偏振光照射装置以及光取向装置

    公开(公告)号:CN107450236A

    公开(公告)日:2017-12-08

    申请号:CN201710388607.5

    申请日:2017-05-27

    CPC classification number: G02F1/133788

    Abstract: 本发明提供一种能够在照射面中以较大的消光比且较高的照度照射偏振光的偏振光照射装置以及光取向装置。在构成纵长的发光部的光源(1)与照射面(R)之间,设置有多个栅格偏振元件(2)。各栅格偏振元件(2)为长方形,其由长方形的透明基板(21)与设置在透明基板(21)上的条纹状的栅格(22)构成,并沿长边方向排列。在各栅格偏振元件(2)中,各线状部(23)沿长边方向延伸,长边方向与光源(1)的发光部所延伸的方向一致。

    栅偏振元件
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104714267A

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201410586707.5

    申请日:2014-10-28

    Abstract: 一种栅偏振元件,通过做成防止由氧化性气体带来的劣化的构造,从而适当地用于紫外域的光的偏振用。在透明基板(1)上设有由许多线状部(21)构成的条纹状的栅层(2)的构造的栅偏振元件能够使紫外线偏振,栅层(2)被气体阻断层(3)覆盖,该气体阻断层将活性氧或臭氧那样的通过紫外线生成的氧化性气体阻断。气体阻断层(3)在偏振的光的波长中是透明的。

    真空紫外光偏振元件、真空紫外光偏振装置、真空紫外光偏振方法及取向方法

    公开(公告)号:CN112189157A

    公开(公告)日:2021-01-05

    申请号:CN201980034821.8

    申请日:2019-05-31

    Abstract: 本发明的课题在于提出能够用于光取向等处理的真空紫外光偏振元件的更适当的构成,并且提供利用真空紫外光进行光取向的适当的技术构成。上述课题通过下述手段得以解决:设置在透明基板(1)上的栅(2)由平行延伸的多个线状部(3)构成。各线状部(3)的材料是氧化铪之类的第3族或第4族元素的氧化物,且是在由式PE=T2×log10(ER)(其中,T为栅的透射率,ER为栅的消光比)得到的PE于真空紫外区域中达到最高的光学常数的组合中PE达到0.2以上的材料。各线状部(3)之间为空间而无填充物,配置有真空紫外光偏振元件(6)的空间用不活泼性气体替换。进行光取向时,工件(10)配置在距真空紫外光偏振元件(6)1~20mm以下的位置,真空紫外光的照射量为40~4000mJ/mm2以下。

    栅偏振元件、光取向装置、偏振方法及栅偏振元件制造方法

    公开(公告)号:CN104280808B

    公开(公告)日:2018-03-13

    申请号:CN201410305311.9

    申请日:2014-06-30

    Abstract: 本发明提供一种偏振元件、光取向装置、偏振方法及栅偏振元件制造方法,所述偏振元件,能够将从可见短波长区域至紫外区的偏振光向某种程度的大区域照射,在消光比和透过率等基本性能方面具有优良的特性。设置于透明基板1上的条纹状的栅格(2)由非晶硅形成,在使用波长中折射率实数部n比衰减系数k大。设构成栅格(2)的各线状部(21)与一侧的相邻的线状部的距离为t、与另一侧的相邻的线状部的距离为T时,栅格(2)周期性地具有实质上t<T的部分。设各线状部(21)的宽度的平均值为w时,在t<T的部分处于t/T>0.0159w+0.3735的关系。

    栅偏振元件
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104714267B

    公开(公告)日:2020-09-18

    申请号:CN201410586707.5

    申请日:2014-10-28

    Abstract: 一种栅偏振元件,通过做成防止由氧化性气体带来的劣化的构造,从而适当地用于紫外域的光的偏振用。在透明基板(1)上设有由许多线状部(21)构成的条纹状的栅层(2)的构造的栅偏振元件能够使紫外线偏振,栅层(2)被气体阻断层(3)覆盖,该气体阻断层将活性氧或臭氧那样的通过紫外线生成的氧化性气体阻断。气体阻断层(3)在偏振的光的波长中是透明的。

    栅偏振元件、紫外线偏振光照射方法及装置、光取向装置

    公开(公告)号:CN104749676B

    公开(公告)日:2018-08-14

    申请号:CN201410588358.0

    申请日:2014-10-28

    Inventor: 鹤冈和之

    CPC classification number: G02B5/3058 G02B5/3075

    Abstract: 提供一种栅偏振元件、紫外线偏振光照射方法、紫外线偏振光照射装置,该非反射型的栅偏振元件,制造较容易,在以紫外线为对象波长那样的容易发生氧化的条件下使用的情况下也能够稳定得到希望的偏振性能。在透明基板(1)上设置的条纹状的栅(2)由多个线状部(21)形成,该多个线状部具有由氮化钛或/及氮氧化钛形成的主要的层,并且不包含单体金属层,将s偏振光有选择地吸收,使p偏振光透过,从而使光偏振。各线状部(21)以能够使紫外线偏振的间隔t离开。来自水银灯(51)的紫外线被栅偏振元件(53)偏振,通过将紫外线偏振光对工件(10)照射,将工件(10)进行光取向。

    栅偏振元件、光取向装置、偏振方法及栅偏振元件制造方法

    公开(公告)号:CN104280808A

    公开(公告)日:2015-01-14

    申请号:CN201410305311.9

    申请日:2014-06-30

    CPC classification number: G02B5/3058 G02F1/133528 G02F2001/133548

    Abstract: 本发明提供一种偏振元件、光取向装置、偏振方法及栅偏振元件制造方法,所述偏振元件,能够将从可见短波长区域至紫外区的偏振光向某种程度的大区域照射,在消光比和透过率等基本性能方面具有优良的特性。设置于透明基板1上的条纹状的栅格(2)由非晶硅形成,在使用波长中折射率实数部n比衰减系数k大。设构成栅格(2)的各线状部(21)与一侧的相邻的线状部的距离为t、与另一侧的相邻的线状部的距离为T时,栅格(2)周期性地具有实质上t<T的部分。设各线状部(21)的宽度的平均值为w时,在t<T的部分处于t/T>0.0159w+0.3735的关系。

    真空紫外光偏振元件、真空紫外光偏振装置、真空紫外光偏振方法及取向方法

    公开(公告)号:CN112189157B

    公开(公告)日:2022-07-19

    申请号:CN201980034821.8

    申请日:2019-05-31

    Abstract: 本发明的课题在于提出能够用于光取向等处理的真空紫外光偏振元件的更适当的构成,并且提供利用真空紫外光进行光取向的适当的技术构成。上述课题通过下述手段得以解决:设置在透明基板(1)上的栅(2)由平行延伸的多个线状部(3)构成。各线状部(3)的材料是氧化铪之类的第3族或第4族元素的氧化物,且是在由式PE=T2×log10(ER)(其中,T为栅的透射率,ER为栅的消光比)得到的PE于真空紫外区域中达到最高的光学常数的组合中PE达到0.2以上的材料。各线状部(3)之间为空间而无填充物,配置有真空紫外光偏振元件(6)的空间用不活泼性气体替换。进行光取向时,工件(10)配置在距真空紫外光偏振元件(6)1~20mm以下的位置,真空紫外光的照射量为40~4000mJ/mm2以下。

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