公开(公告)号：CN101836165A

公开(公告)日：2010-09-15

申请号：CN200880113387.4

申请日：2008-10-11

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： 汉斯-于尔根·曼 ,  威廉·乌尔里克 ,  斯蒂芬·马伦德 ,  哈特穆特·恩基希

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G02B5/0891 ,  G02B13/143 ,  G02B17/06 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70233

Abstract: 成像光学系统(7)具有多个镜(M1至M6)。这些镜将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)。在成像光学系统(7)中，镜(M1至M6)的反射表面上的成像光(15)的最大入射角和成像系统(7)的像方数值孔径的比小于33.8°。这产生为镜的反射涂层提供好的条件的成像光学系统，利用该成像光学系统，当成像光通过该成像光学系统时，尤其甚至在小于10nm的EUV范围内的波长，对于成像光仍能够获得低的反射损失。