公开(公告)号：CN1620731A

公开(公告)日：2005-05-25

申请号：CN02828229.9

申请日：2002-12-17

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： W·哈梅尔 ,  J·菲舍尔 ,  K·-E·奥贝勒 ,  E·默茨 ,  R·罗尔 ,  K·里夫 ,  S·舍恩加特 ,  M·诺伊迈尔 ,  B·特罗斯巴赫 ,  T·拉赛尔 ,  U·韦伯 ,  M·米尔贝耶 ,  H·霍尔德雷尔 ,  A·科尔 ,  J·韦伯 ,  J·利佩尔特

IPC: H01L41/09 ,  G02B7/02 ,  G02B7/18 ,  G02B27/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G03F7/70825

Abstract: 披露的是一种用于微刻的投影曝光设备(1)的成像装置(7)，其包括至少一个光学元件(10、33、34)和至少一个操纵装置(9、36、41)，该操纵装置设置有线性驱动器(11)，用于操纵光学元件(10、33、34)的位置。该线性驱动器(11)包括驱动的部分(14)和不驱动的部分(15)，它们沿着轴线(17)朝着彼此可移动。这两个部分(14、15)至少临时地经由沿着轴线(17)可操作的功能元件(18)，以及经由在一个方向上可操作的功能元件(19)来至少近似平行于移动轴线(17)来相互连接。

公开(公告)号：CN101308333A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200810125368.5

申请日：2002-12-17

Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司

Inventor： W·哈梅尔 ,  J·菲舍尔 ,  K·-E·奥贝勒 ,  E·默茨 ,  R·罗尔 ,  K·里夫 ,  S·舍恩加特 ,  M·诺伊迈尔 ,  B·特罗斯巴赫 ,  T·拉赛尔 ,  U·韦伯 ,  M·米尔贝耶 ,  H·霍尔德雷尔 ,  A·科尔 ,  J·韦伯 ,  J·利佩尔特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G03F7/70825

Abstract: 披露的是一种用于微刻的投影曝光设备(1)的成像装置(7)，其包括至少一个光学元件(10、33、34)和至少一个操纵装置(9、36、41)，该操纵装置设置有线性驱动器(11)，用于操纵光学元件(10、33、34)的位置。该线性驱动器(11)包括驱动的部分(14)和不驱动的部分(15)，它们沿着轴线(17)朝着彼此可移动。这两个部分(14、15)至少临时地经由沿着轴线(17)可操作的功能元件(18)，以及经由在一个方向上可操作的功能元件(19)来至少近似平行于移动轴线(17)来相互连接。