公开(公告)号：CN105451897A

公开(公告)日：2016-03-30

申请号：CN201480036121.X

申请日：2014-06-20

Applicant: 住友重机械工业株式会社 ,  名幸电子有限公司

Inventor： 冈本裕司 ,  黑须满帆

IPC: B05D3/06 ,  B05C5/00 ,  B05C9/06 ,  B05C9/10 ,  B05C9/12 ,  B05D1/26 ,  B05D7/24 ,  H05K3/28

CPC classification number: H05K3/3452 ,  H05K3/28 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/1476

Abstract: 本发明提供一种薄膜形成方法以及薄膜形成装置。沿基板(10)表面的应形成薄膜图案的预定区域(11)的边缘(12)形成脊状的阻挡结构(14)。形成阻挡结构(14)之后，使光固化性的液态的薄膜材料液滴化并着落于预定区域(11)内，然后对着落于预定区域(11)的薄膜材料照射临时固化用光以使其临时固化，从而形成膜要件(15A)。将光固化性的液态的薄膜材料涂布于膜要件(15A)之上而形成液态膜(16)。对液态膜(16)以及膜要件(15A)照射光强度比临时固化用光的光强度更强的正式固化用光，以使液态膜(16)固化，并且提高膜要件(16)的固化度。

公开(公告)号：CN105451897B

公开(公告)日：2018-08-14

申请号：CN201480036121.X

申请日：2014-06-20

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 冈本裕司 ,  黑须满帆

IPC: B05D3/06 ,  B05C5/00 ,  B05C9/06 ,  B05C9/10 ,  B05C9/12 ,  B05D1/26 ,  B05D7/24 ,  H05K3/28

CPC classification number: H05K3/3452 ,  H05K3/28 ,  H05K2203/013 ,  H05K2203/1476

Abstract: 本发明提供一种薄膜形成方法以及薄膜形成装置。沿基板(10)表面的应形成薄膜图案的预定区域(11)的边缘(12)形成脊状的阻挡结构(14)。形成阻挡结构(14)之后，使光固化性的液态的薄膜材料液滴化并着落于预定区域(11)内，然后对着落于预定区域(11)的薄膜材料照射临时固化用光以使其临时固化，从而形成膜要件(15A)。将光固化性的液态的薄膜材料涂布于膜要件(15A)之上而形成液态膜(16)。对液态膜(16)以及膜要件(15A)照射光强度比临时固化用光的光强度更强的正式固化用光，以使液态膜(16)固化，并且提高膜要件(16)的固化度。