光电子器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN110945412A

    公开(公告)日:2020-03-31

    申请号:CN201880038141.9

    申请日:2018-06-07

    Abstract: 本发明提供一种光电子器件及其制造方法。所述器件包括:设置在衬底之上的层,所述层在其中具有第一腔,所述腔至少部分地由所述腔与绝缘衬里之间的倾斜界面限定,所述界面相对于所述衬底以大于0°且小于或等于90°的角度设置;以及提供或形成波导的一部分的再生长半导体材料,所述再生长半导体材料至少部分地设置在所述第一腔中,并且包括所述再生长半导体材料与所述绝缘衬里之间的倾斜界面,所述界面相对于所述衬底以大于0°且小于或等于90°的角度设置。

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