公开了一种用于使用数字成像系统在多个显示器基板上形成滤光元件的方法和系统，所述数字成像系统可操作地在多个沉积位置处选择性地沉积滤光材料。所述方法包括接收取向信息，所述取向信息限定与至少一个显示器基板相关的多个像素的设置；在多个像素中识别将接收滤光材料的像素以在所述像素上形成滤光元件；根据取向信息在每个被识别的像素内选择沉积位置，从而满足与滤光元件在所述像素内的布置相关的对准标准；以及控制所述数字成像系统以使滤光材料沉积在被选择的所述沉积位置处。本发明还公开了一种用于在基板上形成滤光元件的方法和系统，其中包括在所述基板上选择接收滤光材料以形成滤光元件的位置；在所述滤光元件的布置中引入随机变量；以及在被选择的所述位置处形成滤光元件，所述基板随后被与显示器基板对准以形成显示器。本发明还公开了一种在显示器基板上形成滤光元件的方法和系统，其中包括在与所述显示器基板相关的多个像素上选择性地沉积滤光材料以形成滤光元件；以及将被沉积的滤光材料选择性地暴露于激光热辐射以调节所述被沉积的滤光材料。
-
公开(公告)号：CN106371241B
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN201610991752.8
申请日：2011-07-21
Applicant: 伊英克公司
IPC: G02F1/1335
Abstract: 本发明公开了一种用于在显示器基板上形成滤光元件的方法，所述方法包括：在与所述显示器基板相关的多个像素上选择性地沉积滤光材料以形成滤光元件；以及选择性地将被沉积的滤光材料暴露于激光热辐射以调节所述被沉积的滤光材料。本发明还公开了一种用于在显示器基板上形成滤光元件的数字成像系统，所述系统包括控制器，所述控制器可操作地被配置为使得所述数字成像系统：选择性地在与所述显示器基板相关的多个像素上沉积滤光材料以形成滤光元件；以及选择性地将被沉积的滤光材料暴露于激光热辐射以调节所述被沉积的滤光材料。
-
公开(公告)号：CN106371241A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：CN201610991752.8
申请日：2011-07-21
Applicant: 伊英克公司
IPC: G02F1/1335
CPC classification number: G02F1/133516 , G02B5/201 , G02B5/22 , G02F1/1303 , H01L27/322 , H01L51/56
Abstract: 本发明公开了一种用于在显示器基板上形成滤光元件的方法，所述方法包括：在与所述显示器基板相关的多个像素上选择性地沉积滤光材料以形成滤光元件；以及选择性地将被沉积的滤光材料暴露于激光热辐射以调节所述被沉积的滤光材料。本发明还公开了一种用于在显示器基板上形成滤光元件的数字成像系统，所述系统包括控制器，所述控制器可操作地被配置为使得所述数字成像系统：选择性地在与所述显示器基板相关的多个像素上沉积滤光材料以形成滤光元件；以及选择性地将被沉积的滤光材料暴露于激光热辐射以调节所述被沉积的滤光材料。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.032 seconds)
