-
公开(公告)号：CN1910522A
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN200580002241.9
申请日：2005-01-14
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G02B5/3083 , G02B1/08 , G02B5/3025 , G02B5/3075 , G02B27/286 , G02F1/0136 , G02F1/0147 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/70566
Abstract: 由旋光晶体材料组成的偏振调制光学元件(1)具有厚度分布，其中正如在光轴方向上所测量的，厚度在光学元件的面积上变化。偏振调制光学元件(1)具有使第一线性偏振光线的振荡平面和第二线性偏振光线的振荡平面分别依照第一旋转角和第二旋转角被旋转的作用，其中第一旋转角和第二旋转角彼此不同。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1910522B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200580002241.9
申请日：2005-01-14
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G02B5/3083 , G02B1/08 , G02B5/3025 , G02B5/3075 , G02B27/286 , G02F1/0136 , G02F1/0147 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/70566
Abstract: 由旋光晶体材料组成的偏振调制光学元件(1)具有厚度分布，其中正如在光轴方向上所测量的，厚度在光学元件的面积上变化。偏振调制光学元件(1)具有使第一线性偏振光线的振荡平面和第二线性偏振光线的振荡平面分别依照第一旋转角和第二旋转角被旋转的作用，其中第一旋转角和第二旋转角彼此不同。
-
公开(公告)号：CN101799587A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010155335.2
申请日：2005-01-14
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G02B5/3083 , G02B1/08 , G02B5/3025 , G02B5/3075 , G02B27/286 , G02F1/0136 , G02F1/0147 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/70566
Abstract: 光学系统、投影系统及微结构半导体部件的制造方法。该光学系统包含光轴或由传过所述光学系统的光束的方向给定的优选方向，所述光学系统包含由坐标系统的坐标描述的偏振调制光学元件，其中所述坐标系统的一个优选坐标平行于所述光轴或平行于所述优选方向，所述偏振调制光学元件包含旋光材料和有效光学厚度的分布，其中所述有效光学厚度至少作为与所述坐标系统的所述优选坐标不同的一个坐标的函数而变化。
-
公开(公告)号：CN101726863A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910253785.2
申请日：2005-01-14
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G02B5/3083 , G02B1/08 , G02B5/3025 , G02B5/3075 , G02B27/286 , G02F1/0136 , G02F1/0147 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/70566
Abstract: 由旋光晶体材料组成的偏振调制光学元件(1)具有厚度分布，其中正如在光轴方向上所测量的，厚度在光学元件的面积上变化。偏振调制光学元件(1)具有使第一线性偏振光线的振荡平面和第二线性偏振光线的振荡平面分别依照第一旋转角和第二旋转角被旋转的作用，其中第一旋转角和第二旋转角彼此不同。
-
公开(公告)号：CN101799637A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010155325.9
申请日：2005-01-14
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G02B5/3083 , G02B1/08 , G02B5/3025 , G02B5/3075 , G02B27/286 , G02F1/0136 , G02F1/0147 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/70566
Abstract: 本发明提供一种照明光学装置、显微光刻投射系统及装置制造方法。该照明光学装置包括：偏振调制光学元件，其由具有旋光性的光学材料制成，且其具有周向变化的厚度；其中所述照明光学装置是用于显微光刻投射系统的照明系统，并被构造以使在使用所述显微光刻投射系统期间，所述照明系统沿着从所述显微光刻投射系统的光源单元到掩模的路径引导光，其中所述偏振调制光学元件位于所述光源单元与所述掩模之间的路径上，且所述偏振调制光学元件被定向在光路上使得入射到所述偏振调制光学元件的不同区域上的光穿过所述光学材料的厚度不同。
-
公开(公告)号：CN101793993A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN201010155323.X
申请日：2005-01-14
Applicant: 卡尔蔡司SMT股份公司
CPC classification number: G02B5/3083 , G02B1/08 , G02B5/3025 , G02B5/3075 , G02B27/286 , G02F1/0136 , G02F1/0147 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/70566
Abstract: 光学元件、光学布置及系统。该光学元件包括偏振调制光学元件，包含具有光轴的旋光晶体，其中所述偏振调制光学元件具有如在所述光轴方向上测量的变化的厚度分布，其中所述偏振调制光学元件具有基本取向为所述旋光晶体的光轴方向的元件轴，并且其中与所述元件轴有关的所述厚度分布具有只取决于方位角θ的变化，所述方位角θ根据垂直于所述元件轴并与所述元件轴相交的参考轴来测量。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.029 seconds)
