公开(公告)号：CN101636696A

公开(公告)日：2010-01-27

申请号：CN200880004238.4

申请日：2008-02-06

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： 斯蒂芬·泽尔特 ,  关彦彬 ,  安德拉斯·G·梅杰 ,  曼弗雷德·莫尔 ,  约翰尼斯·艾森门格 ,  达米安·菲奥尔卡 ,  简·霍恩 ,  马库斯·德冈瑟 ,  弗洛里安·巴赫 ,  迈克尔·帕特拉 ,  约翰尼斯·万格勒 ,  迈克尔·莱

IPC: G03F7/20 ,  G02B26/08

CPC classification number: G01M11/005 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/7085

Abstract: 本发明涉及一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统(12)，包括光瞳面和由优选地可单独控制、用于光瞳面可变地照明的射束偏转元件(28)组成的基本上平面状的布置。可以根据施加在射束偏转元件(28)上的控制信号，通过每个射束偏转元件(28)使得入射到它上的投射光束(32)产生偏转。测量照明装置(54、56、58、60；88；90；98)将与投射光束(32)无关的测量光束(36)被引导到射束偏转元件(28)上。检测装置检测在射束偏转元件(28)上偏转后的测量光束(38)。评估单元根据检测装置提供的测试信号确定投射光束(32)的偏转。