公开(公告)号：TWI282837B

公开(公告)日：2007-06-21

申请号：TW090112480

申请日：2001-05-24

Applicant: 南沃爾科技公司 SOUTHWALL TECHNOLOGIES, INC.

Inventor： 佛洛伊德‧E‧伍達德 FLOYD EUGENE WOODARD ,  戴義生 YISHENG DAI ,  李察‧P‧辛碩克 RICHARD P. SHIMSHOCK

IPC: F21V ,  G02B

CPC classification number: C03C17/3435 ,  G02B1/111

Abstract: 一種可遮陽、隔熱、降低眩光、及抗反射的塗層，其係由在基板上之雙層堆疊所形成，其中第一層係由氮化鈦所形成，及第二層係由具高折射率之介電材料所形成。第一層係吸收層，及介電層具有在1.73至2.6之範圍內的折射率。在較佳具體例中，介電層為氮化矽。亦於較佳具體例中，將一薄層的黏著劑底漆設置於基板與多用途窗塗層之間，同時將潤滑層形成於介電層上。

Abstract in simplified Chinese: 一种可遮阳、隔热、降低眩光、及抗反射的涂层，其系由在基板上之双层堆栈所形成，其中第一层系由氮化钛所形成，及第二层系由具高折射率之介电材料所形成。第一层系吸收层，及介电层具有在1.73至2.6之范围内的折射率。在较佳具体例中，介电层为氮化硅。亦于较佳具体例中，将一薄层的黏着剂底漆设置于基板与多用途窗涂层之间，同时将润滑层形成于介电层上。