公开(公告)号：CN110673353B

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN201911104030.6

申请日：2019-11-13

Applicant: 南京大学

Inventor： 张伟华 ,  王中

IPC: G02B27/58 ,  G02B1/00 ,  G02B3/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供了一种基于高折射率材料的超分辨聚焦装置。该装置包括光源、聚焦元件和类透镜聚焦结构，光源发出的光束先经过聚焦元件初步聚焦为聚焦光或者平行光后，再入射到类透镜聚焦结构进一步聚焦，在类透镜聚焦结构的聚焦面处形成亚波长尺寸的聚焦光斑；类透镜聚焦结构的材料采用折射率大于3的材料。本发明的装置可以将聚焦光斑缩小至λ/10，利用径向偏振光照明方式可以进一步提高聚焦光斑的焦深，同时聚焦光斑尺寸可以保持λ/8，且焦深可达到λ/5，有望用于纳米尺度超分辨光刻技术、成像以及数据存储等领域。

公开(公告)号：CN110673353A

公开(公告)日：2020-01-10

申请号：CN201911104030.6

申请日：2019-11-13

Applicant: 南京大学

Inventor： 张伟华 ,  王中

IPC: G02B27/58 ,  G02B1/00 ,  G02B3/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供了一种基于高折射率材料的超分辨聚焦装置。该装置包括光源、聚焦元件和类透镜聚焦结构，光源发出的光束先经过聚焦元件初步聚焦为聚焦光或者平行光后，再入射到类透镜聚焦结构进一步聚焦，在类透镜聚焦结构的聚焦面处形成亚波长尺寸的聚焦光斑；类透镜聚焦结构的材料采用折射率大于3的材料。本发明的装置可以将聚焦光斑缩小至λ/10，利用径向偏振光照明方式可以进一步提高聚焦光斑的焦深，同时聚焦光斑尺寸可以保持λ/8，且焦深可达到λ/5，有望用于纳米尺度超分辨光刻技术、成像以及数据存储等领域。