公开(公告)号：CN104718501A

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：CN201380053742.4

申请日：2013-11-27

Applicant: 住友理工株式会社

Inventor： 今井健太郎 ,  林洋介 ,  石田政典 ,  三隅史雄 ,  佐藤正则 ,  荒田利彦 ,  尾崎敦之

IPC: G03G15/08 ,  G03G15/00 ,  G03G15/02 ,  G03G15/16

CPC classification number: G03G15/05 ,  C08L9/02 ,  C08L33/08 ,  C08L75/04 ,  G03G15/0233 ,  G03G15/06 ,  G03G15/0818 ,  G03G15/14 ,  G03G15/0806 ,  G03G15/2017 ,  G03G15/2057 ,  G03G15/206

Abstract: 电子照相用构件(R)用于电子照相设备。电子照相用构件(R)具有表层(1)。表层(1)具有：形成表层(1)的骨架的基质聚合物(11)，以及基质聚合物(11)中所含有的表面改性剂(12)。表面改性剂(12)由在分子内具有第1聚合单元和第2聚合单元的共聚物形成，所述第1聚合单元源自具有硅酮基(121)的(甲基)丙烯酸酯，所述第2聚合单元源自具有含氟基团(122)的(甲基)丙烯酸酯。

公开(公告)号：CN104718501B

公开(公告)日：2019-04-02

申请号：CN201380053742.4

申请日：2013-11-27

Applicant: 住友理工株式会社

Inventor： 今井健太郎 ,  林洋介 ,  石田政典 ,  三隅史雄 ,  佐藤正则 ,  荒田利彦 ,  尾崎敦之

IPC: G03G15/08 ,  G03G15/00 ,  G03G15/02 ,  G03G15/16

Abstract: 电子照相用构件(R)用于电子照相设备。电子照相用构件(R)具有表层(1)。表层(1)具有：形成表层(1)的骨架的基质聚合物(11)，以及基质聚合物(11)中所含有的表面改性剂(12)。表面改性剂(12)由在分子内具有第1聚合单元和第2聚合单元的共聚物形成，所述第1聚合单元源自具有硅酮基(121)的(甲基)丙烯酸酯，所述第2聚合单元源自具有含氟基团(122)的(甲基)丙烯酸酯。

公开(公告)号：CN103443715B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201280011638.4

申请日：2012-08-09

Applicant: 住友理工株式会社

Inventor： 林洋介 ,  山口直树 ,  尾崎敦之 ,  竹山可大

IPC: G03G15/08

CPC classification number: G03G15/0808 ,  G03G15/0818

Abstract: 提供一种可以防止离子导电剂起霜、长期维持电荷衰减特性的电子照相设备用显影辊。该显影辊(1)具有在轴体(2)的外周面上形成的弹性层(3)和表层(4)，表层(4)的成分(B)的阳离子与成分(A)相结合，相对于成分(A)100质量份，含有成分(B)0.10～3质量份。成分(A)是含有与成分(B)的烷氧基硅烷基反应的官能团的粘合树脂。成分(B)是具有阳离子由通式(1)表示的化学结构的离子导电剂。R1-N+-R2-Si(OR3)3···(1)在通式(1)中，R1是环状、直链的有机基团，R2至少含有(CH2)n，其中n为整数，R3是烷基。