公开(公告)号：CN109923248A

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201780067855.8

申请日：2017-09-19

Applicant: 信越半导体株式会社

Inventor： 添田聪 ,  中川和也

IPC: C30B29/06 ,  C30B15/04

Abstract: 本发明提供一种单晶提拉装置。掺杂剂供给单元具备：设置于腔室的外部并收纳掺杂剂且将其投入到腔室内的投入装置、设置于腔室的内部且对从投入装置投入的掺杂剂进行保持并使其升华的升华室、向该升华室导入载气的载气导入装置、以及将在升华室中升华了的掺杂剂与载气一起向原料熔液面吹送的吹送装置，吹送装置具备与升华室连结的管和多个吹送口，使升华了的掺杂剂经由管从多个吹送口向原料熔液面分散地吹送。由此，能够提供一种单晶提拉装置，当掺杂升华性掺杂剂时，能够以尽量短的时间高效地掺杂掺杂剂。

公开(公告)号：CN111712673A

公开(公告)日：2020-09-25

申请号：CN201980012995.4

申请日：2019-02-13

Applicant: 信越半导体株式会社

Inventor： 中川和也

IPC: F24F7/06 ,  C30B29/06 ,  E04H5/02

Abstract: 本发明是一种多晶硅填充作业用的清洁室，其用于向石英坩埚内填充多晶硅，清洁室被顶板面、侧面、以及底面密闭，并具有：出入口，其配置于侧面；风扇/过滤器装置，其配置于顶板面；以及排气口，其配置于侧面的下部，清洁室具有控制机构，控制机构进行控制，使得通过利用风扇/过滤器装置向清洁室内部送入洁净的空气，从排气口排出清洁室内的空气并使其返回风扇/过滤器装置，从而使清洁室内部的空气循环，并使开放出入口时的清洁室内部的压力相对于清洁室外部的压力而言为同压或者负压。由此，提供一种在制造单晶硅时，避免因为在向原料容器内填充多晶硅的工序中产生的灰尘而污染周围的清洁室。

公开(公告)号：CN119212824A

公开(公告)日：2024-12-27

申请号：CN202380040847.X

申请日：2023-04-04

Applicant: 信越半导体株式会社

Inventor： 中川和也

IPC: B24B5/04 ,  B24B41/06 ,  B24B49/12 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明是一种圆筒磨削机，具有：第一检测部、第二检测部，其以非接触方式检测晶棒的一端、另一端与主轴、副轴的接近；以及驱动机构，其能够变更调整副轴侧的第二支承单元的移动速度，在晶棒的一端与副轴的接触支承中，驱动机构调整为移动速度B比移动速度A低速，其中，移动速度B是从由第二检测部检测到一端与副轴的接近直到接触支承为止之间的第二支承单元的移动速度，移动速度A是直到检测到接近为止的移动速度，并且在晶棒的另一端与主轴的接触支承中，驱动机构调整为移动速度D比移动速度C低速，其中，移动速度D是从由第一检测部检测到另一端与主轴的接近直到接触支承为止之间的移动速度，移动速度C是直到检测到接近为止的移动速度。由此，提供如下的圆筒磨削机：在装载工序中，能够抑制晶棒的端部的破损、支承单元的机械位置偏移的产生，能够缩短工序所需的时间，对于检测晶棒与主轴等的位置关系的部位能够减轻维护的需求。