公开(公告)号：CN107430353B

公开(公告)日：2020-04-28

申请号：CN201680018422.9

申请日：2016-02-19

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 大塚明

IPC: G03F7/20 ,  G02B3/00 ,  G02B19/00 ,  G02B26/02

Abstract: 提供能够实现空间光调制元件的高效率化及长寿命化的曝光装置以及曝光方法。曝光装置(100)具备：微透镜阵列(142)，以阵列状排列有将来自光源的光会聚的微透镜；空间光调制部(数字微镜器件)(12)，排列有对由所述微透镜阵列(142)会聚的光进行调制的像素部；第一成像光学系统(143)，将由所述微透镜阵列(142)会聚的光成像到所述空间光调制部(12)；以及第二成像光学系统(16)，将由所述空间光调制部(12)调制后的光成像到感光材料上。

公开(公告)号：CN107430353A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680018422.9

申请日：2016-02-19

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 大塚明

IPC: G03F7/20 ,  G02B3/00 ,  G02B19/00 ,  G02B26/02

Abstract: 提供能够实现空间光调制元件的高效率化及长寿命化的曝光装置以及曝光方法。曝光装置(100)具备：微透镜阵列(142)，以阵列状排列有将来自光源的光会聚的微透镜；空间光调制部(数字微镜器件)(12)，排列有对由所述微透镜阵列(142)会聚的光进行调制的像素部；第一成像光学系统(143)，将由所述微透镜阵列(142)会聚的光成像到所述空间光调制部(12)；以及第二成像光学系统(16)，将由所述空间光调制部(12)调制后的光成像到感光材料上。