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公开(公告)号：CN1208813C
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：CN01804737.8
申请日：2001-12-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/6708
Abstract: 本发明的目的在于提供适用于Al腐蚀、可以将Al层的边缘面形成为适合下一层的层积的平缓的倾斜面的传送式基板处理装置。为了实现该目的，在从多个喷射喷嘴(34a)向基板(100)的整个表面供给处理液的喷淋单元(34)的下游侧，设置一级或多级缝隙喷嘴(35)，向基板表面的宽度方向整个区域膜状地供给处理液。通过使用缝隙喷嘴(35)的化学刮刀处理，实现在基板(100)的表面上较薄地载置处理液的涂浆的状态。
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公开(公告)号：CN100358115C
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN200510070914.6
申请日：2001-12-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/302 , B08B3/02 , G02F1/13
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 本发明涉及摇动喷淋型传送式基板处理装置，其目的在于高效率地除去随着对基板表面的处理液的供给而在其表面上产生的气泡，同时消除在大型基板中成为问题的宽度方向上的处理速率的不均等。为了实现这些目的，使对以水平状态沿水平方向传送的基板(100)的整个表面供给处理液的多个喷射喷嘴(34a)朝向基板(100)的行进方向向两侧同步摇动。交替强制地形成从基板(100)的一侧部向另一侧部的液体流动和从另一侧部向一侧部的液体流动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1684235A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200510070914.6
申请日：2001-12-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/302 , B08B3/02 , G02F1/13
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 本发明涉及摇动喷淋型传送式基板处理装置，其目的在于高效率地除去随着对基板表面的处理液的供给而在其表面上产生的气泡，同时消除在大型基板中成为问题的宽度方向上的处理速率的不均等。为了实现这些目的，使对以水平状态沿水平方向传送的基板(100)的整个表面供给处理液的多个喷射喷嘴(34a)朝向基板(100)的行进方向向两侧同步摇动。交替强制地形成从基板(100)的一侧部向另一侧部的液体流动和从另一侧部向一侧部的液体流动。
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公开(公告)号：CN1398425A
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：CN01804737.8
申请日：2001-12-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/6708
Abstract: 本发明的目的在于提供适用于Al腐蚀、可以将Al层的边缘面形成为适合下一层的层积的平缓的倾斜面的传送式基板处理装置。为了实现该目的，在从多个喷射喷嘴(34a)向基板(100)的整个表面供给处理液的喷淋单元(34)的下游侧，设置一级或多级缝隙喷嘴(35)，向基板表面的宽度方向整个区域膜状地供给处理液。通过使用缝隙喷嘴(35)的化学刮刀处理，实现在基板(100)的表面上较薄地载置处理液的涂浆的状态。
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公开(公告)号：CN1224083C
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN01804736.X
申请日：2001-12-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 本发明涉及摇动喷淋型传送式基板处理装置，其目的在于高效率地除去随着对基板表面的处理液的供给而在其表面上产生的气泡，同时消除在大型基板中成为问题的宽度方向上的处理速率的不均等。为了实现这些目的，使对以水平状态沿水平方向传送的基板(100)的整个表面供给处理液的多个喷射喷嘴(34a)朝向基板(100)的行进方向向两侧同步摇动。交替强制地形成从基板(100)的一侧部向另一侧部的液体流动和从另一侧部向一侧部的液体流动。
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公开(公告)号：CN1398428A
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：CN01804684.3
申请日：2001-12-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/68 , B65G49/06 , H01L21/306 , B08B13/00
CPC classification number: H01L21/67075 , B65G49/067 , B65G2249/02
Abstract: 本发明涉及倾斜式除液装置，其目的在于提供在通过基板(10)的倾斜，从基板上排除处理液的倾斜式除液装置中，即使在处理液的粘度高的情况下，也不增大基板(10)的倾斜角度，就能够从基板上高效率地排除处理液的装置。为了实现该目的，在使传送滚轮(41)上的基板(10)向传送方向侧方倾斜的除液装置主体(42)的一侧部上，设置除液促进机构(43)。除液促进机构(43)有在基板(10)的传送方向上以规定间隔排列的多个接触部件(43a)，在基板(10)以规定角度向侧方倾斜时，通过使所述接触部件(43a)接触基板(10)的倾斜方向下游侧的侧缘部上积存的处理液，从侧缘部除去处理液。
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公开(公告)号：CN1398424A
公开(公告)日：2003-02-19
申请号：CN01804736.X
申请日：2001-12-07
Applicant: 住友精密工业株式会社
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 本发明涉及摇动喷淋型传送式基板处理装置，其目的在于高效率地除去随着对基板表面的处理液的供给而在其表面上产生的气泡，同时消除在大型基板中成为问题的宽度方向上的处理速率的不均等。为了实现这些目的，使对以水平状态沿水平方向传送的基板(100)的整个表面供给处理液的多个喷射喷嘴(34a)朝向基板(100)的行进方向向两侧同步摇动。交替强制地形成从基板(100)的一侧部向另一侧部的液体流动和从另一侧部向一侧部的液体流动。
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