公开(公告)号：CN101535177A

公开(公告)日：2009-09-16

申请号：CN200780041911.7

申请日：2007-10-31

Applicant: 住友电气工业株式会社

Inventor： 赤羽良启 ,  今井贵浩 ,  松浦尚 ,  片山哲也 ,  后利彦

IPC: C01B31/02 ,  B32B9/00 ,  G02B3/00 ,  G02B5/18 ,  G02B5/30 ,  G02B5/32 ,  G03H1/02

Abstract: 本发明提供一种作为光学膜的含有Si－O的氢化碳膜，其对于波长为520nm的光的折射率为至少1.48到至多1.85，并且对于波长为248nm的光的消光系数小于0.15，其中，通过使用能量束照射，折射率和消光系数都降低。通过使用这种含有Si－O的氢化碳膜，可以提供包括该含有Si－O的氢化碳膜的各种光学元件和光学装置。

公开(公告)号：CN101535177B

公开(公告)日：2012-06-13

申请号：CN200780041911.7

申请日：2007-10-31

Applicant: 住友电气工业株式会社

Inventor： 赤羽良启 ,  今井贵浩 ,  松浦尚 ,  片山哲也 ,  后利彦

IPC: C01B31/02 ,  B32B9/00 ,  G02B3/00 ,  G02B5/18 ,  G02B5/30 ,  G02B5/32 ,  G03H1/02

Abstract: 本发明提供一种作为光学膜的含有Si-O的氢化碳膜，其对于波长为520nm的光的折射率为至少1.48到至多1.85，并且对于波长为248nm的光的消光系数小于0.15，其中，通过使用能量束照射，折射率和消光系数都降低。通过使用这种含有Si-O的氢化碳膜，可以提供包括该含有Si-O的氢化碳膜的各种光学元件和光学装置。