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公开(公告)号：CN101261331A
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200810023911.0
申请日：2008-04-21
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明涉及一种基于纳米压印技术制备的，用于深紫外线、软X射线和物质粒子衍射的高密度、自支撑透射金属光栅，金属光栅的线密度＞2000条/毫米，光栅无衬底支撑，光栅金属线条间是镂空的，金属线条由足够强度、较大周期(1～40微米)的金属网络结构支撑，构成光栅的金属材料是金。其制作步骤：1)纳米压印技术、反应离子刻蚀工艺、电化学镀膜工艺在衬底上制备高密度金属光栅；2)光刻工艺和电化学镀膜工艺制备大周期金属网络支撑结构；3)化学刻蚀方法除去衬底使光栅镂空；4)聚焦离子束技术对透射光栅在制作过程中产生的局部缺陷进行修复。本发明以纳米压印技术制备光栅结构，制作方法便捷可靠、大幅度降低了制作成本。
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公开(公告)号：CN101477304B
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN200810195525.X
申请日：2008-11-04
Applicant: 南京大学
CPC classification number: B29C33/405 , B05D1/005 , B29C33/40 , B29C59/022 , B29K2083/00 , B29K2883/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/76 , G03F7/0002 , G03F7/20 , Y10T156/1023
Abstract: 在复杂形状表面复制高分辨率纳米结构的压印方法，纳米结构模板通过压力压入加热熔融的高分子薄膜或紫外光固化材料，固化材料定型后移去模板，然后将纳米结构转移至基片上；压印模板采用柔性纳米压印模板，柔性纳米压印模板采用双层复合结构，该双层复合模板上层为柔性的高分子弹性体衬底，杨氏模量范围在1～15N/mm2，厚度可调，在0.1毫米至2毫米之间；下层为刚性的光固化高分子纳米压印图案层，杨氏模量在20N/mm2以上，厚度可调，在50纳米至500纳米之间。
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公开(公告)号：CN101261331B
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200810023911.0
申请日：2008-04-21
Applicant: 南京大学
Abstract: 本发明涉及一种基于纳米压印技术制备的，用于深紫外线、软X射线和物质粒子衍射的高密度、自支撑透射金属光栅，金属光栅的线密度＞2000条/毫米，光栅无衬底支撑，光栅金属线条间是镂空的，金属线条由足够强度、较大周期(1～40微米)的金属网络结构支撑，构成光栅的金属材料是金。其制作步骤：1)纳米压印技术、反应离子刻蚀工艺、电化学镀膜工艺在衬底上制备高密度金属光栅；2)光刻工艺和电化学镀膜工艺制备大周期金属网络支撑结构；3)化学刻蚀方法除去衬底使光栅镂空；4)聚焦离子束技术对透射光栅在制作过程中产生的局部缺陷进行修复。本发明以纳米压印技术制备光栅结构，制作方法便捷可靠、大幅度降低了制作成本。
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公开(公告)号：CN101477304A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200810195525.X
申请日：2008-11-04
Applicant: 南京大学
CPC classification number: B29C33/405 , B05D1/005 , B29C33/40 , B29C59/022 , B29K2083/00 , B29K2883/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/76 , G03F7/0002 , G03F7/20 , Y10T156/1023
Abstract: 在复杂形状表面复制高分辨率纳米结构的压印方法，纳米结构模板通过压力压入加热熔融的高分子薄膜或紫外光固化材料，固化材料定型后移去模板，然后将纳米结构转移至基片上；压印模板采用柔性纳米压印模板，柔性纳米压印模板采用双层复合结构，该双层复合模板上层为柔性的高分子弹性体衬底，杨氏模量范围在1～15N/mm2，厚度可调，在0.1毫米至2毫米之间；下层为刚性的光固化高分子纳米压印图案层，杨氏模量在20N/mm2以上，厚度可调，在50纳米至500纳米之间。
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