公开(公告)号：CN101312749A

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN200680043940.2

申请日：2006-09-15

Applicant: 卡伯特微电子公司

Inventor： 海因茨·巴斯塔 ,  斯坦利·莱西亚克

IPC: A61L2/08 ,  A23L3/26 ,  C02F1/30 ,  C08F2/54 ,  H01J35/06 ,  G21K5/10

CPC classification number: C08F2/54 ,  A23L3/263 ,  A61L2/08 ,  A61L2/082 ,  C02F1/30 ,  C08K3/04 ,  H01J35/04 ,  H01J35/065 ,  H01J35/12 ,  H01J35/16 ,  H01J2235/068 ,  H01J2235/087 ,  H01J2235/163

Abstract: 本发明涉及一种新的x射线处理系统，其利用引导至目标区(829)中的一个或多个大面积平板x射线辐射源(821，823，825，827)。以来自该一个或多个平板源的x射线辐射(831，833，835，837)来照射该目标区内的目标物，从而降低该目标物中的污染物存在的生物效应。该平板源包含电子源、电子加速器及电子目标介质。该电子源可经由场发射或热离子发射来发射电子。该x射线源可以透射、反射或组合的透射/反射模式来操作。在本发明的系统中使用大面积平板x射线源允许降低安装及操作成本以及提高效率。