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公开(公告)号:CN104411635B
公开(公告)日:2017-05-10
申请号:CN201380032500.7
申请日:2013-05-22
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C01B33/021 , C01B32/05 , C01B32/97 , C25B1/26 , C25C3/34
CPC classification number: C01B33/033 , C01B32/00 , C01B32/05 , C01B33/021
Abstract: 本发明提供能够由稻壳制造金属硅及多孔碳的制造方法。金属硅及多孔碳的制造方法具备:第一工序S1,通过稻壳M1的加热处理而生成含有SiO2和C的稻壳炭M2;第二工序S4,使稻壳炭M4曝露于加热后的第一不活泼气体G2或还原性气体中的至少任意一种气体中而生成SiC;第三工序S5,使SiC曝露于含有Cl2气体的加热气氛中而生成SiCl4和多孔碳P1;第四工序S7,通过使SiCl4与Zn反应而生成金属硅P2和ZnCl2;以及第五工序S9,对ZnCl2进行电解而生成Zn和Cl2气体。将第五工序S9的Cl2气体用于第三工序S5,将第五工序S9的Zn用于第四工序S7。
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公开(公告)号:CN104411635A
公开(公告)日:2015-03-11
申请号:CN201380032500.7
申请日:2013-05-22
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: C01B33/021 , C01B31/02 , C01B31/36 , C25B1/26 , C25C3/34
CPC classification number: C01B33/033 , C01B32/00 , C01B32/05 , C01B33/021
Abstract: 本发明提供能够由稻壳制造金属硅及多孔碳的制造方法。金属硅及多孔碳的制造方法具备:第一工序S1,通过稻壳M1的加热处理而生成含有SiO2和C的稻壳炭M2;第二工序S4,使稻壳炭M4曝露于加热后的第一不活泼气体G2或还原性气体中的至少任意一种气体中而生成SiC;第三工序S5,使SiC曝露于含有Cl2气体的加热气氛中而生成SiCl4和多孔碳P1;第四工序S7,通过使SiCl4与Zn反应而生成金属硅P2和ZnCl2;以及第五工序S9,对ZnCl2进行电解而生成Zn和Cl2气体。将第五工序S9的Cl2气体用于第三工序S5,将第五工序S9的Zn用于第四工序S7。
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