基板上の液体成分の測定方法および基板処理装置
    2.
    发明专利
    基板上の液体成分の測定方法および基板処理装置 有权
    基板上液体组分的测量方法和基板处理装置

    公开(公告)号:JP2016070669A

    公开(公告)日:2016-05-09

    申请号:JP2014196397

    申请日:2014-09-26

    Abstract: 【課題】基板を処理しながら、基板上に存在する成分の量をその場で測定可能な基板上の液体成分の測定方法を提供する。 【解決手段】回転する基板W上に処理液Sを供給し、前記処理液の供給中および/または供給停止後に、前記基板上面に形成された前記処理液の液膜Fに赤外線IRを照射して反射光を受光し、所定波長における吸光度から前記処理液膜に含まれる1以上の成分の存在量を測定する、基板上の液体成分の測定方法である。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:为了提供在能够在现场测量的基板上的液体成分的测量方法,在处理基板时存在于基板上的部件的量。解决方案:在液体组分的测量方法 将基板,处理液体S供给到旋转基板W上,并且在处理液体供给期间和/或供给停止后,将红外线IR照射到形成在基板上表面上的处理液体的液膜F, 接收反射光,并且从规定波长的吸光度测定处理液膜中所含的一种或多种成分的当量。选择的图:图1

    基板上の液体成分の測定方法および基板処理装置

    公开(公告)号:JP2019168460A

    公开(公告)日:2019-10-03

    申请号:JP2019083838

    申请日:2019-04-25

    Abstract: 【課題】基板を処理しながら、基板上に存在する成分の量をその場で測定可能な基板上の液体成分の測定方法を提供する。 【解決手段】回転する基板W上に処理液Sを供給し、前記処理液の供給中および/または供給停止後に、前記基板上面に形成された前記処理液の液膜Fに赤外線IRを照射して反射光を受光し、所定波長における吸光度から前記処理液膜に含まれる1以上の成分の存在量を測定する、基板上の液体成分の測定方法である。 【選択図】図1

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