公开(公告)号：CN107024836A

公开(公告)日：2017-08-08

申请号：CN201710059526.0

申请日：2017-01-24

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 浅见正利

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种辊到辊两面曝光装置，提供在辊到辊方式且进行两面曝光的曝光装置中，能够进行掩膜的清洗的实用的构成。通过搬运系统(1)将辊状的片状基板(S)拉出并在曝光区域中通过地搬运，通过设置在曝光区域的两侧的一对光源(2)、光学系统(3)以及掩膜(41、42)，按照掩膜(41、42)的图案照射光对片状基板(S)进行曝光。在曝光的间隙，升降机构(51、52)是各掩膜(41、42)升降，成为各掩膜(41、42)与表面具有粘贴层的一对清洗辊(61、62)接触的状态，各清洗辊(61、62)在各掩膜(41、42)上转动并且通过辊移动机构(63)一体地移动，由此对各掩膜(41、42)进行清洗。

公开(公告)号：CN107024836B

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：CN201710059526.0

申请日：2017-01-24

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 浅见正利

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种辊到辊两面曝光装置，提供在辊到辊方式且进行两面曝光的曝光装置中，能够进行掩膜的清洗的实用的构成。通过搬运系统(1)将辊状的片状基板(S)拉出并在曝光区域中通过地搬运，通过设置在曝光区域的两侧的一对光源(2)、光学系统(3)以及掩膜(41、42)，按照掩膜(41、42)的图案照射光对片状基板(S)进行曝光。在曝光的间隙，升降机构(51、52)是各掩膜(41、42)升降，成为各掩膜(41、42)与表面具有粘贴层的一对清洗辊(61、62)接触的状态，各清洗辊(61、62)在各掩膜(41、42)上转动并且通过辊移动机构(63)一体地移动，由此对各掩膜(41、42)进行清洗。